JP3305716B2

JP3305716B2 - 気体や液体から浮遊する微粒子を除去する方法および装置

Info

Publication number: JP3305716B2
Application number: JP51380093A
Authority: JP
Inventors: フランシスアエルデュリアン
Original assignee: IFP Energies Nouvelles IFPEN
Current assignee: IFP Energies Nouvelles IFPEN
Priority date: 1992-02-18
Filing date: 1993-02-18
Publication date: 2002-07-24
Anticipated expiration: 2017-07-24
Also published as: GB2264655B; JPH07505823A; GB9303272D0; EP0626880A1; CA2129966A1; DE69318396D1; DE69318396T2; CA2129966C; DK0626880T3; WO1993015822A1; EP0626880B1; GB9203437D0; GB2264655A

Description

【発明の詳細な説明】本発明の工業用の気体や液体から浮遊している極めて
微細な粒子を除去することに関する。

特に本発明は、気体や液体のような流体中で乱流状態
で分布している、塵、霧、煙霧、煙、有害ガス等のよう
な微粒子状の物質を、純粋に機械的な手段を使用する新
しい特別な方法で、乱流現象に伴う或る効果を有効に活
用することによって分離収集することを可能とする。

乱流の状態で乱流中に分布する微粒子がその乱流の大
荒れの渦と速度のふらつきとに従う傾向をもつことは流
体力学や、その関連分野の専門家の間では周知のことで
ある。このことは雪片やほこりの粒子が風に運ばれて、
大気の乱流の周りを渦巻くような大吹雪や土砂あらし等
に遭遇した専門家でない人々によっても屡々証言されて
いる経験である。このように乱流は、よく混ぜられた流
体の中に分布する微粒子を保有する。

特に約0.01から100ミクロンの大きさの範囲の非常に
微細な粒子を除去することは、これを効率よく行うこと
が困難で、費用のかかる作業である。従来からこの目的
に伝統的に使用されている装置には静電式沈澱器、種々
のフィルタおよび湿式洗浄器等がある。ガス洗浄器は工
業用ガスから有害なガスを除去するためにも使用され
る。サイクロン収じん器は約５ミクロン以上の大きさの
微粒子を除去するのに伝統的に使用されて来た。またこ
の動作範囲を約１ミクロンの微粒子の所まで拡げるため
に耐えざる努力がなされてきた。

現在では、微粒子を効率的に収集したり、同時に有害
ガスを除去するための、高価でない工業用ガス洗浄器は
存在していない。

本発明は、吸着剤や電気収じん等を必要としない新し
い特別の方法で、分布している微粒子を分離し、収集す
るために乱流の混合効果を活用するものである。

気体でも液体でも、分散浮遊している微粒子を含む流
体は、工業上の応用の場合、ダクトや処理プラントを通
過する際に乱流状態になっていることが多い。このよう
なダクトやプラントは金属か、時には他の堅い材質の堅
固な壁に囲まれている。乱流がそのようなダクトや処理
プラントの中を通過する際に、流体中に分布浮遊してい
る微粒子は、継続的に乱流の作用によって混合され、結
果として継続して新しい粒子が乱流によって堅固な壁の
極く近くに運ばれてくる。本発明の要諦は分布している
微粒子が乱流の混合作用によって絶えず平滑な表面に沿
って運ばれてくる時に、後述する新しいやり方でそれを
捕捉し、トラップして収集することにある。

周知のように乱流は機器の壁に近付くと徐々に消滅乃
至衰微する、すなわち壁の極く近傍、所謂「粘性副層」
では乱流はなくなる。充分の慣性力をもっている浮遊微
粒子が乱流の混合作用によってこの粘性副層に運ばれて
来ることは周知であるが、そこで、それを淀んだ浅い池
に投げ込まれた岩が底に沈むように捕捉できるのであ
る。従って、本発明は乱流混合によって流体の淀んだ乱
流のない層に運ばれてきた微粒子を、捕捉し、トラップ
し、収集するのであるが、その層とは堅固な壁の近傍の
粘性副層に対応する所ではなく、この目的のために特別
に作った所なのである。

本発明では、乱流のない淀んだ地帯は、流れをダクト
又はプラントの一部分の断面だけに制限し、残りの部分
では実質的に流体が流れないようにして、乱流から離れ
るに伴い乱流が次第に消滅乃至衰退するようにして形成
する。このような結果は非常に多くの異なる方法で達成
できるが、それらのすべては本発明の範囲に含まれるも
のと考えられる。何故ならばそれらすべては本発明の主
要部分を構成する同じ目的を得るためのものであるから
である。

本発明はガス流からその中を運ばれる塵、霧、煙や煙
霧、さらには有害ガス等を独特の効果的な方法で除去す
るものである。本発明では、非常に荒れた乱流となって
いるガス流をその流れに垂直な方向にせまい間隔で複数
の垂直収集プレートを配置し、その上方にガス流の流れ
る通路を有する室を流す。

微粒子は乱流の渦によって隣接する垂直収集プレート
の間の空隙の中に運ばれるが、そこには実質的なガスの
流れはなく、渦は衰退する。微粒子はトラップされ、慣
性力の衝撃とブラウンの拡散メカニズムによって固体表
面に沈澱させられる。沈澱物は重力の作用によって沈下
乃至流下させられるのに充分な程厚くなるに伴って、前
記室の底部に落下乃至沈澱する。その固体乃至流体沈澱
物は機器の底から除去する。

0.5ミクロン以下の大きさの超微細な粒子を除去する
ために、垂直収集プレートの間に約0.1ミクロン又はそ
れ以下の直径の繊維を約0.001から約0.1の体積率でゆる
くつめて、ブラウン拡散メカニズムによる収集に使える
固体表面積を非常に増大することができる。

従って、本発明では約0.01から約100ミクロンまでの
直径を有する非常に微細な塵や霧状の粒子をガス流から
使用中に継続的に除去して、収集することができる。更
に装置から上流のガス流の中に霧化した流体を微細な煙
霧状に噴射することによって、乱流に吸収されている有
害なガスを噴射した霧状粒子と一緒に垂直収集プレート
に衝突させて取除く。

詳しくいうと、本発明の主題となる事項は微粒子を含
むガス流から微粒子を除去する方法であって、次のステ
ップを含む：ａ）実質的なガスの流れは存在しないが前記ガス流と
は交流している、少くとも１つのガス停滞地帯の上に位
置する少くとも１つの流れの通路を通して、前記ガス流
を非常に乱した流れにして運ぶこと、ｂ）微粒子を浮遊させて運んでいる前記ガス流の乱流
の渦を前記淀んだガス停滞地帯の中に引き込み、衰退さ
せて、前記微粒子をできるだけ純粋に機械的な手段でト
ラップし、固体表面に沈澱させること、ｃ）前記微粒子の沈澱物を主として重力の作用で除去
落下させること、ｄ）前記落下した沈澱物を継続的にねじコンベアーに
よって、又は周期的にルーバーやその他前記機械的トラ
ップ手段の底に位置する適当な手段を開けることによっ
て除去すること、およびｅ）前記沈澱物をホッパーやその他の適当な手段の中
に放出すること。

前記ガス流の中の乱流はその流路の上流又はその中
に、一乃至複数の格子を挿入しておくことによって乱れ
を有利に増大できる。

その上、前記室の上流で噴霧器によって適当な液体又
はスラリー即ち懸濁液を微細な噴霧としてガス流の中に
噴射することもできる。この液体又はスラリーの噴霧は
ガス流の中を浮遊する微粒子や有害なガスを洗浄し、前
記垂直プレート上に沈澱させ、前記室の底部から放出す
る作用をもつ。

本出願の主題は微粒子を含むガス流のような流体から
微粒子を除去するための装置にも関するもので、 − 前記流体を非常に荒れた乱流として運ぶための少な
くとも１つの通路と、 − 該通路と連絡し、少くとも１つの淀んだ停滞地帯を
形成し、そこで前記微粒子をトラップするための複数の
垂直収集プレートと、を備える、少くとも１つの室を含むものである。

上記のように前記淀んだ地帯は約0.1から3mmの厚さ、
約３から10cmの高さをもち、互いに約0.5から5cmの間隔
をおいて複数の垂直なにプレートを、流れの通路の下に
平行に並べておくことによって形成される。従って前記
の流れの通路の底面は、これら垂直プレート群の上縁
と、それらの上縁の間の空隙とによって形成される形と
なる。前記流体の渦によってこのプレート群の間に運ば
れて来た粒子は、慣性の衝撃とブラウンの拡散運動の力
によって、該プレートの表面に沈積する。

前記垂直プレート群の各プレートの間の淀んだ地帯に
直径が約0.01から１ミクロンの繊維からなる適当なフィ
ルタ媒体をつめる方が効果のある場合がある。これは0.
001から0.1ミクロンのようなミクロン以下の超微粒子を
ブラウンの拡散運動によって、その上に沈積させる性能
がある。

本発明の１つの実施例では前記垂直プレート群も前記
流れの通路も、前記少くとも１つの通路の全長に亘って
それぞれ均一の高さをもっている。

別の実施例では、前記垂直プレートの高さが、前記通
路の上流側の端から約5cm乃至約30cmの距離に亘って、
約3cmから最大約10cm位まで徐々に増加していって、そ
の後は一定に保たれ、その結果通路の高さは始めは約8c
mで、それから最小約1cmの値まで漸減し、その後は一定
に保たれるようになっている。

前記垂直プレートの上の端の部分が前記ガスの流れと
反対の方向に折れ曲がっていたり、曲線を形成している
ことも本発明の範囲から逸脱するものではない。

前記の室と前記の通路とは水平面に対して平行でも、
約20度から60度傾斜していてもよい。

最後に２又はそれ以上の前記室を適当な距離を隔て
て、重なるような配置にしてもよい。この場合沈澱物は
ねじコンベアーによるか、前記室の間にあるパイプによ
って室から排出される。

前記のように複数の室が水平面に対して角度をもって
いる場合で、１つの室から排出された沈澱物がすぐ下に
ある室の上面の外側を下方に滑るなり、流れるなりする
ようになっている実施例もある。

本発明による装置の除去効率ηは次式で表わすことが
できる：ここでＬは通路の長さ、Ｓは通路の高さ、ｖは通路の中
のガスの速度、ｗは通路と淀んでいる地帯との間の境界
を形成する面を通る、塵等の実効流動速度である。ｗは
Ｌには無関係であるが、乱流の強さに依存し、ｖに直接
比較するよりもおそく、又、Ｓに逆比例するよりもずっ
とおそく増大する。更にｗは通路の幅、垂直収集プレー
トの間の間隙の大きさ、垂直収集プレートの高さ、通路
に入ってくるガスの初期条件、および微粒子の沈澱のた
めに使用できる単位体積当りの表面積などの、装置の外
の構造的特徴によっても影響をうける。典型的な例とし
て、約２ミクロンの中位の大きさの粒子の塵に対しては
ｗの値は1.8から3.4mの範囲のＬ、２又は3mのＳ、約30c
mの通路幅および24から57m/sの範囲のｖに対して40から
100cm/Sであった。

いくつかの実施例を以下に記述するが、これらは例と
して示すにすぎず、その他の実施例の可能性を除外する
ものではない。以下の記述において、参照番号は次のよ
うな付属図面に対するものである。

− 第１図は本発明の１つの実施例による単一通路によ
る乱流沈澱器の概観図、 − 第２図は本発明の１つの実施例におけるダクトの構
成を示す側面図、 − 第３図は本発明の別の実施例におけるダクトの構成
を示す側面図、 − 第４図は本発明の更に別の実施例におけるダクトの
構成を示す側面図である。

先ず第１図において、乱流沈澱器は室（10）と微粒子
を帯びたガスの入口（12）と、清浄化されたガス（典型
的には空気）の出口（14）とを含む。この実施例では入
口（12）と出口（14）とは一般的に水平軸上に配置され
ている。室（10）の中でガスは通路（16）を流れ、その
下には複数の垂直収集プレート（18）が並置されてい
る。微粒子はプレート（18）の表面上に沈澱し、主とし
て重力の効果によってそこから除去されて、底部（20）
に落ちる。そして適時ルーバー（22）を通してホッパー
（24）の中に放出される。ルーバーに代わるものとして
室の底部に軸方向に位置するねじコンベアを使ってもよ
い。

この装置の全体は種々の金属やファイバ・ガラス等を
含むどのような材料で構成してもよいが、非常な高温も
含めて広い範囲の温度に耐えるものがよい。塵、霧、煙
霧等が除去されるので、この装置は周期的に清掃するこ
とは必要としない。例えばディーゼルの排気のすすのよ
うな粘着性の物質を除去するためには、微細に気化した
ディーゼル燃料その他適当な流体を洗浄剤として使っ
て、乱流沈澱器を洗浄器として使うことができる。

有害なガスの除去のため、例えば煙路のガスの脱硫等
のために有害なガスを吸収する適当な溶融剤又はスラリ
ー（懸濁液）を微細に気化して、乱流沈澱器（10）の上
流で噴射することによって、この乱流沈澱器を洗浄器と
して使うことができる。霧はおおむね垂直収集プレート
（18）上に沈澱し、溶融剤又はスラリーは底部（20）か
らルーバー（22）の代わりに適当なバルブで制御された
出口を通して放出される。

超微細な粒子の除去には垂直収集プレート（18）の間
の空間を好ましくは直径0.1ミクロン以下の微細なファ
イバを、好ましくは0.1以下の体積率の充填密度でつめ
こんで使う。これによってブラウンの運動による超微細
粒子の沈澱に使用される単位体積当りの表面積を著しく
増加させることができる。このやり方を応用した時に
は、ファイバから沈澱物を除去るするために周期的な洗
浄が必要である。

乱流沈澱器の動作に必要なガスの乱流運動は、例えば
流れの通路の上流又は、その中に１つ又は複数の格子を
置く等のいろいろな方法で増大できる。

流体の流れの中に浮遊する微粒子が、処理又は製造工
業において生じることは、塵の多いガスがダクトの中を
流れる場合が最も多い。流れは通常乱流となっている。
この場合比較的多数の垂直プレートを第２図、第３図に
示すように次々とダクト中に横断するような方向で、ダ
クトの底部から立たせてある。

第２図では垂直プレート（18）も通路（16）も通路の
全長に亘って均一の高さをもっている。第３図では前記
垂直プレート（18）の高さは前記通路の上流の端から約
5cm乃至30cmの間の距離に亘って、約3cmから最大値約10
cmまで徐々に増加し、その後の区間は一定に保たれる。
従って前記通路の高さは始めは約8cmであって、それか
ら徐々に減少して約1cmの最小値に達し、その後は一定
に保たれる。

垂直プレートの第２図と第３図に示す２つのタイプの
並べ方をどのように組合わせてもよく、第３図に示す配
列を繰り返してもよい。

粒子収集の効率を上げるため、および少しでも再び流
れに戻ることを防ぐために、垂直プレートの上端の縁を
第４図に示すようにガス流に対抗するような方に折り曲
げるかカーブさせることができる。

個々の垂直プレートの間の空間を通るガスの実際の流
れはないけれども、乱流の渦はプレート間を或る程度の
深さまで浸透し、プレートによって構成されるトラップ
の上に微粒子を運ぶ。垂直プレートの間の空間で乱流は
プレートの上端で画成される表面からの距離が増大する
につれて急速に減衰する。渦によってプレートの間を運
ばれた粒子の大部分はガス流の通路に運び戻されること
はない。粒子はガス流の淀みの部分に達してしてしまっ
ているからであり、一部には粒子は２つのプレートの間
の空隙の下流で、ブラウンの運動によって両方のプレー
トの表面上に沈澱させられてしまうからである。粒子は
プレートの上に或る厚さになるまでは積み上がるが、そ
の限度を超すと不安定になりダクトの底部のルーバーの
方へ落下する。そこから粒子は周期的にルーバーを開け
て、ホッパーの中に放出することによって除去される。

ねじコンベアによって継続的に落下した粒子を除去す
ることも本発明の範囲に含まれる。

この装置は粒子がつまって働かなくなるおそれはな
く、積った粒子を除去する期間を長くしても使える。垂
直プレートから沈澱した微粒子が戻ってしまうことも10
0m/sの程度のガス流速度になるまで顕著には起こらな
い。ダクトの開いている部分の高さが1cmのオーダーで
あり、隣接する垂直プレートの間隔も同じオーダーであ
るが、これらの寸法はガス流の性質、流量、およびガス
流の汚濁物の含有量によって変わることがある。

ダクトの中にこのようにプレートを配置することによ
って、平均1.5μｍの直径のASP−100アルミニウム硅酸
塩の顔料の除去能率を約5mのダクト長によって99％のオ
ーダーにすることができる。圧力損失は水柱で数インチ
のオーダーである。

一例によれば、同様の直径のASP−100アルミニウム硅
酸塩顔料を含むガス流に対して、2.7mのダクト長で、通
路の高さ3cmのダクトを使い、35m/sと24m/sの間のガス
の速度とすることによって、除去能率が80％から86％の
間の範囲に達することが可能である。

約2cmの通路高と約24m/sの通路速度を用いると、収集
能率を93％にすることができる。

乱流によって運ばれる粒子を捕捉収集する目的で、乱
流の渦を淀んでいる地帯に導くのと同じ原理を他のガス
洗浄装置にも応用することができる。例えば本発明の別
の実施例では、微粒子を含むガス流の流れるダクトを水
平に区切る穴のあいた仕切り板を挿入して２つの部分に
分け、ガス流は上の方の部分だけに流れるようにし、穴
のあいた仕切り板の下の空間にはガス流がないようにす
る。乱流の渦は仕切り板の穴を通して下に行くが、その
静かな地帯で減衰する。穴を通して渦によって運ばれた
微粒子はガス流の中に戻ることはできず、ダクトの底に
たまる。

更に遠心分離器の円筒部分の中にタービンの刃のよう
な垂直のひれをつけて、５ミクロン以下の微粒子を高能
率で収集することもできる。特に大きな回転数をガスに
与えれば有効である。

本明細書の始めの方に記したように複数の室を適当な
空間を置いて１つずつ上に重ねるような使い方もでき
る。

ガス流から塵等を除去するために使われる原理は、
塵、霧、煙霧又は煙等を含む粒子を、液体でも気体でも
どんな流体からでも除去するために使用することができ
る。水の濾過にも使える。

「想定される本発明の応用例」プラントのタイプ 1.発電所：すべてのプラント中の送気管のガスの脱流：
粉砕燃料によるボイラ：燃焼制限ボイラ：亜炭給炭機燃
料ボイラ：亜炭粉砕燃料燃焼ボイラ（ハンマミル） 2.石炭産業：亜炭回転型蒸気乾燥機：亜炭プレート型乾
燥機：燃焼ガス亜炭乾燥機：亜炭ミル乾燥機：亜炭運搬
機の脱じん：瀝青炭チューブ型蒸気乾燥機：瀝青炭運搬
機の脱じん：瀝青炭−コークス粉砕プラント。

3.石炭、ガス産業：泥炭ガス生成器：天然ガス用分留プ
ラント：亜炭練炭からのガス生成器：半瀝青炭亜炭から
のガス生成器：頁岩ガス清浄プラント：コークス炉市ガ
ス清浄：コークス炉ガス清浄：石油気化水ガス清浄：タ
ール気化水ガス清浄。

4.製紙産業：ブラックリッカ燃焼プラント。

5.セメント産業：回転キルン乾燥工程：レポル回転キル
ン乾燥工程：回転キルン湿潤工程：焼器付き回転キル
ン湿潤工程：垂直キルン：原材料乾燥機：セメントミ
ル：包装機。

6.化学工業：焙煎器：硫黄焼却炉からの煙霧：硫酸煙霧
随伴冷却塔：硫化亜鉛焙煎器：砒素および硫酸煙霧除
去：硫酸用テイルガス濃度：硫化水素燃焼プラントから
の硫黄煙霧。

7.鉱業および製塩処理：ボーキサイト乾燥機：ボーキサ
イト焼および処理キルン：多重遠心分離洗浄器付きア
ルミナ焼器：塩素酸カリウム乾燥機：フラーの土壌乾
燥器。

8.金属工業：垂直衝風炉：金属原石：回転キルン処理：
亜鉛鉱石：同用垂直衝風炉：錫鉱石：同用垂直衝風炉：
アンチモニー鉱石：銅変換器：ニッケル含有鉄鉱石用回
転キルン：フェロシリコン生成器：導線生成器：炭化カ
ルシウム生成器。

9.以下の製品の関する産業：研磨剤：アスベストファ
イバ：グラファイト：石こう：油煙：石灰石：ゴム：
砂：シリカ粉：ごみ焼却器：ビルディング材料：石け
ん：石けん石：滑石：木粉：やすり：磁気磨き：金属研
磨：ペンキ顔料：肥料：原石焼結物：パーライト等。

10.食料品：粉（各種）：砂糖：乾燥乳製品：穀類：塩
とスパイス：パン焼き材料：インスタント食品：等。

11.エア・コンディション：本発明によるほこり除去器
をエア・コンディショナーに直列に挿入することができ
る。

この開示を要約すると、本発明は微粒子を乱流の渦に
よってガスが淀んでいる所に運び、そこにある固体の表
面に沈澱させ、気化した流体のスプレーや有害ガスも一
緒に処理することを含む、動作中も使用できる継続的な
手順で、ガス流から、微粒子状の塵、霧、煙霧、有害ガ
スを除去する新しい安価な方法を提供するものである。
本発明の範囲内で多くの修飾が可能である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者デュリアンフランシスアエルカナダ国エヌ２エヌ１ズィー４オンテアリオウキッチナストウクドライブ 36番 (56)参考文献特開昭62−176514（ＪＰ，Ａ) 独国特許発明921784（ＤＥ，Ｃ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 45/02 B01D 47/06 B01D 53/34

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】微粒子を含むガス又は液体の流れから微粒
子を除去する方法にして、該方法が：ａ）実質的なガスの流れはないが、ガスの流れと連絡し
ている、少くとも１つのガスの淀んでいる地帯の上に位
置する少くとも１つの流れの通路を通して、前記ガスの
流れを非常に荒れた乱流の中で運ぶことと、ｂ）浮遊している微粒子を運んでいる前記ガス流の乱流
の渦を前記淀んでいる地帯に入り込ませ、衰退させて、
そこで前記微粒子を純粋に機械的な手段によって固体表
面に捕捉、沈澱させることと、ｃ）前記微粒子の沈澱物を主として重力の作用で該固体
表面から剥離することと、ｄ）該沈澱物を継続的にねじコンベアによって除去する
か、前記機械的捕捉手段の底部に位置するルーバーその
他の適当な手段を周期的に開き、ｅ）該沈澱物をホッパー又は適当な手段の中に放出する
ことを、含むことを特徴とする方法。
【請求項２】前記ガス流における乱流の乱れを１又は複
数の格子を流れの通路の上流又は該通路の中に挿入する
ことによって強くすることを特徴とする、請求項（１）
に記載の方法。
【請求項３】前記流れの通路の上流において、噴霧器に
より前記ガス流の中に適当な液体又は懸濁液を微細な噴
霧として吹き付け、浮遊している微粒子や有害なガスを
ガス流から洗浄して、前記固体の表面に沈澱させ、前記
淀んでいる地帯の底部から放出することを特徴とする、
請求項（１）又は（２）に記載の方法。
【請求項４】微粒子を含むガス又は液体の流れから微粒
子を除去するための装置にして、該装置が少くとも１つ
の室（10）を含み、該室（10）が： −前記流体の流れを非常に荒れた乱流の中で運ぶための
少くとも１つの通路（16）と、 −前記少くとも１つの通路（16）と連絡し、その下に少
くとも１つの淀んだ地帯を形成し、そこで前記微粒子を
沈澱させて捕捉するための平行に配置された垂直の収集
用プレート群（18）とを含むことを特徴とする装置。
【請求項５】請求項（４）に記載の装置において、前記
淀んでいる地帯が約0.1から約3mmの厚さと、約３から10
cmの高さとをもち、互いに約5cm離れて平行に配置され
る垂直なプレート群（18）を前記流れの通路（16）の下
に並べて置くことによって形成され、従って該通路（1
6）の底部は、該垂直なプレート群（18）の上縁と、該
プレート間の隙間とによって形成され、乱流の渦によっ
て該プレートの間の空間まで運ばれて来た微粒子が慣性
の衝撃とブラウンの拡散運動とによって該プレートの表
面に沈澱することを特徴とする装置。
【請求項６】請求項（４）又は（５）に記載の装置にお
いて、前記垂直なプレート群（18）の間の淀んだ地帯に
約0.01から約１ミクロンまでの直径をもつファイバから
なる適当なフィルタ媒体を約0.001から約0.1の体積率で
つめて、該ファイバーの表面上に極微細な粒子をブラウ
ンの拡散運動により沈澱させることを特徴とする装置。
【請求項７】前記垂直なプレート群も、前記通路も、前
記少くとも１つの流れの通路の全長に亘って均一の高さ
をもつことを特徴とする、請求項（４）から（６）まで
に記載の装置。
【請求項８】前記垂直プレート群の高さが前記通路の上
流の方の端から約５乃至30cmの距離に亘って約3cmから
約10cmの最大値まで徐々に増加して行き、その後は通路
長の残りの部分全部に亘って、その高さに保たれ、従っ
て該通路の高さが約8cmから徐々に減少して約1cmの最小
値に達し、以後の全長に亘って約1cmの高さに保たれる
ことを特徴とする、請求項（４）から（６）までに記載
の装置。
【請求項９】前記垂直プレートの上縁が前記流体の流れ
の方向と反対方向に折れ曲がるか曲線的に曲がっている
ことを特徴とする、請求項（４）から（８）までに記載
の装置。
【請求項１０】前記室（10）と前記通路（16）とが水平
面に平行な軸をもつように形成されていることを特徴と
する、請求項（４）から（９）までに記載の装置。
【請求項１１】前記室（10）と前記通路（16）とが水平
面に対して約20度から60度の角度で流れの方向に上方に
傾斜する軸をもって形成されていることを特徴とする、
請求項（４）から（９）までに記載の装置。
【請求項１２】２つ以上の前記室（10）が適当な間隔を
おいて、１つが他のものの上になるように配置されてい
て、それぞれの室から放出される沈澱物が、それぞれの
室の間又は下に位置するねじコンベア又はパイプによっ
て除去されることを特徴とする、請求項（４）から（1
1）までに記載の装置。
【請求項１３】水平面に対して角度をもって配置されて
いる前記室から放出される沈澱物が、該室の下にある室
の上面の外側を滑り又は流れ落ちることを特徴とする、
請求項（12）に記載の装置。
【請求項１４】前記除去する微粒子が約0.01から100ミ
クロンの直径をもち、前記ガス流が約10から50m/sの速
度をもち、前記流れの通路が約１から8cmの高さと約５
から30cm幅とをもつことを特徴とする、請求項（１）か
ら（３）までに記載の方法。
【請求項１５】前記除去する微粒子が約0.01から100ミ
クロンの直径をもち、前記ガス流が約10から50m/sの速
度をもち、前記流れの通路が約１から8cmの高さと約５
から30cmの幅とをもつことを特徴とする、請求項（４）
から（13）までに記載の装置。