JPS585719B2 - 水処理装置 - Google Patents

水処理装置

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JPS585719B2
JPS585719B2 JP53024126A JP2412678A JPS585719B2 JP S585719 B2 JPS585719 B2 JP S585719B2 JP 53024126 A JP53024126 A JP 53024126A JP 2412678 A JP2412678 A JP 2412678A JP S585719 B2 JPS585719 B2 JP S585719B2
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JP
Japan
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water treatment
current
pulse
water
treatment device
Prior art date
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Expired
Application number
JP53024126A
Other languages
English (en)
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JPS54117153A (en
Inventor
井上潔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inoue Japax Research Inc
Original Assignee
Inoue Japax Research Inc
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Publication date
Application filed by Inoue Japax Research Inc filed Critical Inoue Japax Research Inc
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  • Treatment Of Sludge (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は隔膜の、例えば交換膜、ろ過膜等を電気滲透に
より通過させることにより水の浄化処理、脱水等を行な
わせる水処理装置の改良である。
従来、電極間に通電して電気滲透を起させる水処理装置
において、前記通電に直流通電するものごとか、直流に
所定時間毎にパルスを重畳通電することによって滲透効
果を向上させたものが知られているが、未だ充分ではな
い。
電気滲透に必要な電流値よりも高い電流を流すと電気分
解により多量のガスが発生し、これが電流の流れを悪く
する原因となり、水処理効果を半減する。
本発明はガス発生を少なくし、且つ正極の浄化効果を有
するパルス通電々源を設けることによって電気滲透効果
を高めるようにしたもので、パルス電源として高周波パ
ルス、即ちパルス巾、間隔τon.s 1〜100μs
,τoff.s 1〜50μs程度の範囲で設定される
パルス列を発生し、これを所要の間隔で中断制御したパ
ルスを通電するようにする。
前記中断制御の間隔は1〜10ms程度の範囲で選択さ
れることにより常に最高の電気滲透効果を働かせること
ができる。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第1図において、1は円筒状の処理容器で、この内壁面
にグラファイト材の負極電極2を挿入する。
3は滲透性の多孔質膜で、これも円筒状に構成され内面
に正極電極4、例えば非溶解性の白金メツキした電極が
設けられる。
電極4は、また流体が透過性の多孔質、網状のものが用
いられ、これを電極4の内壁面に固着するように設けて
ある。
5はパルス電流を通電する電源の接続端子で、パルス電
源は第2図のように構成され、7が電圧源、8がオン・
オフスイッチングによりパルスを発生するスイッチ、9
は短いパルス巾τon.sと間隔τoff.sを持った
高周波パルス列を発生する発振器、10が中断制御のパ
ルス、即ち間隔τoffと巾τonを有するパルスを発
生する発振器、11は両発振9,10のパルスをアンド
結合して前記スイッチ8に制御パルスを加えるとアンド
ゲートである。
スイッチ8のオン・オフ制御によって電極2,4間に加
えるパルスは第3図のようになり、τon.sとτof
f.sを有するパルス列が時間巾τon続き、間隔τo
ffの中断が行なわれ、これが繰返して行なわれる。
容器1内には被処理水6が供給され、端子5から電極4
,2間に通電が行なわれることによって隔膜3を通して
イオンの移動があり電気滲透作用が働く、電気滲透は一
種の細隙電解作用を云い、イオン移動により水処理が行
なわれる。
図のように水中のCa,Na,Mg,K等は負極に向け
て移動し、Cl,S等は正極に向けて移動する。
正負電極4,2間への通電は第3図のように高周波パル
ス列が通電され、τon.s,τoff.sは極く短い
値τon.s1〜100μs、τoff.s1〜50μ
sに設定され、通電が行なわれるので、電解ガスの発生
が少なくパルス的に高電流が通電でき、イオン等の移動
速度を高めることができる。
また発生するガス等はパルスの中断する時間τoff中
に除去され、正極4は常にクリーニングされた状態にあ
り、活性化した正極により電流効率の低下を防止し、高
効率の電気滲透作用を働せることかできる。
例えば隔膜3にSiCのほゞ30μφの粒子を充填した
厚さ25mmのものを用い、通電々極の正極にPdにP
tメッキした電極を、負極にはグラファイト電極を用い
て水処理をするのに、本発明ではτon.s=τoff
.s=5μs、τon=1ms、τoff=2msのパ
ルス通電を行ない、これを従来例の直流DCと、DC+
パルス通電したものとの比較テストしたものが第4図の
通りであった。
被処理水は水道水に5%C6H10 CaO8・5H2
O(乳酸カルシウム)を混合した液を用い、処理時間と
ともにpH値を測定してグラフしたものである。
従来例、本発明いずれも通電の平均電流を一定にしてテ
ストしたものである。
本発明によるときは短いパルスのパルス列通電であるか
ら、従来の直流通電に比較してパルス電圧を5〜10倍
程度に高い電圧を加えることができ、これにより電気滲
透効果を高めて作用でき、処理水のpH値を短時間に増
大できる。
処理時間は従来の1/2以下の短時間で処理でき、パル
スの電圧■pを90Vより300■に高めることによっ
て処理時間を更に半減できることがわかる。
なお前記実験のpH8〜8.5のときの水中成分は次表
の通りで水道水と比較してCl,Sが減少している。
成 分 被処理水■/l 水道水■/l Ca 46.6 17.9Mg
4. 7 4. 2Na
18.1 14.6K
2.2 1.3Cl 12.
9 17.9S O. 7
1. 2なお本発明はこのように高周波パルス列を
所要の間隔で中断制御した特殊なパルスを通電すること
によってガスの発生を少なくし、また発生ガスを容易に
排除でき通電々極の正極を常に活性化状態に保ち、且つ
印加工するパルス電圧を高めることができ、極めて効率
の良い電気浸透効果を継続i的に加えることができ、水
処理を能率良く行なうことができる。
このような効果が期待できる本発明は隔膜の種によりイ
オン交換処理、ろ過、脱水処理等ができ、有機物を多量
に含む汚泥の処理、スラツジの処理、研削、加工液の浄
化、pH制御等に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例構成図、第2図はその電源部
分の回路図、第3図は通電パルスの波形説明図、第4図
は従来例と対比した実験グラフ図1である。 1は処理容器、2は負極、3は隔膜、4は正極、5は電
源接続端子、6は被処理水、7は電圧源、8はスイッチ
、9,10は発振器、11はアンドゲートである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 隔膜の両側に正負電極を対向配置し、前記電極間に
    通電する電源を設け、電気滲透を行なって水処理するも
    のにおいて、前記通電々源として、高周波パルス列を所
    要の間隔で中断制御したパルスを発生し通電する電源を
    設けたことを特徴とする水処理装置。 2 高周波パルスはパルス巾が1〜100μs、間隔が
    1〜50μs程度を用いることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の水処理装置。 3 中断制御の間隔は1〜10ms程度を用いることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の水処理装置。
JP53024126A 1978-03-02 1978-03-02 水処理装置 Expired JPS585719B2 (ja)

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JP53024126A JPS585719B2 (ja) 1978-03-02 1978-03-02 水処理装置

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JP53024126A JPS585719B2 (ja) 1978-03-02 1978-03-02 水処理装置

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JPS54117153A JPS54117153A (en) 1979-09-11
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JP4889124B2 (ja) * 2007-11-01 2012-03-07 光弘 渡邉 流体処理装置
JP6239489B2 (ja) * 2014-11-13 2017-11-29 横浜マシンサービス有限会社 水溶性切削・研削液生成用還元電位の発生装置
JP6619777B2 (ja) * 2017-08-14 2019-12-11 横浜マシンサービス有限会社 水溶性切削・研削液の生成方法

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