JPS586231A - 廃ガス処理装置 - Google Patents
廃ガス処理装置Info
- Publication number
- JPS586231A JPS586231A JP10318181A JP10318181A JPS586231A JP S586231 A JPS586231 A JP S586231A JP 10318181 A JP10318181 A JP 10318181A JP 10318181 A JP10318181 A JP 10318181A JP S586231 A JPS586231 A JP S586231A
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- JP
- Japan
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- waste gas
- plasma
- gas treatment
- gas
- container
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- Pending
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- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラズマ（３ＶＤ装置等、有毒な反応性ガスを
排出する種々の装置に用いる廃ガス処理装置に関するも
のである。
排出する種々の装置に用いる廃ガス処理装置に関するも
のである。
従来のこの種の装置は、廃ガスを熱分解によって処理し
ていたが、装置が高温になるため石英管を用いなければ
ならず、プラズマＯＶＤ装置勢との接続が複雑とな９、
また、危険が伴うという欠点がある。また、廃ガス処理
装置の他の従来例としては、真空ポンプの後部に廃ガス
の吸着装置を設けるものがあるが、これは真空ポンプの
排気側の気体の流動抵抗が大きくなるため、真空ポンプ
の排気能力が減少した９、未処理の反応性ガスが真空ポ
ンプに入るため、真空ポンプを痛めるという欠点がある
。
ていたが、装置が高温になるため石英管を用いなければ
ならず、プラズマＯＶＤ装置勢との接続が複雑とな９、
また、危険が伴うという欠点がある。また、廃ガス処理
装置の他の従来例としては、真空ポンプの後部に廃ガス
の吸着装置を設けるものがあるが、これは真空ポンプの
排気側の気体の流動抵抗が大きくなるため、真空ポンプ
の排気能力が減少した９、未処理の反応性ガスが真空ポ
ンプに入るため、真空ポンプを痛めるという欠点がある
。
本発明の目的は、これらの欠点を除去するため。
プラズマ０ＶＤ装置等から排出された有毒な廃ガスをプ
ラズマ放電により分解した後に１真空ポンプ等の排気装
置によ抄廃ガスを排気するようＫした廃ガス処理装置を
提供することにある。
ラズマ放電により分解した後に１真空ポンプ等の排気装
置によ抄廃ガスを排気するようＫした廃ガス処理装置を
提供することにある。
以下、図面に基づいて本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明廃ガス処理装置の一実施例を示し、ｌは
高周波電源、コはマツチングボックス亀３は廃ガス処理
容器参内に配設した平行平板の電極であり、この電４ｉ
ｋ３間で高周波グロー放電を行なう。５は容器参の人口
部６に取付けた開閉弁、７は容器参の出口部ＩＫ取付け
た開閉弁である。
高周波電源、コはマツチングボックス亀３は廃ガス処理
容器参内に配設した平行平板の電極であり、この電４ｉ
ｋ３間で高周波グロー放電を行なう。５は容器参の人口
部６に取付けた開閉弁、７は容器参の出口部ＩＫ取付け
た開閉弁である。
このように構成した廃ガス処理装置において、容ｇｐ内
に導入された廃ガスを、電極３間の高周波グロー放電に
より分解する。こむで、高周波出力を十分大きくしてお
けば、廃ガスをほぼ完全に分解することができる。
に導入された廃ガスを、電極３間の高周波グロー放電に
より分解する。こむで、高周波出力を十分大きくしてお
けば、廃ガスをほぼ完全に分解することができる。
第２図は第１図に示した廃ガス処理装置をプラズマＣＶ
Ｄ装置に取付けて用いた一例を示すものである。ここで
、／／はプラズマ（３ＶＤ装置１０の反応槽、１２は第
１図示の廃ガス処理装置、／３は排気装置としての真空
ポンプであり、処理したガスを真空ポンプ１３からダク
トへ送出する。本実施例において。
Ｄ装置に取付けて用いた一例を示すものである。ここで
、／／はプラズマ（３ＶＤ装置１０の反応槽、１２は第
１図示の廃ガス処理装置、／３は排気装置としての真空
ポンプであり、処理したガスを真空ポンプ１３からダク
トへ送出する。本実施例において。
廃ガス処理装置１２と反応槽１１および真空ポンプ／３
とを開閉弁Ｓおよび７を用いて接続してあり、この開閉
弁Ｓおよび７を開くことによ抄、廃ガス処理装置１２の
容器参内の気圧を反応１ｗ／／内と同一とすることがで
き、これにより、グロー放電を起すことができる。
とを開閉弁Ｓおよび７を用いて接続してあり、この開閉
弁Ｓおよび７を開くことによ抄、廃ガス処理装置１２の
容器参内の気圧を反応１ｗ／／内と同一とすることがで
き、これにより、グロー放電を起すことができる。
このように構成した廃ガス処理装置付プラズマＯＶＤ装
置において、まず、原料ガスのうち水素勢の無毒のガス
のみを流して反応＠／／および容器参内の気圧を適切に
調節して廃ガス処理装置１２の容器参内でグロー放電を
起こさせる。その後、 ＳｉＨ４等の有毒ガスを流し始
めると、これら有毒ガスが電極３内の放電により分解さ
れる。すなわち、プラズマＯＶＤ ｋ ＃／ｉ ｔｏ内
の反応槽ｌ／に導入されたＳｉＨ４゜ＰＨ，、Ｂ２Ｈ４
等の原料ガスは反応槽ｌ／内でプラズマ反応を起こすが
、全てのガスが分解されるのではなく、一部が廃ガスと
して残存する。また、プラズマを発生させる前後にガス
置換を行なうため。
置において、まず、原料ガスのうち水素勢の無毒のガス
のみを流して反応＠／／および容器参内の気圧を適切に
調節して廃ガス処理装置１２の容器参内でグロー放電を
起こさせる。その後、 ＳｉＨ４等の有毒ガスを流し始
めると、これら有毒ガスが電極３内の放電により分解さ
れる。すなわち、プラズマＯＶＤ ｋ ＃／ｉ ｔｏ内
の反応槽ｌ／に導入されたＳｉＨ４゜ＰＨ，、Ｂ２Ｈ４
等の原料ガスは反応槽ｌ／内でプラズマ反応を起こすが
、全てのガスが分解されるのではなく、一部が廃ガスと
して残存する。また、プラズマを発生させる前後にガス
置換を行なうため。
これらのガスを流す必要がある。これらガスは有毒であ
り、しかも爆発性があるため、そのまま排出することが
できない。そこで、上述したようにして放電を起こして
いる廃ガス処理装置ｌＪ内に廃ガスを導いて、プラズマ
放電により廃ガス管分解する。
り、しかも爆発性があるため、そのまま排出することが
できない。そこで、上述したようにして放電を起こして
いる廃ガス処理装置ｌＪ内に廃ガスを導いて、プラズマ
放電により廃ガス管分解する。
なお、廃ガス処理装置１２に用いる高屑波電［／の高周
波出力とプラズマ０ＶＤ装置１０に用いる高周波出力と
を独立としておくことによ！’％ＯＶＤ装置１０での試
料作製条件と全く無関係に、廃ガス処理装置１２の高周
波寛＃ｔ／を大きくできる。
波出力とプラズマ０ＶＤ装置１０に用いる高周波出力と
を独立としておくことによ！’％ＯＶＤ装置１０での試
料作製条件と全く無関係に、廃ガス処理装置１２の高周
波寛＃ｔ／を大きくできる。
また、廃ガス処理装置ｌｌ内の放電を高周波放電とした
が、直流放電でもよく、この場合にはマツチングボック
スλが不要となる。
が、直流放電でもよく、この場合にはマツチングボック
スλが不要となる。
以上説明したように、本発明廃ガス処理装置は、プラズ
マ放電によ抄廃ガスを分解するようＫしたので、高温を
用いる必要がなく、プラズマＯＶＤ装置婢、有毒な廃ガ
スを排出する種々の装置を容易に接続できる。
マ放電によ抄廃ガスを分解するようＫしたので、高温を
用いる必要がなく、プラズマＯＶＤ装置婢、有毒な廃ガ
スを排出する種々の装置を容易に接続できる。
また、本発明廃ガス処理装置をプラズマ０ＶＤ装置と接
続して用−る場合には、ＯＶＤ装置の反応槽内と廃ガス
処理装置の容器内を同じ真空度にすることができるので
、新しく排気装置を設ける必要がない。
続して用−る場合には、ＯＶＤ装置の反応槽内と廃ガス
処理装置の容器内を同じ真空度にすることができるので
、新しく排気装置を設ける必要がない。
更に、本発明廃ガス処理装置は従来の廃ガストラップ等
と′員なり排気装置の能力を低下させることがない。
と′員なり排気装置の能力を低下させることがない。
第１図は本発明廃ガス処理装置の一例を示す構成図、第
２図は第７図示の廃ガス処理装置をプラズマＣＶＤ装置
に接続した場合を示す構成図である。 ｌ・・・高周波電源、 λ・・・マツチングボッ
クス、３・・・電極、 ｌ・・・容器、ｊ、
７・・・開閉弁、 ぶ・・・入口部、ｌ・・・出
口部、 １０・・・ＯＶＤ装置。 ／／・・・反応槽、／２・・・廃ガス処理装置、１３・
・・真空ポンプ（排気装置）。 特許出願人 日本電信電話公社 。
２図は第７図示の廃ガス処理装置をプラズマＣＶＤ装置
に接続した場合を示す構成図である。 ｌ・・・高周波電源、 λ・・・マツチングボッ
クス、３・・・電極、 ｌ・・・容器、ｊ、
７・・・開閉弁、 ぶ・・・入口部、ｌ・・・出
口部、 １０・・・ＯＶＤ装置。 ／／・・・反応槽、／２・・・廃ガス処理装置、１３・
・・真空ポンプ（排気装置）。 特許出願人 日本電信電話公社 。
Claims (1)
- 反応性の廃ガスを排出する反応槽と排出装置との関に配
置され、前記反応性の廃ガスをプラズマ放電によ抄分解
して前記排出装置によ砂排出するようにしたことを特徴
とする廃ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10318181A JPS586231A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 廃ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10318181A JPS586231A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 廃ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586231A true JPS586231A (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=14347332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10318181A Pending JPS586231A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 廃ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586231A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168361A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-30 | 新菱冷熱工業株式会社 | グロ−放電による脱臭方法 |
| US4735633A (en) * | 1987-06-23 | 1988-04-05 | Chiu Kin Chung R | Method and system for vapor extraction from gases |
| JPH02131116A (ja) * | 1988-11-10 | 1990-05-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 有機ハロゲン化合物の分解方法 |
| US5200043A (en) * | 1989-11-08 | 1993-04-06 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Method for treating waste gas |
| US6576202B1 (en) | 2000-04-21 | 2003-06-10 | Kin-Chung Ray Chiu | Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP10318181A patent/JPS586231A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168361A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-30 | 新菱冷熱工業株式会社 | グロ−放電による脱臭方法 |
| US4735633A (en) * | 1987-06-23 | 1988-04-05 | Chiu Kin Chung R | Method and system for vapor extraction from gases |
| JPH02131116A (ja) * | 1988-11-10 | 1990-05-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 有機ハロゲン化合物の分解方法 |
| US5200043A (en) * | 1989-11-08 | 1993-04-06 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Method for treating waste gas |
| US6576202B1 (en) | 2000-04-21 | 2003-06-10 | Kin-Chung Ray Chiu | Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method |
| US6998027B2 (en) | 2000-04-21 | 2006-02-14 | Dryscrub, Etc | Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method |
| US7241428B2 (en) | 2000-04-21 | 2007-07-10 | Dryscrub, Etc | Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method |
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