JPS5860737A - 画像複製材料および画像複製方法 - Google Patents

画像複製材料および画像複製方法

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JPS5860737A
JPS5860737A JP56160672A JP16067281A JPS5860737A JP S5860737 A JPS5860737 A JP S5860737A JP 56160672 A JP56160672 A JP 56160672A JP 16067281 A JP16067281 A JP 16067281A JP S5860737 A JPS5860737 A JP S5860737A
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JP
Japan
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film
optical density
layer
image
photopolymerizable
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Pending
Application number
JP56160672A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Kato
加藤 義夫
Satoshi Imahashi
聰 今橋
Toshio Tanaka
田中 敏巨
Setsuo Imai
今井 節雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP56160672A priority Critical patent/JPS5860737A/ja
Publication of JPS5860737A publication Critical patent/JPS5860737A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G03F1/56Organic absorbers, e.g. of photo-resists

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1画像複製材料および画像複製方法に関するも
ので1非銀塩系のいわゆる「返し返し用リスフィルム」
に関するものである。
印刷業界では為網点画像の印刷版を製造する場合に1網
点画像とすべきw、@を写真的方法により網点分解する
。次にこれを第二の画像複製材料によって反転写真画像
に変え1良好な原像にするためこの密着反転の操作を数
回繰り返した後1できり画像をマスクフィルムとして第
三の感光材料に網点画像を形成し1これを印刷版の網点
画像とする方法がある。この第二の画像複製材料を通常
「返し返し用リスフィルム」と呼んでいる。
従来からこのような用途に使用するリスフィルムの研究
は多く行なわれて−る。ハマゲン化銀感光材料の場合は
為高感度であるが1高コントラストやフリンジの消滅に
本質的な限界があり1露光および現像のラテイチュード
が狭く1減力すると光学濃度が低下するという問題があ
る。また)ハ四ゲン化銀フィルムは可視光感度を有する
ため両像複製作業を暗室で行なわねばならず)作業性お
よび労働環境においても満足できるものではなく為明室
において画像複製を可能にするものが期待されている。
さらに1ハpゲン化銀は高価であり1資源保護の立場か
らも他の感光材料が望まれている。
上記問題を解消するための1つの手段として1活性光線
範囲内において光学濃度が少なくとも3以上の光重合性
層1保護層1支持体からなるエレメントが提案されてい
る(特開昭52−62427号公報)。この方法では1
光重合性層の光学濃度が活性光線範囲内で3.0以上と
高くなって−るために、m光による光重合が起こりにく
−ので長時間の露光を必要とすること為十分硬化したレ
ジス(が形成されにくいため現像時および減力時にピン
ホールの発生や光学濃度の低下をきたすなどの欠点があ
った。他の手段としては1支持体上に皮膜龜 形成Jtir一つ溶剤可溶性の高分子物質山に顔料おま
び染料を分散した中間層を設け1さらに1その止シ に有機溶剤可溶の7オトレオスト層を設けた感光材料を
用いる方法がある。この方法V!、減力については何ら
ふれられていな−し1中間層の溶剤と感光層の有機溶剤
との2種類が必要なため煩雑である。また有機溶剤を使
用することは1臭気などの作業環境の面1爆発などの安
全性の面で好ましくなく1フストも高いという欠点があ
った。
本発明者ら#′i)上述のような従来法の種々の欠点を
改良するため鋭意研究を重ねた結果1本発明を完成する
に到った。すなわち1本発明は透明な支持体と接着層お
よび光重合性層を含む画像複製材料にお−て1散光重合
性層が皮膜形成性かつ水系溶剤可溶性の高分子物質に顔
料を含み、波長3!10− !100 mp において
第1図に示す点p (350。
4−0 )、Q (3sOe 101% B (400
、1,5)、S (500# i、5 )% T (5
00、3,0)SU (395s3、o)を結んで得ら
れる六角形によって包含される領域(但し1点Uと点T
および点Uと点Tとを結んで得られる線上は含まない。
)の光学濃度を有することを特徴とする画像複製材料お
よび該複製材料を画像露光し1水系溶剤にて未露光部を
除去し、必要により減力することを特徴とする画像複製
方法である。
本発明の画像複製材料において1光重合性層の光学濃度
が波長350〜50011μにおいて第1図に示す点P
 (350、4,0)% TT (395、3,0)、
T (500、3,0)を結ぶ線より高い場合は1活性
光線が多く吸収されてしまうので長時間の露光が必要と
なってくる。また1千分硬化したレジストが形成されな
いので1現像および減力時にピンホールが多く発生した
り光学濃度が低下してくるので好ましくない。一方1光
重合性層の光学濃度が波長350〜500講μにおいて
第1図に示す点q(3so 、 2.0 )、R(、a
oo 、 1.15 )、B (soo 。
1.5)を結ぶ線より低い場合は)光重合性層がよ〈硬
化しすぎるために減力できなくなる。この光学濃度を有
する画像材料をマスクフイルムトシテ使用すると1活性
光線を完全に遮蔽しないので1複製したフィルムや印刷
版にカプリが発生するので好ましくない。
本発明における適当な支持体としては1ポリエステル〜
ボリプシビレン11リエチレン1ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリカーボネー)為酢酸セルロースな
どの透明なフィルムを挙げることができる0特に2軸延
伸したポリエステル件 フィルムは、寸法安定扇゛・および透明性に優れている
ので好まし一0支持体の厚さは制限はないが17B〜1
怠5μが適当である0 皮膜形成性かつ水系溶剤可溶の高分子物質としては1第
一にカルボキシル基を含有する高分子が適当である。例
えば、メタクリル酸メチル1メタクリル酸共重合体1メ
タクリル酸メチル・アクリル酸・アクリル酸メチル共重
合体1スチレン・メタクリル酸共重合体1スチレン・無
水マレイン酸共重合体の部分エステル化物為フタル酸・
酢酸セルロースなどをあげることができる。カルボキシ
ル基と側鎖にエチレン性不飽和基を含有する高分子物質
も有効であ!l11例えば為β−シンナモイルオキシエ
チルメタクリレート・メタクリル酸共重合体1メタクリ
ル酸メチル慟メタクリル酸共重合体のメタクリル酸グリ
シジル付加物、β−ビニロキシエチルシンナメート・無
水マレイン酸共重合体の部分エステル化物)スチレン・
無水マレイン酸共重合体のアリールアルコールによるS
分エステル化物などを挙げることができる。第2に)ノ
ボラック型の7エノール樹脂・ポリ−p−ビニルフェン
−ルなどのフェノール基を含有する高分子物質へ第3に
1スルホン酸基を含有するポリエステルまたはポリアミ
ドを挙けることができる。これらの高分子物質を使用し
た感光性フィルムは為アルカリ水溶液で現像し為水洗す
ることによシ定着できる。さらに別の高分子物□質とし
ては14級化できる塩基性窒素を含有する高分子物質1
例えばS2−メチル−z −(N−ml−ジメチルアミ
ノ)メチル−1−−プレパンジオール・チル7タル酸共
重合体1ビス−アミツブ田ビルーピペラジン・アジピン
酸・ξ−カブpラクタム共重合体などを挙げることがで
きる。これらの高分子物質を使用した感光性フィルムは
、酸性水溶液で現像し1水洗することによυ定着できる
。上述の高分子物質の配合量は、光重合性層を形成する
組成物に対して20〜80重量%である。
本発明において用いられる顔料は活性光線を吸収する機
能をもつ賜のであり1カーボンブラツク1酸化第二鉄1
酸化チタンなどの無機顔料をあげることができ、特にカ
ーボンブラックが最も望ましい◇無機顔料の粒子径は5
〜110肩μ、好ましくは10〜aomμである。これ
らの顔料は光重合性層中に均一に分散することが必要で
あるので為顔料とぎり!−溶液をアシライターやボール
ミルで均一に分散してコーティングするのが好ましい。
光重合性層の光学濃度は1顔料が微細に分散されている
程低波長になるに従って高くなる。400〜500冨μ
での光学濃度が十分でな一場合には1上述の顔料にトル
イジン・レッド(C,工、ピグメント・レッド3)、レ
イクレッドa (a、工、ピグメント・レッド53)な
どの有機顔料を併用すると好ましい。顔料の配合量は通
常5〜15重量≦である。
なお、微細に分散させるため上記無機顔料の粒子径が小
さ一程1その添加量は少なくてもよく1例えば粒子径が
20taμ以下の場合は10重重量板下の添加量で十分
である。
光重合性単量体としては1多くの化合物が使用可能であ
り、シクロヘキシルアクリレート1ヲウリルアクリレー
ト等のアルキルアクリレート類12−ヒトレキジエチル
アクリレート等の2−とビシキシアルキルアクリレート
類)N、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等のア
ミノアルキルアクリレート類s2−メトキシエチルアク
リレ−F等のエーテルアルキルアクリレート類1グリシ
ジルアクリレート類1ハ!ゲン化アルキルアクリレート
類1トリメチロールプ田パントリアクリレ−?=、)リ
フチロールプロパントリメタクリレート1トリエチレン
グリフールジメタクリレート等の多官能アクリレートが
挙げられる。前記光重合性単量体の配合量は1光重合性
層を形成する組成物に対し10〜45重量%が好ましい
光重合開始剤としては、ベンジル1ジアセチル等のビシ
ナルナタルドニル化合物1ベンゾイン1ヒバtyイン等
のα−ナタルドニルアルコール類1ベンゾインエチルエ
ーテル等のアシ田インエーテル類1α−メチルベンゾイ
ン等のアシワインエーテル類1α−メチルベンゾイン等
のα−炭化水素置゛換芳香族アシロイン類1トリフェニ
ルイミダゾール2量体とロイコ染料等のトリアリルイミ
ダゾール2量体と水素供与性ラジカル発生剤の組み合わ
せ等を挙げることができる。また\キサンチン系17ク
リジン系1チアジン系1シアニン系などの色素の1種以
上を分光増感剤として配合すると感度が向上することが
ある。光重合開始剤および増感剤の配合量は、光重合性
層を形成する組成物に対し1〜20重量襲である。
光重合性層の熱安定性をよくするために1ハイド田キノ
ンモノメチルエーテルやフェノチアジンなどの熱安定剤
を配合することが好ましい。この熱安定剤の配合量は、
光重合性層を形成する組成物に対しSo、01〜5重量
%が良好である。
なお1上述の組成からなる光重合性層と透明な支持体と
の接着性をよくするために1高分子物質からなる接着層
を支持体上に被覆する必要がある。
例えば、アクリル酸エチル・メタクリル酸メチル共重合
体、塩化ビニリデン・アクリル酸メチル・イタコン酸共
重合体1テレフタル酸・イソフタル酸・ネオペンチルグ
リコール共重合体とインシアネート化合物などを挙げる
ことができる。接着層の厚みは0.2〜2μが好ましい
光重合性層の成膜は1接着層を被覆したポリエステルフ
ィルムに溶剤を含む光重合性組成物をコーティングした
後1加熱により溶剤を除去することにより行なうことが
できる。光重合性層の厚みは1厚すぎると解像力が低下
するので所望の光学濃度を得ることができればよく、通
常1〜6Nである。
光重合性層はへ光透過性良好で剥離可能なカバーフィル
ム)または水系溶剤に溶解する保護層で被aされていて
もよφ。水系溶剤に溶解する物質としては1ポリビニル
アルコール、lリアクリル酸葛フタル酸・酢酸セルロー
スなどを挙げることができる。このうちポリビニルアル
コールは嘱酸素バリヤー性忙優れているため濁酸素によ
るラジカル重合の防害を減することができるので好まし
い。保護層の厚みは1〜2μが解像力の低下もなく好ま
しい。
本発明画像複製材料の露光に使用される光源としては1
光重合性層を有効に硬化させつるものであればよく1各
種水銀灯1炭素アーク灯1メタルパライトランプ)キ七
ノンランプなどを挙げることができる。
本発明の画像複製材料は、光重合性層(tたは保護層)
上にネガフィルムまたはポジフィルムを重ねてその1必
ら活性光線を照射すると1部1光部分の光重合性層の、
みが硬化する。現像tfi1保護層がある場合#′iW
k央(カバーフィルムの場合は剥離)した後、水系溶剤
に浸漬することにより未露光部を膨潤する。次に水をス
プレーしたり水中でブラシやスポンジでこすることによ
って現像できる。
この水系溶剤としては1光重合性層の構成によりアルカ
リ水溶液、酸水溶液1水のような無機溶剤が適宜選択さ
れて使用される。
本発明画像複製材料は1現像後必要により減力を行なう
ことができ1銀塩フイルムのような光学濃度の低下がな
く1ピンホールの発生もほとんどないので1カラー印刷
などでトーンの修正に有効である。減力は1網点フィル
ムの全体または1部を現像液と同じ溶剤または希釈ある
いは濃縮した溶剤に浸漬し1水洗することによって行な
うことができる。
以上、かかる構成よシなろ本発明画像複製材料は1光重
合性層の光学濃度が第1図に示した六角層に配合する顔
料の量が少なくてすむので1画像複製材料の製造時に顔
料を光重合性層中に微細に均一に分散させることが可能
と凍シ1製造され念画像複製材料に濃度斑28なく良好
なものとなる。
また1本発明画像複製材料では、前述の如く光重合性層
の光学濃度が低−之め1画像露光が短時間で十分硬化し
たレジストができるので、現像および減力時に光学濃度
の低下やピンホールの発生がほとんどなく良好である。
また1本発明画像材料をマスクフィルムとして、#塩の
リスフィルム、7オトポリマーからなるフィルム1Ps
版−1感光性樹脂版などの製版を良好に行なうことがで
き1光重合性層の光学濃度が低すぎることはない。また
)本発明複製材料は中間層がなく光重合性層だけの一層
から構成されているために為製造が容易であり1一つの
水系溶剤で現像でき簡便である。
さらに1現像時に有機溶剤を使用しないので1臭気など
の作業環境面1爆発などの安全性の面1フスト面で有利
である。
本発明画像材料の用途としては1上述の返し返し用フィ
ルム以外に1各種の電気機器1電子機器1光学機器など
の製造時の感光性材料としても使用できる。
次に1本発明を実施例を用いて具体例に説明する。実施
例中1単に部とあるのは重量部を示す。
なお為光学濃度は1分光光度針を用−て測定し1所定波
長における光学濃度で示した。
実施例 L 厚さ100μのポリエステルフィルムに下記の組成物を
リバースコーターでコーティングし1乾燥することによ
り1接着層を被覆したポリエステルフィルムを作製した
バイ四ン2oss         50部(飽和ポリ
エステル接着剤 東洋紡績製)コ四ネート’[J   
        2.7部(日本ぎりウレタン工業製) U−Cat 5A−No、 102      0.O
s部(サンアボット社製) トルエン            30部メチルエチル
ケトン           20部次に下記の組成か
らなる光重合性層用の組成物ヲ調製し、リバースコータ
ーにて上記の接着層を設けたポリエステルフィルムにコ
ーティングし1厚さ4μの光重合性層を被覆した。
カーボンブラック(平均粒径18I11μ)     
 7部トリメチU−ルプ四バントリアクリレート   
     32部2−メルカプトベンゾイミダゾール 
           3fA八イド四キノンモノメチ
ルエーテル          0.03部メタ/−/
I/           100部得られた感光性フ
ィルムの分光感度をsoo vキ七ノンランプを用−た
ナルミ商会■製回折格子型分光器(RM−as型)によ
り測定したところ1320〜400 mμであった。ま
た、日立製作所■製・320型自記分光光度計によシ1
光学濃度を測定したところ1第2図の曲線1の如くにな
り% 400 Illμで2.41であった。(以下の
実施例における光学濃度は1上記の測定器を使用した。
) 次にS21段ステップガイド(コダック社製)と1!1
0ノ/立−%5〜95%の網点を組み合わせたテスト用
ネガフィルムで1ポリマープリンター5ooo (オー
ク製作新製)を使用して露光し、4%炭酸ソーダ水溶液
で9秒浸漬し水洗して現像した。ステップガイドの6段
(透過率15.85%)を硬化させるのに要した露・光
時間は7秒で十分であった。またベタ部のピンホールも
なく為光学濃度も400 waμで2.40あり低下は
みられなかった。この現像フィルムを2%炭酸ソーダ水
溶液に40秒浸漬し水洗したところ1網点は平均して1
3%減力されておシー%5%の網点も良好に残っていた
またベタ部のピンホール発生もなく、光学濃度は400
mμで2.38あり1良好であった。
実施例 2 実施例1と同じ接着層を被覆したポリエステルフィルム
を使用して1リバースコーターで下記の組成からなる光
重合性層を厚さ4μにコーティングした0 カーボンブラック          6部ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート        32部
2−メルカプトベンゾキサゾール          
  3部エオシンτ            0・3部
メタノール           100部さらに1こ
のフィルム上に下記の組成からなる保護層用組成物を同
様にコーティングして厚さ2μの保護層を有する感光性
フィルムを作製した。
/イゲンEA140(第一工業製薬■製)     3
部エチレングリコールモツプチルエーテル      
    7部水                  
    920部実施例1と同様にして、得られた感光
性フィルムの光学濃度を測定したところ)第2図の曲線
2のようになり%40011μで2.01であった。
次にポリマープリンター3000で1実施例1と同じテ
スト用ネガフィルムを使用して露光し1水洗した後4%
炭酸ソーダ水溶液に10秒浸漬し水1で 洗した@ステップガイドの6段を硬化させるの膚要した
露光時間は5秒であり1短時間で十分であった。またベ
タ部のピンホールもほとんどなく、光学濃度は4001
mμで1,99で低下#′iなかった。
この現像フィルムを2%炭酸ソーダ水溶液に45秒浸漬
し水洗し念ところ)網点は平均して12%減力されてお
り)網点はシャープに残っていた。
またベタ部のピンホール発生もなく1光学濃度は400
 mμで1.97あり良好であった。
次に文字と網点(150νin)#コンビになっている
ポジフィルムを用いて1本実施例の感光性フィル基に上
述の如く露光1現像したところ1ピンホールの発生がな
く1オペークの必要がなかった。
この現像フィルムを使って1ネガ型PS版SGN −1
(富士写真フィルム製)に通常の方法に従って露光1現
像1ガムびきをした。このSP版を用いてリョービKR
一番80オ7セッ)印刷機(リョービ製作所製)で印刷
したところ1銀塩フイルムで光学濃度が低いときにみら
れる地汚れがなく一文字および網点も原稿をよく再現し
ておシ良好であった0 実施例 & 実施例1と同じ接着層を被複したポリエステルフィル^
を用いて1リバースフ−ターで下記の組成からなる光重
合性層を厚さ番μにコーティングした■ ニーブチル(20モル%)共重合体 カーボンブラック            8部ドリメ
チロールプ田パントリメタクリレート       3
2部2−メルカプトベンゾチアゾール        
 4部^イドマキノンモノメチルエーテル      
0.039メタノール           100部
この光重合性層の上に1実施例2と同様にしてポリビニ
ルアルコールからなる保護層を厚さ2μにコーティング
した。
この感光性フィルムの光学濃度は1第2図曲線3の如く
であシq400mμで2.76であった。次にポリマー
プリンターSOOにょシ1実施例1と同じネガフィルム
を使用して露光し1水洗した後4%炭酸ソーダに5秒浸
漬し水洗した。ステップガイドの6段を硬化させるのに
要した露光時間は9秒であり1短時間であった。現像し
たフィルムは1ペタ部にピンホールもなく1光学濃度は
40011μで2,74あシ低下していなかった。この
現像フィルムを2弧炭酸ソーダ水溶液に30秒浸漬し水
洗したところ1網点は平給して14%減力されており為
網点の形状は良好であった。またベタ部のピンホール発
生もなく1光学濃度は400 mlμで2.72あり低
下していなかった。
次に嘱独立点(最小直、径100μ))細線(最小線幅
5oμ))網点(150j/1m)、文字がコンビにな
っているテスト用ポジフィルムを用いて1本実施例の感
光性フィルムに上述の如く露光・現像したところ1ピン
ホールはなく、オペークの必要はなかった。この現像フ
ィルムを使用して感光性樹脂板・東洋紡プリンタイト(
東洋紡績■製)にケミカルランプで6分露光し12.5
分水現像し1乾燥後13分後露光を行なった。この製版
した樹脂板を使用して1凸版自動校正機5ASD機(清
水製作新製)で通常の如く印刷した。印刷物は独立点1
細線)網点をよく再現しており1また銀塩フィルムで光
学濃度が低−ときにみられる白地の汚れも全くみられな
かった。
実施例 本 接着層を被覆したポリエステルフィルムを用いて)下記
の組成からなる光重合性層をワバースフーターにて淳さ
3.5μにコーティングした。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸・ アクリル!−2−エチルへ中シル共      49部
重合体(!to:30:20モル%) 二酸化二鉄(X’ez03)          a部
ペンタエリスリトールテトラアクリレ−)      
   30部ff−フェニルグリシン        
      3部ハイ寵キ/ンモノメチルエーテル  
        0.03 Nメタノール      
     100部この光重合性層の上に)実施例2と
同様にて保護層を厚さ1・5μにコーティングした。
この感光性フィルムの光学濃度は1第a図曲線4に示す
如くであシs 400 mμで2.55であった。
次にポリマープリンター3000により1実施例1と同
じネガフィルムを使用して露光し1水洗後4%炭酸ソー
ダに7秒浸漬し水洗した。ステップガイドの6段を硬化
させるのに要した露光時間は10秒であった。現像した
フィルムはベタ部にピンホールがほとんどなく1光学濃
度は400 IIμで2.52あり低下していなかった
。この現像フィルムを4%炭酸ソーダーに25秒浸漬し
水洗したとζろ)網点は平均して13≦減力されており
、ベタ部のピンホール発生や光学濃度の低下はなく良好
であった。
比較例 L 接着層を被覆したポリエステルフィルムを用−て、リバ
ースコーターで下記の組成からなる光重合性層を厚さ4
μにコーティングした。
カーボンブラック               4部
2−メルカプトベンゾイミダゾール       3部
トリメチp−ルプロパントリメタクリレー)     
   32m2mアクリジンイニル         
  o・3部メタノール           100
部この光重合性層の上に1実施例2と同様にして保護層
を厚さ2μにコーティングした。
得られた感光性フィルムの光学濃度は)第2図曲!!5
の如くであり、 400 ”l’で1.35であった。
実施何番と同様にして露光・現像したところ)6段を硬
化させるのに要した露光時間は4秒であり)ピンホール
の発生もなく1光学濃度の低下もなかった。この現像フ
ィルムを2%炭酸ソーダに2分浸漬したところ、網点は
平均して2%減力されているだけであり1さらに3分浸
漬すると5〜30≦の網点がなくなっておシ、減力は困
難であった0次に1実施例2と同じポジフィルムを用い
て、本比較例の感光性フィルムを上述の如く露光・現像
した。この現像フィルムを使って1実施例2と同様にし
てネガ型ps版を現像し1オフセット印刷機によシ印刷
したところ1印刷物の白地が全体に汚れて―て実用的な
ものではなかった。これは本実施例の感光性フィルムの
光学濃度が低すぎるために発生したものである。
比較例2〜4 実施例1〜3の光重合性組成物におけるポリマーおよび
カーボンブラックの配合量のみを第1表に示したように
変え1他の化合物は同じ配合量からなる光重合性組成物
を調製した。
実施例1〜3と同様にしてS接着層を有するポリエステ
ルフィルムに光重合性層をコーティングし1その上に保
論層をコーティングすることによシ1感光性フィルムを
作製した。
本比較例2% 3% 4のフィルムの光学濃度は1それ
ぞれ第2図の曲H6S”−18の如くであった。これら
の感光性フィルムを1実施例1.113と各々同様にし
て露光・現像した0さらに1この現像フィルムを使用し
て減力を行なった。この結果を第1表に併記する。
第   1   表 上記第1表よシ明らかなように、光重合性層の光学濃度
がP (350、4,0)、U (395t 3−0 
)ST (500、s、o)を結ぶ線より高いと、露光
に長時間を要するため)実際の作業では能率がかなり低
下する。また1現像後のフィルムは)ベタ部にピンホー
ルが多かったのでオペークしたところ1フィルム面が全
体に赤くなるほどで1非常に面倒であり1実用的でない
と判断される。さらに減力したフィルムでは1光学濃度
の低下が非常に大きく1網点形状も乱れており(実際に
使用できるものではなかった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明画像複製材料の波長350〜50011
μにおける光学濃度の範囲を示したグラフであり、第2
図は実施例および比較例で得られた画像複製材料の光学
濃度を示したグラフである。 それぞれ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 透明な支持体と接着層および光重合性層を含む両像
    複製材料において)該光重合性層が皮膜形成性かつ水系
    溶剤可溶性の高分子物質に顔料を含み1波長350〜5
    00 mlμにおいて第1図に示す点P (350,4
    ,0)−1cL(350、z、o )、R(400゜1
    .5)、s (5oo 、 1.5 )N T (+5
    00 、3.0)%U (ses 、 s、o )を結
    んで得られる六角形によって包含される領域(但し1点
    Uおよび点Uと点Tとを結ぶ線上は含まない0)の光学
    濃度を有することを特徴とする画像複製材料。 2 透明な支持体と接着層および光重合性層を含む画像
    複製材料であって1散光重合性層が皮膜形成性かつ水系
    溶剤可溶性の高分子物質に顔料を含み1波長350〜5
    00 mlμにおいて図に示す点P(350、4,0)
    、Q (,350、z、o )SR(aoo 。 1−5 )%  S (5oo  y  1.5  )
    、T (500、3,0)XU(ses 、 s、o 
    )を結んで得られる六角形によって包含される領域の光
    学濃度を有している画像複製材料を画像露光し1水系溶
    剤にて未露光部を除去し為必要により減力することを特
    徴とする画像複製方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60208748A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JPS62284349A (ja) * 1986-04-22 1987-12-10 ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニ− 光重合性組成物
JPS6311930A (ja) * 1986-07-03 1988-01-19 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5535385A (en) * 1978-09-05 1980-03-12 Toyobo Co Ltd Photopolymerizable laminate and image formation method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5535385A (en) * 1978-09-05 1980-03-12 Toyobo Co Ltd Photopolymerizable laminate and image formation method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60208748A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JPS62284349A (ja) * 1986-04-22 1987-12-10 ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニ− 光重合性組成物
JPS6311930A (ja) * 1986-07-03 1988-01-19 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物

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