JPS5860588A - Ｔｅ型レ−ザ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

この発明はレーザー室内部にレーザー元軸に平行に広が
った第一電極と第二電極が間隔を保って対向し、これら
の電極の間のガス室に発生下るできるだけ均等な無アー
ク・コンデンサ放電によって励起さｎ、るＴＥ型レーデ
−特に高出力レーデＴＥレーザー（横励起レーザー）は
工業規模の光化学反応装置に特に適しているが、その定
め（＝は長いパルス長と高い繰０返し数とできるだけ大
きな出力とが望まれる。同時にレーザー元発％Ｑ）効率
が高いことが要求される。 物理的の理由からレーザーの単位体積当りの最大エネル
ギーが限定されるからできるだけ大きな容積とするのが
有利であるように考えら几る。繰り返し数？高くてる場
合二つり）レーザー元ノクルスの間でレーザー　ガス乞
複数回交喪することが必要であるから、レーザー・ガス
は比較的高速度でレーデ−室の電＠ＡＯ）間？流さなけ
ればならな！／）。 経済上と技術上の理由からはガス循環用のベンチレータ
の所要電力？小さくてるため通流抵抗乞最低にしなけれ
ばならない。更に高い変換効率？達成下るためには励起
回路のパルスの形状カ重要テある。そのためパルス形成
回路？プリュームライン回路又は電荷移送回路の形と下
ることは既に提案されている。 屑出力レーザーの場合一連の条件が要求されるがその一
部は互に矛盾している。例えばレーザー室とパルス回路
とレーザー室？結ぶ１腺はできるだけ低インダクタンス
のものでなければならないｈ−こｒＬ、はＣきるだけコ
ンパクトな構造とするこ−とに工って達成さ几ろ。しか
しこの場合切線方向り）電界成分が原因となってレーザ
ー容器の内壁面に沿って火花教室が発生する危険がある
。放電室に］’　Ｄｅｎイオン化用の補助電極２投ける
とこの火花・ｌｖ、七発王の危険は一層増大下る。 上記の電位と沿面放電の問題乞解決下るため個々のンー
デー電極とそれ？包囲する電流導体の聞で岐覆絶縁材料
内に空隙２作り、この空隙に遮蔽小咄を挿入して遮蔽電
極内部にあるレーデ−電極の電位に接続下ることは既に
提案されている。この公知レーデ−装置には媒質ガスが
縦に流れるものと横に流れるものとがありこの発明の出
発点とな−っているもＵ）であるが、予備イオン化用の
補助市αを放電室内に組合せ設置下る際電流導体との間
にそれ以上短くてることが許されない最小間隔を保持て
る必要があり、それによってレーザー室のインダクタン
スが増大しあるいはこのインダクタンスの値に使用され
た絶縁材料の絶縁破壊強度によって定まる下限界がある
ことが問題となる。 この発明の八本的な目的は、冒頭に挙げた種類のレーザ
ー特に高出力レーザーが比較的大きな枚重容積（：おい
ても極めて低い自己インダクタンス２待つようにするこ
とである。この発明によるレーザーは基本的（：１．ま
縦方向のガス流にも横方向のカス流にも使用され、縦形
式から横形式への変更およびその逆の変更が比較的簡単
な構造変えによって可能である。横流式の場合特にガス
通流抵抗が低く、比較的小さいポンプ出力によってレー
ザーパルス間に多数回り）ガス交換を実施下ることがで
きる１、この発明の別の目的はモデルポ１■１γてが可
能であるようにレーザー７ａ−構成することである。 上記の目的は特許請求の範囲第１項（＝特徴として挙げ
た構造乞採用Ｔることによって達成されろ。 こ０）発明の種々の実施形態は特許請求の範囲第２項り
法王に示されている。 こび〕発明によるレーザーの七要点は部分放電室が３国
電流導体を包囲していることである。これに工って可能
となる対称構造によりレーザー・パルスが完全に一様な
挙動を示Ｔよう（−なる。この−発明による・湧出力レ
ーザー装置は基本的にモデル組σ形式の多重構造に適し
ているから、二つの対向下る部分電碌対に限定さ几るこ
となく、多数の構成ニーノドの多重組合せが可能である
。即ち部分−１＾鴎、電流導体とその絶縁破覆、絶縁被
覆で包まれ定遮蔽Ｆｉ−１′極、予備イオン化用の補助
電極等乞溝成要素方式に従って予め製作しておくことが
できる。 この発明Ｕ）改種Ｕ〕実施例乞示した図面についてこの
発明２更に詳細に説明下る。 第１図、第２図の横励起型高出力レーデ−はレーデ−元
軸ＯＡｉ二平行に広がり間隔ａ１４保ってｉ−）同下る
少くとも二つの電梅即ち第一電極Ｅｌと第二電ｈ１ｒ、
ｚｚの間のガス室Ｇに発生するできるだけ均等な無アー
ク・コンデンサ教室によって励起される。電極Ｅ１とＥ
２はそ几ぞれ二っσ）部分電極ＦＪｌｌ’、Ｅ１２およ
びＥ２１．ｐ２２ｃ分割され、予備イオンｆヒ装置Ｖｌ
　、Ｖ２と共に第３図に示したレーザー室Ｌ　Ｋ　Ｏ）
気密容器２内に設けられている。予備イオン化装ＫＶ　
１　、　Ｖ　２は第１図、第２因の実施例では内部導体
３と絶縁被覆４から成る棒状の補助電極であり、対応す
る部分電極Ｅ１１．Ｅ１２．Ｅ２１．ｌ：２２＋二対し
て枚重間隙ａ２ｉ保ってレーザー軸に平行に置かれてい
る。 この種の予備イオン比装行の構成とその動作回路は既に
提案されているも−のであるからここではその詳細に立
ち入らない。 電極Ｅ１の部分室％Ｅ１１とＥ１２はパルス形成回路Ｐ
ＦＮから遠い側に設けられ、ブリッジ片ｂｌｉ介して電
流導体ｅ１に接続さ几、パルス回路Ｐ　’Ｆ　Ｎに近い
電極Ｅ２の部分電極Ｅ２１とＥ２２は電流導体ｅ２に接
続さ几ている。この電流導体ｅ２は部分電極Ｅ２１とＥ
２２の間の導電ブリツ、＞ハの杉にしても、にいが、大
きな金属板として同時に基準電位（地電位）板として使
用ＴることもＩＪＪ能である。高出力レーザーの電極と
パルス回路の間の電気的結合ならびにパルス回路の接続
は西独国特許出願公開第２９３２７８１号公報に詳細に
記載されているからここではその詳細に＼γ人ら７ｃい
が、パルス回路が例えばプリュームライン回□”を又は
電荷移送回路として構成され、例えばサイラトロン、火
花’ｐＭ　Ｎ、プラズマスイッチ等の高速ＩＷ高高正圧
スイッチング間隙一種であることだけを述べておく。 レーザー室ＬＫにはレーデ−・ガス（これは第−実弛例
では矢印Ｇ１で示すようにレーザー元軸ＯＡに垂直に流
ｉする）の導入装置が設けられている。この発明の対象
である高出力レーデ−は例えばエキシマ・レーデ−又は
ＣＯ２レーザーであるが、＋ｉｉｆ者ζ二ツイては雑誌
（ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｔｏｄａｙ”１’１ｌａｙ、　１　
’ｊ　７８　、　ｐ、３２　３９）に詳細に記載されて
いる。 特に第１図に不丁ように対向下るレーザー室（１ハＥｌ
　、Ｅ２はそれぞル二つの部分電極Ｅｌｌ、Ｅ１２およ
びＥ２１．Ｅ２２から成り、部分電極ＥｌｌとＥ１２は
ブリッジ片ｂ１によって電気的ならびにｉｔ的に結合さ
れている。ブリッジ片ｂ１はレーザー軸に平行に長く延
びた板であり、部分電極は同じくレーザー軸方向に広が
った金属帯である。 部分電極Ｅ２１とＥ２２は帰還電流導体％ｅ２に電気的
機械的に結分され、導体板ｅ２は部分電極Ｅ２１とＥ２
２の中間に電流導体ｅ１に対するブッｉ／７グ乞備えて
いる。良導電性の金興仮が使用されている帰還電流導体
ｅ２はピン、棒、又はボルト状の電流導体ｅ１との間隔
が小さいときはブッシング馨通丁孔乞備えたブリッジ板
とすることができる。図示の実施例ではｅｌと８２は別
々の板である。対乞なして対向する部分電極ＥｌｌとＥ
２１およびＥ１２とＥ２２はその間にガスＪｆ！ｌ電室
１′Ｐｒ：はさむ。このガス放電室は二つσ）部分電極
て・↑の間（二分別されて存在Ｔるからそれぞれ部分放
電室と呼ばれる。これらの部分放電室の間の空間ｆηに
はｅｌとして示されている絶縁材料で被覆さｒｔた電流
導体がパルス回路ＰＦＮから遠い部分室ｆｉｉＢ１１．
Ｅｘ２のブリッジ片ｂ１に電冶乞導く定めに、投けられ
ている。この電７ｋ　４体ｅ１は部分’Ｉ＆ＭＩＰ２１
１．２Ｅ１２の間の中聞室と二つの部分放電室（１，１
）の間の空間ｍＹ通り、更に部分室（ｈＥ＋ｚ１とＥ２
２の中間と第二電極Ｅ２σ）帰還電流導体ｅ２ｆ絶、を
梁貫通してパルス回路Ｐ　Ｆ　Ｎ　Ｑ）　−Ｊンデンサ
電極の■続端子ｆ１まで延びそこに結合さ几でいる。そ
のため電流導体ｅ１に扁平な接続片ｅｌｌが作られてい
る。端子ｆ１に所属下るコンデンサ導体層は破１ｌｃｌ
で暗示されている。 ａｌｌとｆｌの間の接触は硬ろう付は又は溶接によるの
が有利であるがねじ止めとすることも基本的には可能で
ある。電流導体ｅ１の他端においては電櫛ブリッジ片ｂ
１との間の接触が同様にねじ止め、硬ろう付は又は溶償
に工って行われる。帰還電流導体ｅ２は詳細には示され
ていないパルス回路ＰＦＮのコンデンサ層Ｃ２の接続端
−ｆ−Ｃ２１に接触下る。コンデンナ層Ｃ２にはブツン
ング部分に切り開きｃ２０が作られている。 第１図と第２図に示−ｒ、（うに絶縁被覆された電流導
体ｅ１はレーザー軸ＯＡの方向に間隔ａ３４おいて配置
されているからその間に横方向ガス流Ｇ１のためのレー
ザー軸に垂直に伸びた中間室５が形成される。 第１図、第２図には更に電流導体ｅｌがピン。 棒又はボルトの形の導体棒６であり、少くとも対回部分
電極ＥｌｌとＥ２１、Ｅｌ２とＥ２２の間にある部分ａ
１か細くなっていて導体棒６と絶縁被覆７の間Ｃ二中空
室８が形成されていることが示さ几ている。この中空室
８によって絶縁被覆の表面に発／ＥＴる沿面放電に対Ｔ
る波動インピーダンスが高くなる。中空室８の長さはａ
ｌより大きくしても、Ａいができるだけそ几に近いもＱ
）とする。 導体棒すの絶縁被覆７は耐熱性、耐紫外線性の金ｈ’ｔ
ｍｑ旨１刈えばＰＶＤＦ　　（ポリフッ化ヒ゛ニリデン
）で作るａｌあるいは高純変のＡｌ２Ｏ３セラミックの
手性と下る。電界分布？有利にするため導体棒６θ）両
脇の太い部分から中央部の細い部分への移行は図に一例
として示Ｔように連続的に−「るか又は浅いＳ字形と下
る。パルス回路ＰＦＮ側の棒端部分では絶縁被覆７が厚
い壁乞持つ脚部７ａとなっている。この脚部７ａはその
一部を中空円筒形としてもよいが５図に示す工うな貫通
孔マｂ７持つ（角縁ｊ戊形体としてもよい。 脚部゛ｚａに作らｆした切り込み７Ｃには遮蔽電極８．
３が挿入さ几る。この遮蔽電極は結合導ｒＪｅ３？１ｍ
して電流導体ｅ２の地電位イニ接続さ几、第二七Ｓｚ２
の部分電極Ｅ２１．Ｅ２２と電流導体ｅ１ａｙ　ｌＬ’
ｌ　ｉ二突き出している。この場合方形又はピン列形に
作られ定遮蔽電極Ｅ３が電流導体ｅ１の両側で空室７Ｃ
又は中間室ｍ１に突き出した構造と下ると特に有利であ
る。遮蔽電穐は断面がほぼＵ字形の空室７Ｃ内に収めら
れる。図に示した方形の遮蔽電極Ｅ３は結合導体ｅ３を
介して電流導体板ｅ２と機械的ならびに電気的に結合下
る際その端邪乞復触端板の形にしこれを溝に押し込むよ
うにＴること（二よって確実な結合が著しく簡単（二行
なわれる。 遮蔽電極Ｅ３は少くとも部分電極Ｅ２１．Ｅ２２および
予備イオン１ヒ電極Ｖ２が存在する範囲だけレーザー軸
に垂直の方向にガス室Ｇ、ｍｌ内に広がっているように
すると有利である。 部分電極Ｅ１１．Ｅ１２およびＥ２１．Ｅ２２はそ几ぞ
れ所属Ｔるブリッジ片ｂ１又は電流導体板ｅ２にねじ止
めすると有利であり、それによってそれらの接触面間の
接触乞良好にし、又必要に応じて部分市極乞簡単Ｉ：交
換することかできる。 電流導体ｅ１α）導体棒６と絶縁被覆７の間の空室８に
より前に述べたように絶縁材料の表面に沿っての放電に
対Ｔる波動インピーダンスを高め、遮蔽電極Ｅ３と同様
に沿面放電の発生を阻止する。 予備イオン化用の補助型％　ｖ２が電流導体ｅ１の電位

【装置つ・れているからこの電極と対応する部分′市軸
Ｅ２１．Ｅ２２の間には強電界が形成さ几所望のｔ備イ
オンｒヒ乞実現する。他方電流導体ｅ２９】電位に置か
れている補助電極■１とセルに対間する部分′電極Ｅｌ
　１　、Ｅｌ　２の間にも同様に強いｔｔ界が形成され
ろ。ただしレーデ−室のこの側では電流導体ｅｌ、電極
ブリッジ片１１１０）外電晦Ｅ１１とＥ　１２　ウ”、
はぼ等電位に置かれているから沿面放電￥閉止下る特別
な手段を必要としない。 第２図に示ＴＪ、うに中間室５と絶縁被覆７を持つ導体
棒６がレーザー　ガスＧ１に対して比較的低い通流抵抗
を示す構造となっている。絶縁被覆７の外形は通流抵抗
？できるだけ低くする条件に適合したものに下る。例え
ば中曲室５Ｃ：、ｒ、つて決定される曲流路の形状はデ
ィフューザ又はベンチュリ管状と下る。このような形状
によりポンプ出力２低くＴることも可能である。 電極装置Ｅｌ　、Ｅ２は第３図に示ＴＪ：うに−っの容
器ｊ司に収められている。この容器はタンクとも呼ばれ
ていて希ガスとハロゲン父はハロデノ不・含む化合物の
混合物であるかあるいは窒素と二酸化炭素の混合物であ
る侵食性のレーザー　ガスに耐える材料で作られる。漏
斗状の導入口９と排出口１０は送風機とガス浄化装置お
よびガス冷却装＠ン含む外部ガス循環路に結ばれる。絶
縁材料の隔壁１１はガスが放電室１の横７曲り抜けるこ
と馨６目止する。 この装置は第４図に示し定装置と同じく祷その他の光学
部品によって二つの放電間隙Ｅｌｌ−Ｅ２１、Ｅ１２−
Ｅ２２を直列に接続すること、あるいは並列搭続して増
幅器又は発振器とすることが可能である。 第１図に対応下る断面図である第４図に示した実施例で
はガス室Ｇ父は画部分放電室〕、１？レーデ−・ガスが
矢印Ｇ２でホ丁ように元軸ＯＡの方向Ｃ二流れる。レー
ザーが低い繰り返し数で動作する必要があり、縦方向υ
）ガス流でも続く二つのレーサー・パルスの間にガスの
交換が確実に行な４）几る場合にはこの構成が合理的で
ある。この場合准縁肢Ｉ暑さ几に電流導体ｅ１′は切り
開きり〕ない幅の広い坂であり化インダクタンスという
長所を１゛１つている１、従って第２図に示さ几ている
中間室５がなく、絶縫被覆７は電流導体ｅ１１と同様に
連ｂ？ａ　Ｌ定数す）形である。第３図の矢印Ｇ１で示
した横方向Ｑ〕レーザー　ガス流の場合には電流導体ｅ
１１府〕形にし、ガス乞流丁ための貫通孔ン設け、そｎ
＋＝、＜４応して適当な絶縁被覆７Ｃ包むこともこＱ）
発明の枠内ｌ二ある。 第１区乃至第３図に細部を示したレーザーの全体７慟め
て簡単（ヒした形で第５図に示Ｔ。対向Ｔる部分電極の
対Ｅｌｌ−Ｅ２１およびＥ１２−Ｅ２２はビーム偏向装
置１２によって光学的に縦続接ｆ売され光学的Ｑ〕増幅
器に形成下るからレーデ−元ビームＬ１は第一部分レー
ザー室ＬＫＩを通り、偏向装置１２．１２で２回偏向さ
れ、第二部メｉｔレーデー室ＬＫ２を通った後増幅され
たレーザー・ビームとして外に出る。横方向のガス流は
矢印Ｇ１で示され、型締導体ｅ１は破線で示されている
。縦万回θ〕ガス流Ｇ２の場合にも適当な板状の電流導
体ｅｌ’Ｙ使用するだけで原理的には第５図に示された
ものとなる。元ビーム偏向装置１２としては鏡、プリズ
ム、格子等が考えられろ。図には二つの徐属債がレーデ
−元ビームと元学軸ＯＡに対して４５°　傾斜して設け
ら凡ている。 第６図に示した第四の実施例ではそ几ぞれ二つの対向す
る部分電極？備える複数のレーザー室ＬＫＩ、ＬＫ２等
がレーザー元軸ＯＡに垂直な方向に配列されている。各
レーザー室ＬＫ１．ＬＫ２等と部分レーザー室（ＬＫＩ
　１　、ＬＫＩ　２）、（ＬＫ２１　、ＬＫ２２１等は
第５図にボした元ビーム偏向装置１２にエリ光学的ｆ：
直列に後続され、レーデ−元ビームＬ１は鏡１２１と１
２２で２回反射した後ビームＬ２として第二部分レーザ
ー室ＬＫ１２乞通り抜け、暎１２．３と１２４で２回反
射した後ビームＬ３として第三部分レーデ−室ＬＫ２１
乞通り抜け、鏡１２５と１２６で２回反射しに後ビーム
Ｌ４として第四部分レーザー室ＬＫ２２’ｔ’通り抜は
増幅された光ビームとして外に出る。光ビームＬ１乃至
Ｌ４に２けた矢印で示さｎる工うにこの多重系は特定の
優先方向に放射し、七〇）他の方向には放射しない。こ
の特性があらゆる動作状態において確保さ几るため元ビ
ーム偏向装置１２の中間に第一方向素子として所定方向
だけに透過性である光学要素１３乞設ける。こ力要素と
しては公知の可飽和光吸収体又はファラデー・回転子が
使用さ几る。図示の実施例ではこの種の光学要素１３１
乃至１３３が二つの隣り合せた偏向装置の間の光路に挿
入されている。この実施例には縦方向のガス流が有利で
あるが隣り合せたレーザー室の間に特別なガス流路？設
ければ↑黄ガ回（矢印Ｇ２）のガス流の使用も有利であ
る。 第６図において第一レーザー室ＬＫＩの部分電極は第５
図と同じ符号で示され、第二し〜ザー室］、　Ｋ　２で
は対向する部分電極がＥ４１−ｆｉ：５ｘお工びＥ４２
−Ｅ５２として示されている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第一の実築例の部分断面図、第２図
は第１図の■−■線に沿った断面図。 第５図は第一の実施例の簡略化した全体図、第４図は第
二の実施例、第５図は第三の実施例、第６図は第畠施例
のそれぞれ概略四である。 Ｅｌ、Ｅ２・・・レーデ−電極、　Ｅｌｌ、Ｅｌ２　。 Ｅ２１　、Ｅ２２・・・レーザー電極の部分電場、　ｂ
ｌ・・・ブリッジ片、　と・・・部分放電室、ｅｅｌ。 ｅ２．・、電？Ｍｍ体、ＰＦ’Ｎ・・・パルス回路。 ｆｌ・・・コンデンサ接触面、　Ｇｌ　、Ｇ２・・・　
レーザー・ガス流。 （６１１８）代理人ｆＦ理士富村　辱

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＩＨｘ）対向−「るレーザー電橋ＩＥ、１．Ｅ２）がそ
   れぞれ少くとも二つの部分電極（Ｅｌｌ、Ｅｌ２父はＥ
   ２１　、Ｅ２−２１かｆ’）５１１４１１、パルス回路
   （ＰＦ’Ｎ）から遠い第一部分電極（Ｅｌ　１　、Ｅｌ
   　２１がブリッジ片（ｂｌ）によって結合されているこ
   と。 （２）一対となって対向下る部分電極（ＥｌｌとＥ２１
   又はＥｌ２とＥ２２）の間に部分放電室（１）が形「戊
   されていること、４ｓ１　　部分１孜電室の間の中間４
   （ｍ）に絶縁物で包まれた電〃ｆ導体（ｅｌ）がブリッ
   ジ片（ｂ１〕に対して設けられ、こＱ−電流導体がパル
   ス回路（ＰＦＮ）に接続された第一部分電極（Ｅ２１と
   ビ２２）に対する電流導体（ｅ２）’２絶縁貫通してパ
   ルス回路（ＰＦＮｌのコンデンサ接帥面（ｆｌ）まで１
   ｔシていること ？特徴とするレーデ−の光柚に平？１に広がりｊ１領し
   保って対向する第−電梅と第二電極の間のガス室に発／
   −ｔＥＴる無アーク・コンデンサｈ（電によって励起さ
   れるＴＥ型レーデ−０、シ）　　絶縁物で包まれた電流
   導体（ｅｌ）がセルぞｆＬ単独体として構成されてレー
   ザー元軸（ＯＡ＋の方向に相互間隔ｆ８３１％’保って
   配置されるかあるいは切り開きをもつ板状の連′−ん体
   として構成され、それによってレーザー元軸を横切って
   広がる中間室（５）が横方向ガス流ｕ）ｙ’６めに形成
   されていることを特徴と−「るレーデ−元軸に対して横
   方向にレーザーガスが冶ｉ％る特許請求の範囲第１項記
   載０）レ−ｆ−，。 ・３）　他イ４物で包まｎた電流導体（ｅ　］’　）が
   切り開き０）ない板状体であること乞特徴とＴるし、−
   デー元軸に平行にレーザーガスが流れる特許１：ｎ求υ
   〕範囲第１項記絨のレーデ−８４）　第二電極（Ｅ２）
   の部分電極（Ｅ２１゜Ｅ２２）の間の中間室（ｍｌ）と
   電流導体（ｅｌ）の間に絶縁物で包まれた／遮蔽室ｔｌ
   ｉｉｉ（Ｅ３）が突き出し、この電極が電流導体（ｅ２
   〕の地電位に接続されていること乞特徴とする特許請求
   の範囲第１項乃至第３項の一つに記載のレーデ−８ ５）　少くとも部分電極（Ｅ２１．Ｅ２２）とそれに所
   属する予備イオン化電極の碩謔がレーザー元軸を横切っ
   て広がっている範囲内において遮蔽電極（Ｅ３）がガス
   室（Ｇ）内に突き出していること？特徴とＴる電極表面
   から僅かの間隔を保ってレーザー元軸に平行に設けられ
   た予備イオン化電Ａｖ備える特許請求の範囲第４項記載
   のレーザー。 ６）　電流導体（ｅｌ）の両側Ｃ：あってメサ形又はピ
   ン列の形Ｃ二作ら１また遮蔽電極（Ｅ３）が第二部分電
   極［Ｅ２１．Ｅ２２）の電流導体（ｅ２）からガス室内
   に突き出していること。 二の遮蔽電極がほぼＵ字形のチ色縁練＾（１）で包まれ
   ていること乞特徴とＴる特許請求の範囲第４項又は第５
   項記載のレーザー。 ７）　電／７１ｆ導体（ｅｌ）がピン形又はボルト形の
   導体棒であり対向する部分室ｈ”ｆｉ（ＥｌｘとＥ２１
   、Ｅ１２とＥ２２〕の間において細くなり、導体棒（６
   ）とその絶縁被覆（７）の間に空室（８）が形成されて
   いること乞特徴とする特許請求の範囲第２項記載のレー
   ザー。 ８）導体棒（６）の太い部分から細い部分への移１ｉＨ
   ａ、ａｂ）が連続旧であること乞特徴と下る特許請求の
   範囲第７項記載のレーザＯ す〕　空４＜８）が少くともペルス回路から遠い部分電
   極（Ｅｌｌ、Ｅ１２）の表面のレーザー元軸に垂直な部
   分からパルス回路に近い部分電極（Ｅ２１．Ｅ２２）の
   表面のレーデ−元軸に垂直な部分まで広がっていること
   乞特徴と下る特許請求の範囲第１項又は＠８項記載のレ
   ーデ１０）　　電流導体（ｅｌ）の絶縁被覆が、遮蔽電
   極（Ｅ３）が存在下る区域で壁が厚い脚部と一体に結合
   さル、この脚部の壁に遮蔽室ｔＪｌ収容する室が作られ
   ていること乞特徴と下る特許請求の範囲＠２項乃至第８
   項の一つに記載のレーザー。 １１）　　電抛対として対向する部分室ｔ−＞（Ｅ’ｌ
   ｌとＥ２１．Ｅ１２とＥ２２）の間に作られた二つの部
   分放電室（１）が鏡、プリズム、格子等の光線偏向装置
   にエリ元学的に縦続廣続されていること乞特徴とする特
   許請求の範囲第１項乃至第１０項の一つに記載のレーザ
   ー。 １２）それぞれ二つＧ・）対向Ｔる部分電極対乞備える
   レーザー室の複数個がその元学軸に対して横方向に並べ
   られ多用レーデー系を構成下ること乞特徴と下る特許請
   求の範囲第１項乃至第１１ｑ４の一つに記載のレーザー
   。　　　　−１３）　　多重レーザー系の各レーザー室
   が光線偏向装置によって元学俺に直列接続されているこ
   と乞特徴と下る特許請求の範囲＠１１項又は第１２項記
   載のレーザー。 １４）　　縦方向のレーザー媒質ガス１５１ｆＹ作る装
   置が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １３項記載のレーザー。 １５）　　光線偏向装置の間の元線路に所定の元線方回
   において透明な光学素子（用方向素子）が１可飽和吸収
   体、ファラデー回転子等の形で挿入されていることを特
   徴とする特許請求の節回Ｉｇ１１項乃至第１４項の一つ
   に記載のレーザー。