JPS586235A - ガス処理方法 - Google Patents
ガス処理方法Info
- Publication number
- JPS586235A JPS586235A JP56105278A JP10527881A JPS586235A JP S586235 A JPS586235 A JP S586235A JP 56105278 A JP56105278 A JP 56105278A JP 10527881 A JP10527881 A JP 10527881A JP S586235 A JPS586235 A JP S586235A
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- JP
- Japan
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- gas
- waste gases
- exhaust gas
- dust
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/005—Separating solid material from the gas/liquid stream
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は石炭焚ボイラ、重油焚ボイラ等ボイラー燃焼排
ガス中における有害酸性成分ガス、例えば窒素酸化物（
以下ＮＯｘという）等を含有する排カス、特に石炭焚ボ
イラのような粗粒で。
ガス中における有害酸性成分ガス、例えば窒素酸化物（
以下ＮＯｘという）等を含有する排カス、特に石炭焚ボ
イラのような粗粒で。
多量のタストを含む排ガスを処理するガス処理方法に関
する。
する。
近時大気汚染防止の必要性から各種排ガスに対する種々
の排煙脱硝プロセスが提供されているが、乾式法では、
板状、格子状、ハニカム状等の触媒の存在下でＮ Ｈ３
など還元剤を供給しＮＯｘを選択的に窒素に還元し無害
化する方法が有望な方法と考えられている。
の排煙脱硝プロセスが提供されているが、乾式法では、
板状、格子状、ハニカム状等の触媒の存在下でＮ Ｈ３
など還元剤を供給しＮＯｘを選択的に窒素に還元し無害
化する方法が有望な方法と考えられている。
通常排ガス中には相当量の煤塵が含まれているが特に前
記した石炭焚ボイラ排ガスはダスト濃度１５〜８０ｇ／
Ｎｎｆ、平均粒子径２０〜３０μ程度であるが９粒子径
は不同であり、５０〜１００μ以上という粗粒のフライ
アッシュが含まれている。このような排ガスの処理を行
なうｇ己 場合、前出の板状、格子状、ハ菫カム状の脱硝触媒のガ
ス入口通過孔端面部に摩耗が生じやすい。即ち触媒配置
に関しては、これら高濃度。
記した石炭焚ボイラ排ガスはダスト濃度１５〜８０ｇ／
Ｎｎｆ、平均粒子径２０〜３０μ程度であるが９粒子径
は不同であり、５０〜１００μ以上という粗粒のフライ
アッシュが含まれている。このような排ガスの処理を行
なうｇ己 場合、前出の板状、格子状、ハ菫カム状の脱硝触媒のガ
ス入口通過孔端面部に摩耗が生じやすい。即ち触媒配置
に関しては、これら高濃度。
粗粒のフライアッシュを対象とした場合ダストの付着、
堆積を考慮し大半が竪形配置になっているが、ガス流に
同伴するフライアッシュが触１ 媒端面部に衝突し、又触媒の内部の側面取も摩耗させな
がら下流に落下しでいく。さらにガス流れの乱れやフラ
イアッシュに粗粒子が多く存在するほどより摩耗は生じ
ゃすい。
堆積を考慮し大半が竪形配置になっているが、ガス流に
同伴するフライアッシュが触１ 媒端面部に衝突し、又触媒の内部の側面取も摩耗させな
がら下流に落下しでいく。さらにガス流れの乱れやフラ
イアッシュに粗粒子が多く存在するほどより摩耗は生じ
ゃすい。
そこでこの対策として排ガスを触媒層に導入するに先立
ってサイクロン、マルチサイクロン及び電気集塵器など
の集塵装置によって煤塵を除去する方法が考えられる。
ってサイクロン、マルチサイクロン及び電気集塵器など
の集塵装置によって煤塵を除去する方法が考えられる。
しかし脱硝装置反応条件の１つであるヘガス温度はａＯ
Ｏ〜４ｏｏｃ％であるため、排ガスが熱膨張で増大して
いることなどから、非常に大容量の集塵器が必要となり
、その装置は多大の設備費と用地を必要とする欠点があ
り実用性に乏しい。このような状況の中で最近では、ダ
ストあるいは排ガスを均一に分散させるために脱硝触媒
層入口部に整流板を設置する方法、あるいは板状触媒、
ハニカム、格子状触媒等ガス通過孔部の端面上に摩耗防
、止用保護具を設置する方法ｌさらには触媒自体硬度を
増す方法又は部分的に端面部のみをさらに強化する方法
等が提案されているが、これらの方法はある程度の触媒
の摩耗防止対策としての効果はあるものの摩耗を完全に
防止させるための有効な方法とは言えず、又、触媒硬度
を増したために逆に活性が低下するなど、数多くの問題
点がある。
Ｏ〜４ｏｏｃ％であるため、排ガスが熱膨張で増大して
いることなどから、非常に大容量の集塵器が必要となり
、その装置は多大の設備費と用地を必要とする欠点があ
り実用性に乏しい。このような状況の中で最近では、ダ
ストあるいは排ガスを均一に分散させるために脱硝触媒
層入口部に整流板を設置する方法、あるいは板状触媒、
ハニカム、格子状触媒等ガス通過孔部の端面上に摩耗防
、止用保護具を設置する方法ｌさらには触媒自体硬度を
増す方法又は部分的に端面部のみをさらに強化する方法
等が提案されているが、これらの方法はある程度の触媒
の摩耗防止対策としての効果はあるものの摩耗を完全に
防止させるための有効な方法とは言えず、又、触媒硬度
を増したために逆に活性が低下するなど、数多くの問題
点がある。
町
特に触媒摩耗に大きく起馬しているのは、ガス偏流並び
にガス流速の他に、ダスト粒子径の影響も大であり、第
１＠に示すように特に粗粒なダスト、例えば５０μ以上
の粒径の粗粒ダストが多く存在すればするほど触媒の摩
耗に与える影響は大きい。
にガス流速の他に、ダスト粒子径の影響も大であり、第
１＠に示すように特に粗粒なダスト、例えば５０μ以上
の粒径の粗粒ダストが多く存在すればするほど触媒の摩
耗に与える影響は大きい。
すなわち第１図は流速４８”Ｉｎ／８におけるダストの
粒径Ｄ（μｍ）と摩耗量ΔＥ ｆｇｌの関係を示し一σ たものであるが、第１図にポル如く粒径が７０μ以上に
なると摩耗は著しく促進し粒径７０ ｐ以上では摩耗量
は粒径の２．０〜２．８乗に比例し。
粒径Ｄ（μｍ）と摩耗量ΔＥ ｆｇｌの関係を示し一σ たものであるが、第１図にポル如く粒径が７０μ以上に
なると摩耗は著しく促進し粒径７０ ｐ以上では摩耗量
は粒径の２．０〜２．８乗に比例し。
それ以下では９粒径の０４７〜０９乗に比例しているこ
とがわかり、触媒の摩耗防止には粗粒子（７０μ以上）
を予め除去すれば非常に効果が大きいということが判る
。
とがわかり、触媒の摩耗防止には粗粒子（７０μ以上）
を予め除去すれば非常に効果が大きいということが判る
。
又、触媒の摩耗はダスト粒径に大きく起因するこきは第
２図からもわかる。すなわち、第２図はガス流速と粒子
径に伴なう摩耗量の関係を示したものであるが２例えば
ガス流速５０ ｍ／ｓにおける各粒子径に対する摩耗量
は第１表の通りであり、この結果からも粒子径が大きい
ほど摩耗量も増加していることが解る。
２図からもわかる。すなわち、第２図はガス流速と粒子
径に伴なう摩耗量の関係を示したものであるが２例えば
ガス流速５０ ｍ／ｓにおける各粒子径に対する摩耗量
は第１表の通りであり、この結果からも粒子径が大きい
ほど摩耗量も増加していることが解る。
第１表
そこで本発明は、集塵器等の特別な装置を用いることな
く排ｈス中の粗粒ダストを除去し。
く排ｈス中の粗粒ダストを除去し。
ガス処理装置内の触媒の摩耗を防止して、排ガスを効果
的に処理するガス処理方法を提供することを目的として
なされたものであり９本発明は、触媒層を具えたカス処
理装置の上流部の水平ダクトを介して、前記ガス処理装
置に排ガスを導入し、前記排ガス中の有害酸性成分ガス
を還元するガス処理方法において、前記水平ダクト域中
を５ｍ／ｓｅｃ 以下９ガス流速で前記排ガスを流通さ
せて、前記水平ダクト域底部からダストを抜き出した後
、前記排ガスを前記ガス処理装置内に導入させることを
特徴とするガス処理方法を提供するものである。
的に処理するガス処理方法を提供することを目的として
なされたものであり９本発明は、触媒層を具えたカス処
理装置の上流部の水平ダクトを介して、前記ガス処理装
置に排ガスを導入し、前記排ガス中の有害酸性成分ガス
を還元するガス処理方法において、前記水平ダクト域中
を５ｍ／ｓｅｃ 以下９ガス流速で前記排ガスを流通さ
せて、前記水平ダクト域底部からダストを抜き出した後
、前記排ガスを前記ガス処理装置内に導入させることを
特徴とするガス処理方法を提供するものである。
本発明によれば、水平ダクト内を流れる排ガスの流速を
５ｍ／８８ｃ以下とすることにより、排ガス中の粗粒ダ
スト、例えば７０μ以上の粒径のダストの大部分が水平
ダクトの底面に沈降しガス流により下流側へ流されるの
で、下流側にホッパ等を設けて底面に沿って流れる粗粒
ダストを捕集し、抜き出すことにより、排ガス中の粗粒
ダストが大容量の集塵器を設置することなく除去でき、
ガス処理装置内に入る排ガス中から粗粒ダストの大部分
が除去されているため、ガス処理装置内の触媒の摩耗を
防ぐことができ。
５ｍ／８８ｃ以下とすることにより、排ガス中の粗粒ダ
スト、例えば７０μ以上の粒径のダストの大部分が水平
ダクトの底面に沈降しガス流により下流側へ流されるの
で、下流側にホッパ等を設けて底面に沿って流れる粗粒
ダストを捕集し、抜き出すことにより、排ガス中の粗粒
ダストが大容量の集塵器を設置することなく除去でき、
ガス処理装置内に入る排ガス中から粗粒ダストの大部分
が除去されているため、ガス処理装置内の触媒の摩耗を
防ぐことができ。
安定したガス処理が行なえる。
次に本発明を第８図に示すｌ実施の態様例に基づいて具
体的に説明する。
体的に説明する。
なお９本態様例は、ガス処理として、酸性有害成分ガス
である窒素酸化物（以下ＮＯｘ という）を還元する
場合について説明するが、 ＮＯｘの処理以外にも適用
できるものである。
である窒素酸化物（以下ＮＯｘ という）を還元する
場合について説明するが、 ＮＯｘの処理以外にも適用
できるものである。
第８図において、上部から下部へ排ガスが流れる竪形の
脱硝装置本体（１１内部には、触媒が充填された触媒層
（２）が形成され、触媒層（２）の上部には、整流板（
８）が配置されている。脱硝装置本体（１１の上部入口
部には水平ダクト（４）が連結され。
脱硝装置本体（１１内部には、触媒が充填された触媒層
（２）が形成され、触媒層（２）の上部には、整流板（
８）が配置されている。脱硝装置本体（１１の上部入口
部には水平ダクト（４）が連結され。
水平タクト（４）の後流側の脱硝装置本体＋１１の入口
部近くの底面にホッパ（５）が設けられている。ホッパ
（５）の傾斜角は、ダストの付着、流動性を考慮して安
息角である４５０以上が望ましい。
部近くの底面にホッパ（５）が設けられている。ホッパ
（５）の傾斜角は、ダストの付着、流動性を考慮して安
息角である４５０以上が望ましい。
微粒、粗粒ダストを含む排ガスが水平ダクト（４）内を
脱硝装置本体（１）内に向って流れる。このとき排ガス
の流速は、ブ′ロアーの調整、あるいは、水平ダクト（
４）の幅、高さ等を水平ダクト（４）の上流側のダクト
のそれらより大きくするこき等により、 ５ｍ／ｓｅ
ｅ以下となるようにコントロールされる。
脱硝装置本体（１）内に向って流れる。このとき排ガス
の流速は、ブ′ロアーの調整、あるいは、水平ダクト（
４）の幅、高さ等を水平ダクト（４）の上流側のダクト
のそれらより大きくするこき等により、 ５ｍ／ｓｅ
ｅ以下となるようにコントロールされる。
水平ダクト（４）内を排ガスが５ｍ／ｓｅｅ以下で流通
する間に、排ガス中に浮遊しているダスト。
する間に、排ガス中に浮遊しているダスト。
特に７０μ以上の粗粒ダストの大部分が水平ダクト（４
）の底面に沈降し、排ガスの流れにより下流側へと押し
流され、ホッパ（５）により捕集されて、ダストは、水
平ダクト（４）外へ排出される。
）の底面に沈降し、排ガスの流れにより下流側へと押し
流され、ホッパ（５）により捕集されて、ダストは、水
平ダクト（４）外へ排出される。
粗粒ダストの大部分が除去された排ガスは、入口部から
脱硝装置本体（１）内に入り、まず整流板（８）で、排
ガス及び排ガス中の残存微粒タストが均一に分散され、
触媒層（２）に導かれる。触媒層（２）に導かれた排ガ
スは、ここで排ガス中の有害酸性成分ガスであるＮＯｘ
が還元され、その後。
脱硝装置本体（１）内に入り、まず整流板（８）で、排
ガス及び排ガス中の残存微粒タストが均一に分散され、
触媒層（２）に導かれる。触媒層（２）に導かれた排ガ
スは、ここで排ガス中の有害酸性成分ガスであるＮＯｘ
が還元され、その後。
下方の出口部より排出される。
水平ダクト（４）内を５ ｍ／ ｓ ｅ ｃ以下の流速
で排ガスを流通させると、第４図に示すように、水平ダ
クト内においてその下面に沈降するダストの堆積量は、
その大半がガス流速によって左右され流速が５ｍ／ｓｅ
ａ以下になるとダストの堆積量は増加し、流速が５ ｍ
／ ｓ ｅ ｃより大きくなると。
で排ガスを流通させると、第４図に示すように、水平ダ
クト内においてその下面に沈降するダストの堆積量は、
その大半がガス流速によって左右され流速が５ｍ／ｓｅ
ａ以下になるとダストの堆積量は増加し、流速が５ ｍ
／ ｓ ｅ ｃより大きくなると。
ダストはほとんど堆積しないことがわかり、ダストが有
効に除去されることがわかる。
効に除去されることがわかる。
従って、触媒摩耗に大きく起因している７０μ以りの粗
粒ダスト・をガス流速を５ ｍ ／ ｓ ｅ ｃ以下と
することにより簡易に排ガス中から除去し。
粒ダスト・をガス流速を５ ｍ ／ ｓ ｅ ｃ以下と
することにより簡易に排ガス中から除去し。
除去後の排ガスを脱硝装置本体■内に導くもので、従来
のように新たに触媒ガス入口部端面上に摩耗防止用保護
貝を設置したり、サイクロン。
のように新たに触媒ガス入口部端面上に摩耗防止用保護
貝を設置したり、サイクロン。
マルチサイクロンおよび電気集塵器等きいった犬がかり
な前処理装置を設置することなく触媒への摩耗を抑制す
ることが可能であり、長期連続運転下においても安定し
た脱硝性能が得られるものである。
な前処理装置を設置することなく触媒への摩耗を抑制す
ることが可能であり、長期連続運転下においても安定し
た脱硝性能が得られるものである。
第１図は、タスト粒子径と触媒の摩耗量の関係を示した
グラ乙第２図は、ガス流速と粒子径にともなう触媒の摩
耗量を示すグラフ。第８図は本発明の１実施の態様例を
示す図、第４図はガス流速とダスト堆積量を示すグラフ
である。 （１）・・・脱硝装置本体、（２）・・・触媒層、（８
）・・・整流板。 （４）・・・水平ダクト、（５）・・・ホッパ。 第１図 ダ°ストａ蛋径 Ｃ，ｂ） Ｄ ８２図 第３図 ′ｌＡ４国 力゛久！！ｉｔ屋 （Ｊ３〕 手続補正書（自発） 昭和５７年 ９月２ｔ１日 特許庁長官 殿 １、事件の表示 昭和５６年 特 許 願第 １０５２７８
号２発明の名称 ガス処理方法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二］目５１１１
号名 称（６２０）三菱重工業株式会社 ４代 理 人 特許請求の範囲を下記のとおり訂正します。 「触媒層を具えたガス処理装置の上流部の水平タクトを
介して、前記ガス処理装置に排ガスを導入し、前記排ガ
ス中の有害酸性成分ガスを還元するガス処理方法におい
て、前記水平タクト域中を５ ｍ ／ ｓｅｃ以下のガ
ス流速で前記排ガスを流通させて、前記水平ダクト域底
部からタニトな抜き出した後、前記排ガスを前記ガス処
理装置ｌ内に導入させることを特徴とするガス処理方法
。」
グラ乙第２図は、ガス流速と粒子径にともなう触媒の摩
耗量を示すグラフ。第８図は本発明の１実施の態様例を
示す図、第４図はガス流速とダスト堆積量を示すグラフ
である。 （１）・・・脱硝装置本体、（２）・・・触媒層、（８
）・・・整流板。 （４）・・・水平ダクト、（５）・・・ホッパ。 第１図 ダ°ストａ蛋径 Ｃ，ｂ） Ｄ ８２図 第３図 ′ｌＡ４国 力゛久！！ｉｔ屋 （Ｊ３〕 手続補正書（自発） 昭和５７年 ９月２ｔ１日 特許庁長官 殿 １、事件の表示 昭和５６年 特 許 願第 １０５２７８
号２発明の名称 ガス処理方法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二］目５１１１
号名 称（６２０）三菱重工業株式会社 ４代 理 人 特許請求の範囲を下記のとおり訂正します。 「触媒層を具えたガス処理装置の上流部の水平タクトを
介して、前記ガス処理装置に排ガスを導入し、前記排ガ
ス中の有害酸性成分ガスを還元するガス処理方法におい
て、前記水平タクト域中を５ ｍ ／ ｓｅｃ以下のガ
ス流速で前記排ガスを流通させて、前記水平ダクト域底
部からタニトな抜き出した後、前記排ガスを前記ガス処
理装置ｌ内に導入させることを特徴とするガス処理方法
。」
Claims (1)
- 触媒層を具えたガス処理装置の上流部の水平゛ダクトを
介して、前記ガス処理装置に排ガスを導入し、前記排カ
ス中の有害酸性成分ガスを還元するカス処理方法におい
て、前記水平ダクト域中を５ ｍ／ｓｅｅ以下のガス流
速で前記排ガスを流通させて、前記水平ダクト域底部か
らダストを抜き出した後、前記排ガスを前記ガス処理装
置内に導入させることを特徴とするガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105278A JPS586235A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105278A JPS586235A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586235A true JPS586235A (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=14403198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56105278A Pending JPS586235A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586235A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0474300U (ja) * | 1990-11-06 | 1992-06-29 | ||
| EP1334766A1 (en) * | 2002-02-08 | 2003-08-13 | Haldor Topsoe A/S | Reactor for catalytic treatment of a particle-containing gas |
-
1981
- 1981-07-06 JP JP56105278A patent/JPS586235A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0474300U (ja) * | 1990-11-06 | 1992-06-29 | ||
| EP1334766A1 (en) * | 2002-02-08 | 2003-08-13 | Haldor Topsoe A/S | Reactor for catalytic treatment of a particle-containing gas |
| US7138094B2 (en) | 2002-02-08 | 2006-11-21 | Haldor Topsoe A/S | Reactor for catalytic treatment of a particle-containing gas |
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