JPS586129A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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Publication number
JPS586129A
JPS586129A JP10400981A JP10400981A JPS586129A JP S586129 A JPS586129 A JP S586129A JP 10400981 A JP10400981 A JP 10400981A JP 10400981 A JP10400981 A JP 10400981A JP S586129 A JPS586129 A JP S586129A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
column
electron beam
electrodes
electrostatic
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10400981A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Seigo Igaki
井垣　誠吾
Yasuo Furukawa
古川　泰男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS586129A publication Critical patent/JPS586129A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本Ｎ明は電子ビーム露光装置に関する。
電子ビームを用いて彼処塩体に所Ｍｉのパターンを描画
する電子ビーム露光装置にＦｉ電子ビームを放射する電
子銃や、電子ビームを集束させる電子レンズ、電子ビー
ムを偏向する偏向器、試料を載ｔＬ％Ｘ−Ｙ方向に移動
可能なステージ等が備えられてい為０そして例えはスポ
ットと一ムをラスクスキャンニングして所望パターンを
描画する鳩舎、露光すぺ動領域以外はビームを偏向して
、いわゆるブランキングを行なう。
このブランキングを行なうためのプツンカ、畳に静電プ
２ンカは、電子ビーム露光装置のカラム内に設置され、
前記ブランキングを行なうが、仁の際、カラム内の例え
ば真空を保つために用いられる０−リング等に電子ビー
ムが照射されると、そζから炭素が生じフンタミネーシ
箇ンと呼ばれる汚染物質として静電ブランカの電極表面
に付着し、この結果ブランカとして性能を劣化させる〇
このため、従来はこの汚染物質を、と）除くためにカラ
ム内の真空を砿〕清浄を行なっていたので、作業性が著
しく悪い欠点があ−）九〇 本発明は、従来のこのような欠点を解決し、カラムの真
空を破ることなく静電ブランカの電極に付着した汚染物
質を除去することを目的とする。
かかる目的は、本発明によれば、力２ム内Ｋｌ対の電極
を有し、電子ビームを該電極に印加する電圧に応じて偏
向する静電偏向装置を有する電子ビーム露光装置におい
て、該電極［１ｍ％極の該力２ム外から制御可能な加熱
手段を設けるととにより達成される。
以下、本尭＃４Ｋ）−負一例を図面を用いて説明する・
図は静電ブランカおよびその加熱手段を示す−である＠ ｌ対Ｏ１ｌ＠１は、例えはグラファイト勢の高抵抗材料
であル、リードｌ１ｉＩ２を介して外部亀＠３と級絖格
れている＠電＠３とリード線２との藺のカラム５外には
スイッチ４か設けられてお９、目視畳によ）電極表伽が
汚染されている事を検知した時ＫｔＪツム５外のスイッ
チ４を閉成することにより、電極ｌＦｉ加熱され、その
表面に付着し九汚染物を一自とはす・これによって、カ
ラム５内の真空を破ることなく静電ブランカの電極角面
を清浄にすることかで自る・崗、本夾施例で扛静電１２
ン力についてａ＠したが、本発明は他の電子ビーム匍肉
器にも適用できる。
以上ｍ明したように本発明によれは、力乏ム外からスイ
ッチ會投入するだけで、静電偏向装置の電ａｔ清浄にす
ることができるので、電子ビーム露光に除して、そめ作
業性が着しく向上する。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示す図である。 １：ｔ４ｋ、３：外部電源、４：スイッチ、Ｓ：カラム
。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. カラム内に１対の電極を有し、電子ビー上を該電極に印
    加する電圧に応じて偏向する静電偏向装置を有する電子
    ビーム露光装置において、咳電極に該電極の該カラム外
    から制御可能な加熱手段を設けたことを特徴とする電子
    ビーム露光銀量。
JP10400981A 1981-07-03 1981-07-03 電子ビ−ム露光装置 Pending JPS586129A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018050061A (ja) * 2012-03-20 2018-03-29 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． ラジカルを輸送するための装置および方法

Citations (2)

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JPS5353977A (en) * 1976-10-27 1978-05-16 Fujitsu Ltd Electron beam exposure device
JPS5543823A (en) * 1978-09-21 1980-03-27 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Aperture device

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