JPS5865757A - メチン染料 - Google Patents
メチン染料Info
- Publication number
- JPS5865757A JPS5865757A JP56162972A JP16297281A JPS5865757A JP S5865757 A JPS5865757 A JP S5865757A JP 56162972 A JP56162972 A JP 56162972A JP 16297281 A JP16297281 A JP 16297281A JP S5865757 A JPS5865757 A JP S5865757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- dye
- alkyl
- substd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なメチン染料、特にピラゾロピリジン核を
有するメチン染料に関する。
有するメチン染料に関する。
従来ピラゾリンー!−オン核を有する水溶性染料は、そ
のすぐれた吸収特性、写真乳剤に対する適合性、亜硫a
l塩による脱色性などによって、写真感光材料に広く用
いられてきた。すなわち、フィルタ一層、ハレーション
防止層や乳剤層中に添加するための染料として広く用い
られた。この種染料については例えば米l3il特許λ
、λ744 、7Fλ号、同−、jコア、7113号、
同3,4コア。
のすぐれた吸収特性、写真乳剤に対する適合性、亜硫a
l塩による脱色性などによって、写真感光材料に広く用
いられてきた。すなわち、フィルタ一層、ハレーション
防止層や乳剤層中に添加するための染料として広く用い
られた。この種染料については例えば米l3il特許λ
、λ744 、7Fλ号、同−、jコア、7113号、
同3,4コア。
531号、同3.6参7.−10号、同J、Itj、I
/7号などが知られている。
/7号などが知られている。
しかしピラゾロン核を有する染料は、メチン鎖を長くし
ても吸収波長が限られ、長波長光を吸収する染料は鰻液
中に3いて安定でなく、そのために精製も1麹であった
。
ても吸収波長が限られ、長波長光を吸収する染料は鰻液
中に3いて安定でなく、そのために精製も1麹であった
。
本発明の目的は第一に、ピラゾリン−!−オン核を有す
るオキソノール染料、へきオキソノール染料及びメロシ
アニン染料においてそれぞれ達することのできなかった
よ°うな吸収波長を有する染料を提供することである。
るオキソノール染料、へきオキソノール染料及びメロシ
アニン染料においてそれぞれ達することのできなかった
よ°うな吸収波長を有する染料を提供することである。
本発明の目的は第二に長波長の吸収をもち、しかも溶液
中で安定な染料を提供することである。
中で安定な染料を提供することである。
本発明の目的は第三に、亜硫酸塩會含む写真処理浴中で
容易にかつ不可逆的に脱色し、ハロゲン化錯写真乳剤の
特性に望ましくない瓢感やカブリを与えることなく、ハ
ロゲン化銀感光材料に有用な染料を提供することである
。
容易にかつ不可逆的に脱色し、ハロゲン化錯写真乳剤の
特性に望ましくない瓢感やカブリを与えることなく、ハ
ロゲン化銀感光材料に有用な染料を提供することである
。
本発明のメチン染料は次の一般式(5)で示きれる。
ここでr’t2 、am及びR4は、同一で41なっテ
モよく、各々炭素数itまでのアルキル基(無置換のも
ののほか、置換されたものも包含する。
モよく、各々炭素数itまでのアルキル基(無置換のも
ののほか、置換されたものも包含する。
タトえばスルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基。
アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アシル基、アシロキシ基、ビニル基などで
置換されてもよいン、単環もしくは二環のアリール基(
置換アリール基をも包含し。
ロゲン原子、アシル基、アシロキシ基、ビニル基などで
置換されてもよいン、単環もしくは二環のアリール基(
置換アリール基をも包含し。
たとえばスルホ基、カルボキシ基、アルキル基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、アミノ基などで置換されてもよい)、炭素数
7〜10のアシロキシ基(アリール部分が前記アリール
基と同様の置換基を有してもよい)、または!〜を員の
へテロ環残基(例えはチアゾール系、オキサゾール系、
セレナゾール糸、ピリジン系など)を示す、R意は水素
原子をめられすこともできる。
キシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、アミノ基などで置換されてもよい)、炭素数
7〜10のアシロキシ基(アリール部分が前記アリール
基と同様の置換基を有してもよい)、または!〜を員の
へテロ環残基(例えはチアゾール系、オキサゾール系、
セレナゾール糸、ピリジン系など)を示す、R意は水素
原子をめられすこともできる。
)41はR2と同様の置換基、すなわちアルキル基、ア
リール基、アラルキル橋も゛しくはヘテロ埠残、4をめ
られすは炉、カルボキン基、アルキル部の炭素数が/〜
itのアルコキシカルボニル基。
リール基、アラルキル橋も゛しくはヘテロ埠残、4をめ
られすは炉、カルボキン基、アルキル部の炭素数が/〜
itのアルコキシカルボニル基。
アルコキシカルボニル基(アリール部が置換逼れてもよ
い)またはアミノ基(置換されたものも含む)t−めら
れす。
い)またはアミノ基(置換されたものも含む)t−めら
れす。
Yl及びY2は同じでも異なってもよく、各々水素原子
、アルキル基(炭票数/−参)、ヒドロキ7基、スルホ
基、アルコキシTitC炭素数/〜l)またはアきノ基
(置換されてもよい)をあられす。
、アルキル基(炭票数/−参)、ヒドロキ7基、スルホ
基、アルコキシTitC炭素数/〜l)またはアきノ基
(置換されてもよい)をあられす。
L、Ll及びR2は各々メチン基(置換メチン基を包含
する)を示す。pは/またはコを示す。
する)を示す。pは/またはコを示す。
ht 、R2、Ra又はル4で表わされるアルキル基の
具体例は%塊を含んでもよい炭素数/〜llの無置換ア
ルキル基、たとえばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、を−ブチル晶、オクチル基、ヘプタデシル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基;またはアルキ
ル基部分の炭素数が/〜乙の置換アルキル基、たとえば
スルホア”’Fl’基(7’tと、tijコースルホエ
チル基、J−スルホプロピル基、3−スルホブチル基s
”−スルホブチル基)、カルボキシアルキル基(たとえ
ばカルボキシメチル基1.2−カルボキシエチル基。
具体例は%塊を含んでもよい炭素数/〜llの無置換ア
ルキル基、たとえばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、を−ブチル晶、オクチル基、ヘプタデシル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基;またはアルキ
ル基部分の炭素数が/〜乙の置換アルキル基、たとえば
スルホア”’Fl’基(7’tと、tijコースルホエ
チル基、J−スルホプロピル基、3−スルホブチル基s
”−スルホブチル基)、カルボキシアルキル基(たとえ
ばカルボキシメチル基1.2−カルボキシエチル基。
参−カルボキシブチル基)、ハロアルキル基(たとえば
λ−クロロエチル基、クロロメチル基、コープロモエチ
ル基)、シアノアルキル基(たとえばコーシアノエチル
基)s ヒドロキシアルキル基(たとえばコーヒドロキ
シエチル基)、ジヒドロキシアルキル基(たとえばコツ
3−ジヒドロキシプロピル基)、ハロヒドロキシアルキ
ル基(たと工ばノークロロ−3−ヒドロキシプ冒ビル基
)。
λ−クロロエチル基、クロロメチル基、コープロモエチ
ル基)、シアノアルキル基(たとえばコーシアノエチル
基)s ヒドロキシアルキル基(たとえばコーヒドロキ
シエチル基)、ジヒドロキシアルキル基(たとえばコツ
3−ジヒドロキシプロピル基)、ハロヒドロキシアルキ
ル基(たと工ばノークロロ−3−ヒドロキシプ冒ビル基
)。
炭素数l〜lコのアルコキシ基から成るアルコ中ジアル
キル基(たとえばコーメトキシエチル基)モジくは同じ
くアルコキシカルボニルアルキル基(たとえにエトキシ
カルボニルメチル基)もしくハrr51じ〈アルコキク
カルボニルオキシアルキル基(たとえばコーエトキシカ
ルボニルオキシエチル&)、炭素数λ〜乙のアルキルカ
ルボニルMt44するアシルアルキル基(たとえばアセ
チルメチル基)もしくは同じくアシロキシアルキル基(
たとえばアセトキシエチル基)、アミノ置換アルキル基
(アミノ基はさらに置換されて本よく、ジアルキルアン
ノアルキル基、N−丁ルキル−アニリノプルキル基、ア
セチルアミノアルキル基、炭無数/ S−jのアルキル
基部分をもつアルキルスルホニルアミノアルキル基など
をも含む)、アルキル基部分の炭素数がl〜tのアルキ
ルチオアルキル基やアルキルスルホニルオキシアル中ル
基(たとえばコーメチルチオエチル基、コーメテルスル
ホニルオキシエチル基)、フェノキシアルキル基(フェ
ニル基がさらに置換されてもよい)などである。
キル基(たとえばコーメトキシエチル基)モジくは同じ
くアルコキシカルボニルアルキル基(たとえにエトキシ
カルボニルメチル基)もしくハrr51じ〈アルコキク
カルボニルオキシアルキル基(たとえばコーエトキシカ
ルボニルオキシエチル&)、炭素数λ〜乙のアルキルカ
ルボニルMt44するアシルアルキル基(たとえばアセ
チルメチル基)もしくは同じくアシロキシアルキル基(
たとえばアセトキシエチル基)、アミノ置換アルキル基
(アミノ基はさらに置換されて本よく、ジアルキルアン
ノアルキル基、N−丁ルキル−アニリノプルキル基、ア
セチルアミノアルキル基、炭無数/ S−jのアルキル
基部分をもつアルキルスルホニルアミノアルキル基など
をも含む)、アルキル基部分の炭素数がl〜tのアルキ
ルチオアルキル基やアルキルスルホニルオキシアル中ル
基(たとえばコーメチルチオエチル基、コーメテルスル
ホニルオキシエチル基)、フェノキシアルキル基(フェ
ニル基がさらに置換されてもよい)などである。
tt、+、it2.its又はR4で示されるアラルキ
ル基はベンゼン環を鳴し、ベンゼン環はさらにtt1換
されて本よく1例えばベンジル基%7エネチル基、p−
メトキシベンジル基、p−スルホベンジル基。
ル基はベンゼン環を鳴し、ベンゼン環はさらにtt1換
されて本よく1例えばベンジル基%7エネチル基、p−
メトキシベンジル基、p−スルホベンジル基。
p−スルホフェニルエチルasp−1チルフェニルエチ
ル基)などである。
ル基)などである。
ル1.几21に1及びH4で表わされるアリール基の具
体例は、無置換のアリール基(たとえばフェニル基、α
−ナフチル基、β−す7チル基)もしくは置換アリール
基、たとえば炭素数/〜μのアルキル基かアルコキシ基
、ヒドロキシ永、カルボキシ基、スルホ基、ハロゲン肺
子(たとえばTAxtp子など)などで置換されたフェ
ニル基である。
体例は、無置換のアリール基(たとえばフェニル基、α
−ナフチル基、β−す7チル基)もしくは置換アリール
基、たとえば炭素数/〜μのアルキル基かアルコキシ基
、ヒドロキシ永、カルボキシ基、スルホ基、ハロゲン肺
子(たとえばTAxtp子など)などで置換されたフェ
ニル基である。
Rx、Rz、ha及びR4で表わされるヘテロ環基の具
体例は、ピリジル基〔弘−ピリジル基。
体例は、ピリジル基〔弘−ピリジル基。
λ−ピリジル基h’−スルホーコーピリジル基。
≠−メチルーコービリジル基ナト)、キノリニル基〔λ
−キノリニル基、≠−中ノリニル基なト〕。
−キノリニル基、≠−中ノリニル基なト〕。
ベンズオキサシリル基〔ペンズオΦサゾリル基。
6−スルホペンズオキサゾリル基、j−メチルニベンズ
オキサゾリル基など〕、チアゾリル基〔具体的にH+−
メナルーj−エトキシカルボニルチアゾリル基など〕、
ベンゾチアゾリル基〔6−スルホベンゾチアゾリル基、
コーペンゾチアゾリル基、6−スルホ−7−メチA−ベ
ンゾチアノリル基など〕などである。
オキサゾリル基など〕、チアゾリル基〔具体的にH+−
メナルーj−エトキシカルボニルチアゾリル基など〕、
ベンゾチアゾリル基〔6−スルホベンゾチアゾリル基、
コーペンゾチアゾリル基、6−スルホ−7−メチA−ベ
ンゾチアノリル基など〕などである。
R1としては、西独特許第コ参31111号に記載のル
で表わされる置換基も用い得る。
で表わされる置換基も用い得る。
1′t2としては米国特許纂J、j参参、3−!号のピ
ラゾロン係の1位の置換基、米国籍計M ’ 1t/J
、j弘を号に記載のピラゾロ791位の置羨基、米国特
許第J、It!、I/7号に記載のピラゾロン俵/位の
置換基及び特開昭10−23λ−1号にに、載のピラゾ
ロン核1位の置換基も用い優る。
ラゾロン係の1位の置換基、米国籍計M ’ 1t/J
、j弘を号に記載のピラゾロ791位の置羨基、米国特
許第J、It!、I/7号に記載のピラゾロン俵/位の
置換基及び特開昭10−23λ−1号にに、載のピラゾ
ロン核1位の置換基も用い優る。
R1として好ましい置換基は炭素数/−4の無置侠アル
キル基、スルホアル中ル基(たとえは−一スルホエチル
基、3−スルホプロピル基)、 合計炭素数3〜乙のア
ルコキシ力ルホニルアルキル基(たとえはエトキシカル
ボニルメチル基)%ハロアルキル基(たとえはクロロメ
チル基%−−クロロエナル基)、ペンシルMh 7W$
テA4b p−スルホベンジル基、フェニル基、ナフチ
ル基。
キル基、スルホアル中ル基(たとえは−一スルホエチル
基、3−スルホプロピル基)、 合計炭素数3〜乙のア
ルコキシ力ルホニルアルキル基(たとえはエトキシカル
ボニルメチル基)%ハロアルキル基(たとえはクロロメ
チル基%−−クロロエナル基)、ペンシルMh 7W$
テA4b p−スルホベンジル基、フェニル基、ナフチ
ル基。
スルホttmされたフェニル基(例えば3−スルホフェ
ニル基、Jt!−ジスルホフェール基、≠−クロルー3
−スルホフェニルi、4−メトキク−j−スルyjtフ
ェニル基表ど)、カルホキシ基1合II丁炭素数−〜j
のアルコキシカルボニル基(7?、、!:えはエトキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基ン、無置換アンノ
基または置換アミノ基1例えばアル・キルアミノ基〔メ
チルアi)、エチルアミノ、ブチルアミノ、−一ヒドロ
キシエチルアiノ。
ニル基、Jt!−ジスルホフェール基、≠−クロルー3
−スルホフェニルi、4−メトキク−j−スルyjtフ
ェニル基表ど)、カルホキシ基1合II丁炭素数−〜j
のアルコキシカルボニル基(7?、、!:えはエトキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基ン、無置換アンノ
基または置換アミノ基1例えばアル・キルアミノ基〔メ
チルアi)、エチルアミノ、ブチルアミノ、−一ヒドロ
キシエチルアiノ。
−−クロロエチルアミノ、−一スルホエチルアξノ、3
−スルホ−/ロビルアミノ、ジメチルアミノなど〕、ア
リールアミノ基〔アニリノ基なト〕。
−スルホ−/ロビルアミノ、ジメチルアミノなど〕、ア
リールアミノ基〔アニリノ基なト〕。
アシルアミノ基〔アセトアミド、プロピオンアミド、ペ
ンズアiド、メトキシベンズアミドなトハカルバモイル
基〔カルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、フェニルカルバモイルなど〕もしくはウレイド
基〔ウレイド、メチルウレイド、エチルウレイド、フェ
ニルウレイドなど〕である。
ンズアiド、メトキシベンズアミドなトハカルバモイル
基〔カルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、フェニルカルバモイルなど〕もしくはウレイド
基〔ウレイド、メチルウレイド、エチルウレイド、フェ
ニルウレイドなど〕である。
H2として好ましい置換基は炭素数/−1のアルキル基
、炭素数/〜乙のスルホアルキル基1合計炭素数−〜j
のカルボキシアルキル基、エチル* ル基(Nえハヘン
ジル基s p−スルホベンジル基)、アリール基(?l
lえばフェニル基、α−す7チル晶、β−す7チル基)
、スルホ置換アリール基(例えばダースルホ7工二ル基
、コ、!−ジスルホフェニル1317−ジスルホ7エー
ル基すど)またはハロゲンtIL候アリール基(2例え
ば−9j−ジクロロフェニル基、J、$、4−)ジクロ
ロフェニル基)である。
、炭素数/〜乙のスルホアルキル基1合計炭素数−〜j
のカルボキシアルキル基、エチル* ル基(Nえハヘン
ジル基s p−スルホベンジル基)、アリール基(?l
lえばフェニル基、α−す7チル晶、β−す7チル基)
、スルホ置換アリール基(例えばダースルホ7工二ル基
、コ、!−ジスルホフェニル1317−ジスルホ7エー
ル基すど)またはハロゲンtIL候アリール基(2例え
ば−9j−ジクロロフェニル基、J、$、4−)ジクロ
ロフェニル基)である。
R3又はR4として好ましい置換基は水素原子;炭素数
l〜/lの無置換アルキル基Lメチル基、x −7−t
v 、1%、プロピルtsst−ブチル基、ドテシル基
、ヘプタデクル基など〕もしくは炭素数/−Aのアルキ
ル部から成る置換アルキル基1例えはスルホアルキル基
〔具体的にはコースルホエチル基。
l〜/lの無置換アルキル基Lメチル基、x −7−t
v 、1%、プロピルtsst−ブチル基、ドテシル基
、ヘプタデクル基など〕もしくは炭素数/−Aのアルキ
ル部から成る置換アルキル基1例えはスルホアルキル基
〔具体的にはコースルホエチル基。
3−スルホプロピル基、4I−スルホブチル基などハカ
ルホキシアルキル基〔−一カルボキシエチル基。
ルホキシアルキル基〔−一カルボキシエチル基。
3−カルボキシアルキル基、参−力ルメキシプナル基な
ど〕、ヒドロキシアルキル基〔−一ヒドロキシエチル基
%参−ヒドロキシブチル基など」、ハロゲン化アルキル
基〔コークロロエテル基s ’−クロロプロビル基、コ
ープロムエチル、J−7’ロムプロピル基なト〕、シア
ノアルキル基〔コーシアノエチル基、J−シアノプロピ
ル基など〕。
ど〕、ヒドロキシアルキル基〔−一ヒドロキシエチル基
%参−ヒドロキシブチル基など」、ハロゲン化アルキル
基〔コークロロエテル基s ’−クロロプロビル基、コ
ープロムエチル、J−7’ロムプロピル基なト〕、シア
ノアルキル基〔コーシアノエチル基、J−シアノプロピ
ル基など〕。
スルホニル了ミノアルキル基(例えばメチルスルホニル
アミノエチル基)1合計炭素数コルlのアルコキシアル
キル基(,2−メトキ7エチル基、り7’)キシブチル
基など〕、合計炭素数3〜IOアシロキシアル中ル基〔
コーアセトキシエチル基。
アミノエチル基)1合計炭素数コルlのアルコキシアル
キル基(,2−メトキ7エチル基、り7’)キシブチル
基など〕、合計炭素数3〜IOアシロキシアル中ル基〔
コーアセトキシエチル基。
3−アセトキシプロピル基%μmブチリルオキシブチル
基など〕1合計炭素数3〜tのアルコキシカルボニルア
ルキル基〔エトキシカルボニルメチル基h−2−メトキ
シカルボニ′ルエチル基% 弘−エトキシカルボニルメ
チル基など〕、炭素数コ〜ぶのアルケニル基〔アリル基
、/−プロペニル基。
基など〕1合計炭素数3〜tのアルコキシカルボニルア
ルキル基〔エトキシカルボニルメチル基h−2−メトキ
シカルボニ′ルエチル基% 弘−エトキシカルボニルメ
チル基など〕、炭素数コ〜ぶのアルケニル基〔アリル基
、/−プロペニル基。
−一フテニル基など〕、無置換アラルキル基〔ベンジル
基、フェニルエチル基など〕もしくは置換アラルキル基
〔ターメトキシベンジル基、グースルホベンジル基、参
−スルホフェニルエチル基すど〕など;無置換アリール
基〔フェニル基、ナフチル基なと〕もしくは置換アリー
ル基〔ダーメトΦジフェニル基、弘−クロ四フェニル基
、参−スルフ、オフエ二ル基など〕である。
基、フェニルエチル基など〕もしくは置換アラルキル基
〔ターメトキシベンジル基、グースルホベンジル基、参
−スルホフェニルエチル基すど〕など;無置換アリール
基〔フェニル基、ナフチル基なと〕もしくは置換アリー
ル基〔ダーメトΦジフェニル基、弘−クロ四フェニル基
、参−スルフ、オフエ二ル基など〕である。
Y1又Hy、1として好ましい置換基は、水嵩原子、炭
素数/〜参のアルキル基〔具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル°基、ブチル基なと〕。
素数/〜参のアルキル基〔具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル°基、ブチル基なと〕。
ヒドロキシ基、炭Xa/〜参のアルコキシ基〔具体的に
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基。
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基。
ブトキシ基など〕、スルホ基、無置換アミノ基もしくは
置換アミノ基〔例えはア七ドアξド基、プロピオ/アミ
ド基、ベンズア建ド着の如きアジルアi)基など〕など
である。
置換アミノ基〔例えはア七ドアξド基、プロピオ/アミ
ド基、ベンズア建ド着の如きアジルアi)基など〕など
である。
L 、 L l及びR2で示されるメチン基は、無置換
メチン基が好ましいがI L# L 1及びR2のいず
れかがメチル基、フェニル基又は塩素原子で置換されて
もよい。
メチン基が好ましいがI L# L 1及びR2のいず
れかがメチル基、フェニル基又は塩素原子で置換されて
もよい。
前記スルホ基は酸の形でも塩の形でもよく、塩としては
アルカリ会鵬〔具体的にはNa、になど〕。
アルカリ会鵬〔具体的にはNa、になど〕。
アルカリ土類金属〔具体的にはCaなど〕、アンモニウ
ム、有機アミン〔具体的にはジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジメナルアニリン、ピリジン、ピペリジンな
ど〕などがあげられる。
ム、有機アミン〔具体的にはジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジメナルアニリン、ピリジン、ピペリジンな
ど〕などがあげられる。
上記一般式囚で示される代表的な染料としては次の第1
表に示す如きものがある。しかし本発明の染料はこれら
に限定されるものではない。
表に示す如きものがある。しかし本発明の染料はこれら
に限定されるものではない。
本発明の染料は一般式(11のケト・メチレン化合物を
用い−CI!!造することができる。
用い−CI!!造することができる。
+1J
Hlとに2は一般式囚に2けると同義をあられす。
一般式劫で示される代表的な化合物とじ又は次の如きt
のがある。しかし本発明に使用される化合物はこれらに
限定されるものではない。
のがある。しかし本発明に使用される化合物はこれらに
限定されるものではない。
439−
Herichte 23巻/104774(/り60
年)などの方法に従って合成することができる。
年)などの方法に従って合成することができる。
一般式(口で示される。それ以外の化合物は、昭和j1
年3り/j日付特許出動「ジオキソピラゾロピリジ/化
合物の製造法」(出願人富士写真フィルム株式会社)に
記載されている方法で合成することかできる。すなわち
、下記一般式(Do)で表わされる化合物と一般式(D
I)で表わされる化合物とを酸性粂件下に縮合させるこ
とKよって合成される。
年3り/j日付特許出動「ジオキソピラゾロピリジ/化
合物の製造法」(出願人富士写真フィルム株式会社)に
記載されている方法で合成することかできる。すなわち
、下記一般式(Do)で表わされる化合物と一般式(D
I)で表わされる化合物とを酸性粂件下に縮合させるこ
とKよって合成される。
R1−C0−CH2−C0(JR’3 (Do)3
式(Do )及び(Dl)において、)tlはアルキル
基(炭素数7〜/Iで、置換されたもの%言む)、アリ
ール基(単環またはコ塊で%[換されたものもきむ)、
アルコキシカルホニル基(底本1&/−/8のアルコキ
シ基から成る)またはカルボキシ基をめられす。
基(炭素数7〜/Iで、置換されたもの%言む)、アリ
ール基(単環またはコ塊で%[換されたものもきむ)、
アルコキシカルホニル基(底本1&/−/8のアルコキ
シ基から成る)またはカルボキシ基をめられす。
R2はアルキル基(炭素数/−/r−t@、置換された
ものも含む)、アリール基(単環または一2壕で、置換
されたものも含む)または!〜6員のへテロ環基t−め
られす。
ものも含む)、アリール基(単環または一2壕で、置換
されたものも含む)または!〜6員のへテロ環基t−め
られす。
B/、はアルキル基(炭素数l〜/lで、置換アルキル
基も包含する)またはアリール基(単環もしくは一環で
、置換アリール基も包含する)會表わす。
基も包含する)またはアリール基(単環もしくは一環で
、置換アリール基も包含する)會表わす。
一般式CD)の化合物は、一般式(L)o)の化合物I
当量に対し、一般式(1)t)の化合物の//J〜コ轟
量管混合し、aI性溶媒中で%あるいは酸性雰囲気中で
溶媒と共に又は溶媒なしにコ!0〜コJO”C,好まし
くは70−/70@Cに加熱することによって製造され
る。#性浩媒としては氷酢4無水酢酸、シュー酸、ギ酸
、プロピオン#、。
当量に対し、一般式(1)t)の化合物の//J〜コ轟
量管混合し、aI性溶媒中で%あるいは酸性雰囲気中で
溶媒と共に又は溶媒なしにコ!0〜コJO”C,好まし
くは70−/70@Cに加熱することによって製造され
る。#性浩媒としては氷酢4無水酢酸、シュー酸、ギ酸
、プロピオン#、。
基鈑、臭化水素酸などを用いると有利である。
式(1)o )においてh R1はアリーロキシカルホ
ニル基またはア・ミノ基をあられすこともできる。
ニル基またはア・ミノ基をあられすこともできる。
一般式(A)で示されるアIJ 13テン染料は一般式
(11)で示合れるケト・メチレン化合物音下記の一般
式1) %式% で示されるアルデヒド化合物と縮合させて製造すること
ができる0式中sRa、Ri、Yx、Y2及びpは前記
と同じである。
(11)で示合れるケト・メチレン化合物音下記の一般
式1) %式% で示されるアルデヒド化合物と縮合させて製造すること
ができる0式中sRa、Ri、Yx、Y2及びpは前記
と同じである。
縮合反応は溶媒を用いても用いなくてもよいが。
一般式(Ll)で示されるケト・メチレン化合物音溶解
する性ii[を有する溶媒を用いて行うのが有利である
。Jl当な溶媒としては例えばアルコール類(例えばメ
タノール、エタノール、イソプロパツール、ローブタノ
ール、コーエチルヘキシルアルコール、n−ヘキシルア
ルコール、n−アミルアルコール、シクロヘキサノール
、フロピレンアルコールなど)エチレングリコールモノ
アルキルエーテル1illJ、tげエチレングリコール
七ツメチルエーテルなど)、アミド類(例えばアセトア
ミド、ジメチルホルムアミドなと)、アセトン、/、I
f−ジオキサン、ピリジン、r−ブチロラクトン。
する性ii[を有する溶媒を用いて行うのが有利である
。Jl当な溶媒としては例えばアルコール類(例えばメ
タノール、エタノール、イソプロパツール、ローブタノ
ール、コーエチルヘキシルアルコール、n−ヘキシルア
ルコール、n−アミルアルコール、シクロヘキサノール
、フロピレンアルコールなど)エチレングリコールモノ
アルキルエーテル1illJ、tげエチレングリコール
七ツメチルエーテルなど)、アミド類(例えばアセトア
ミド、ジメチルホルムアミドなと)、アセトン、/、I
f−ジオキサン、ピリジン、r−ブチロラクトン。
カルボンII類(例えばギ酸、蓚酸、酢酸など)tIh
けることができる。これらは単独でも混合して使用して
もよい。
けることができる。これらは単独でも混合して使用して
もよい。
縮合反応は触媒を用いても、用いなく”lよいが、W#
および/父は塩基を用いることに19反応を促進するこ
とができる。適当な酸は、酢鹸、蓚酸、ギW1.無水酢
酸、塩酸などである。適当な塩基ハ)リエナルアミン、
ジエタノールアξン、ピリジン、ピペリジン、N、N−
ジメチルアニリン、アンモニアガスなどである。
および/父は塩基を用いることに19反応を促進するこ
とができる。適当な酸は、酢鹸、蓚酸、ギW1.無水酢
酸、塩酸などである。適当な塩基ハ)リエナルアミン、
ジエタノールアξン、ピリジン、ピペリジン、N、N−
ジメチルアニリン、アンモニアガスなどである。
一般式(D)で示されるケト・メチレン化合物は式<E
>の化合物に対してる倍モルから74t4モルまで用い
ることができる。
>の化合物に対してる倍モルから74t4モルまで用い
ることができる。
反応は室温から使用する溶媒の沸点までの温度で行うこ
とができるが、好筐しくは70’C以上の温度で行うの
が有利である。
とができるが、好筐しくは70’C以上の温度で行うの
が有利である。
本開明によるピラゾロ〔3,≠−b〕ピリジン銹を令す
る染料は、下紐のような種々の特徴を有している。
る染料は、下紐のような種々の特徴を有している。
(υ きわめて吸光係数の高い染料である。
■ きわめて長波長に吸収を有する染料である。
■ 溶液中できわめて安定な染料である。
■ di憾酸塩の滴液中できわめて容易に、不可逆に脱
色する染料、である。
色する染料、である。
■ 4真用乳剤に対して実質的に不活性な染料である。
(9)水浴液及びゼラチン中できわめて中広な吸収t″
令する54ilI料である。
令する54ilI料である。
■については、これ1で数多くの特許で知られ念ピラゾ
リンー!−オン核會有する染料でぶj。
リンー!−オン核會有する染料でぶj。
nm以上の吸収極大波長有する実用できる染料を得るこ
とは内−でめったが1本発明により、tz。
とは内−でめったが1本発明により、tz。
nm以上の吸収極大、波長を有する実用的な染料ケ極め
て容易に得ることができる。
て容易に得ることができる。
又■については、ピラゾロンat有する染料で400n
mより長い吸収極大波長14つ染料はきわめて不安定で
あるが、本発明の染料はピラゾロン核の染料の波長より
さらに長波長に極大吸収を有しても、きわめて安定であ
る。
mより長い吸収極大波長14つ染料はきわめて不安定で
あるが、本発明の染料はピラゾロン核の染料の波長より
さらに長波長に極大吸収を有しても、きわめて安定であ
る。
■については、唾硫酸塩を含む写真処理液中できわめて
容易に脱色し、しかも偽色することがまつ九〈ないため
、環境汚染の心配がない。
容易に脱色し、しかも偽色することがまつ九〈ないため
、環境汚染の心配がない。
このように写真的に不活性で、分光吸収波長に%*があ
り、脱色性、安定性がすぐれている念め。
り、脱色性、安定性がすぐれている念め。
写真感光材料のフィルタ一層、ノ・レーションp止lf
M、及び写真乳剤層等に加えろ染料としてきわめて有用
である。
M、及び写真乳剤層等に加えろ染料としてきわめて有用
である。
本発明の染料の分光吸収をピラゾロン核を有する相轟す
る鵠造の公知の染料と比較すると、下紐の如くである。
る鵠造の公知の染料と比較すると、下紐の如くである。
(公知の染料)
○ベンジリデン
0aNm
lX
(公昶例8)
上記比較より明らかなように、オキソノール屋およびペ
ンジリーデン型染料では本発明の染料は。
ンジリーデン型染料では本発明の染料は。
上2ゾロン核kmする相当する公知の染料よシ。
1100n以上量波長儒に吸収t−有し、従来の技術か
らは予測し見ない結果を得た。
らは予測し見ない結果を得た。
以下に本発明の染料の製造及び使用について実施例を示
し、更に具体的外説明とする。
し、更に具体的外説明とする。
実施例 / (染料例−の合成)
≠−メチルーλ−(μ′−スルホフェニル)−ピラゾロ
(J、4’−b’)ピリジン3.6−ジオンのトリエチ
ルアミン¥Ik/j、jf、≠−(N−メチルーヘース
ルホエチル)アミノベンズアルデヒドナトリウム塩り、
09.γ−ブチロラクトン70峨の混合物の中にトリエ
チルアミンダgt加え。
(J、4’−b’)ピリジン3.6−ジオンのトリエチ
ルアミン¥Ik/j、jf、≠−(N−メチルーヘース
ルホエチル)アミノベンズアルデヒドナトリウム塩り、
09.γ−ブチロラクトン70峨の混合物の中にトリエ
チルアミンダgt加え。
約1分間攪拌する。つづいて木酢@Iff加えオイルバ
ス中、is分、約/10℃で加熱攪拌する。
ス中、is分、約/10℃で加熱攪拌する。
ついで曹つ化ナトリウム44.jp’l加え70分間攪
拌する。室温まで冷却後、析出した結晶を濾過し、つい
て約ioom*のメタノールで洗浄した。
拌する。室温まで冷却後、析出した結晶を濾過し、つい
て約ioom*のメタノールで洗浄した。
得られた結晶を乾燥することによシ目的とする暗亦色の
染料(融点j00@c)/41.7ft−得る。
染料(融点j00@c)/41.7ft−得る。
得られ友染料は水に溶解して紫赤色の浴液になった。こ
の滴液の吸収を分光光度計で測定したとこ実施例1と同
様力方法により製造された染料について、用いた溶媒と
その溶液での最大吸収波長およびゼラチン膜の色相を第
1表に示す。
の滴液の吸収を分光光度計で測定したとこ実施例1と同
様力方法により製造された染料について、用いた溶媒と
その溶液での最大吸収波長およびゼラチン膜の色相を第
1表に示す。
第7表
好ましい実施1IlIIRは次の通9でるる。
(1111+ L 1及びR2がメチン基でめる時の待
針請求範囲の染料。
針請求範囲の染料。
(2)R1がアルキル基(置換きれて本よい)。
アシルキル基(置換されてもよい)、アリール基(置換
されても工い)、カルボキシ基またはアルコキシカルホ
ニル基でめるときの%計請求範卸の染料。
されても工い)、カルボキシ基またはアルコキシカルホ
ニル基でめるときの%計請求範卸の染料。
(3)pがlである一般式囚の染料。
14) R2が水81子、アルキル基(置換されても
よい)、アラルキル基(置換されてもよい)まtはアリ
ール基(置換されてもよい)をあらゎす−施mA徐(2
)の染料。
よい)、アラルキル基(置換されてもよい)まtはアリ
ール基(置換されてもよい)をあらゎす−施mA徐(2
)の染料。
(slRs及びR4が各々アルキル基(置換されてもよ
い)である一般式(8)で示される実施態様(4)つ染
料。
い)である一般式(8)で示される実施態様(4)つ染
料。
(6)Yl及びYsが各々アルキル基またはアルコキシ
基であるときの実施態II(II)の染料。
基であるときの実施態II(II)の染料。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書(方
側 1.事件の表示 昭和56年特許願第162972号 2、発明の名称 メチン染料3、補正をする
者 4、補正命令の日付 昭和57年3月5日 5、補正の対象 願 書及び明細書 6、補正の内容
側 1.事件の表示 昭和56年特許願第162972号 2、発明の名称 メチン染料3、補正をする
者 4、補正命令の日付 昭和57年3月5日 5、補正の対象 願 書及び明細書 6、補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式図で示されるメチン染料。 〔式中、R1はアルキル基(置換されてもLい)、アラ
ルキル基(置換されてもよい)、アリール基(置換され
てもよい)、j−4負へテロ環残基、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基または
アミノ基(置換されてもよい)會表わす。 R2,R3及びR4Fis同一でも異なってもよン 〈各々アルキル基(置換されてもLい)、アラルキル基
(を換されても工い)、アリール基(置換されてもよい
)またはj−6員ヘテロ環残基をあられす。R2は水素
原子をあられすこともできる。 YlとY2は四−でも異なってもよく、各′々゛水素庫
子、アルキル基(置換されてもよい)、ヒドロキシ基、
アルコキシ基、アミノ基(置換されてもよい)又はスル
ホ基を表わす。L、Ll及びL!はメチン基(置換され
てもよい)を示す、/又はコを示す、〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56162972A JPS5865757A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | メチン染料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56162972A JPS5865757A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | メチン染料 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51052994A Division JPS5835544B2 (ja) | 1976-05-10 | 1976-05-10 | メチン染料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5865757A true JPS5865757A (ja) | 1983-04-19 |
Family
ID=15764773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56162972A Pending JPS5865757A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | メチン染料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5865757A (ja) |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP56162972A patent/JPS5865757A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1079292A (en) | O-nitro-o-azaarylidene photobleachable dyes and photographic elements utilizing them | |
JPS5964841A (ja) | 写真要素 | |
US3865817A (en) | Oxonol dyes and process for preparing oxonol dyes | |
EP0288076B1 (en) | Infrared filter dyes for photographic elements | |
JPS5835544B2 (ja) | メチン染料 | |
US2107379A (en) | Manufacture of carbocyanine dyes | |
US2622980A (en) | Photographic filter and antihalation layers containing 3-(benzylidene)-sulfo-oxindoles | |
EP0523465B1 (en) | Silver halide photographic elements | |
US5260179A (en) | Photographic elements containing imine dyes | |
US2525015A (en) | Methine dyestuffs | |
JP3590707B2 (ja) | スクアリリウム化合物、それの混合物、赤外線吸収組成物、ハロゲン化銀感光材料 | |
DE966046C (de) | Verfahren zur Herstellung von Sensibilisatoren | |
US3469985A (en) | Light-absorbing dyes derived from barbituric and 2 - thiobarbituric acid compounds useful for photography and their preparation | |
JPS5865757A (ja) | メチン染料 | |
US3152905A (en) | Sensitizing methine dyes and intermediates, process for preparing same and photographic element containing these dyes | |
DE69221578T2 (de) | Photographische Silberhalogenidelemente | |
US3723419A (en) | Preparation of formylmethylene compounds and corresponding photographic dyestuffs | |
JPH0442428B2 (ja) | ||
US2484503A (en) | Polymethin dyes and intermediates | |
US2066967A (en) | Dyes of the cyanine series | |
JPS5918692B2 (ja) | カンコウチヨクセツポジハロゲンカギンニユウザイ | |
US3196017A (en) | Sensitizing dyes for photographic silver halide emulsions | |
JPS60118749A (ja) | 光安定化シアニン色素およびその製造方法 | |
JPS5865756A (ja) | メチン染料 | |
JPH07102179A (ja) | オキソノール化合物 |