JPS5855260A - サーマルヘッドの発熱抵抗体パターン用マスク - Google Patents
サーマルヘッドの発熱抵抗体パターン用マスクInfo
- Publication number
- JPS5855260A JPS5855260A JP56156884A JP15688481A JPS5855260A JP S5855260 A JPS5855260 A JP S5855260A JP 56156884 A JP56156884 A JP 56156884A JP 15688481 A JP15688481 A JP 15688481A JP S5855260 A JPS5855260 A JP S5855260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- mask
- patterns
- heating resistor
- positioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/345—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はサーマルヘッドを製造する際に用いるマスクパ
ターンに関する。
ターンに関する。
サーマルヘッドは、−例として第１図に発熱抵抗体部の
一部分の平面図を示すように、例えばミアンダ形状で互
いに平行に、長手方向（図では縦方向）に配列さｆ′Ｌ
、た多数の発熱抵抗体１を備えている。各発熱抵抗体１
は、一端が共通電極２に接続され、他端がそれぞれ対応
する電極３に接続されている。この発熱抵抗体ｌの〜列
に沿って感熱記録紙を接触させ、所定の発熱抵抗体ｌに
共通電極２と電極８間で通電すると感熱記録紙のその位
置が黒化する。次に、感熱記録紙を発熱抵抗体１の配列
方向（長手方向）と垂直方向に移動させ、同様に所定の
発熱抵抗体ｌに通電する。この操作を繰返すことにより
、感熱記録紙上に文字、図形などの情報を記録するこ七
ができる。
一部分の平面図を示すように、例えばミアンダ形状で互
いに平行に、長手方向（図では縦方向）に配列さｆ′Ｌ
、た多数の発熱抵抗体１を備えている。各発熱抵抗体１
は、一端が共通電極２に接続され、他端がそれぞれ対応
する電極３に接続されている。この発熱抵抗体ｌの〜列
に沿って感熱記録紙を接触させ、所定の発熱抵抗体ｌに
共通電極２と電極８間で通電すると感熱記録紙のその位
置が黒化する。次に、感熱記録紙を発熱抵抗体１の配列
方向（長手方向）と垂直方向に移動させ、同様に所定の
発熱抵抗体ｌに通電する。この操作を繰返すことにより
、感熱記録紙上に文字、図形などの情報を記録するこ七
ができる。
発熱抵抗体１の数は分解能と記録幅とに依存するが、例
えば８ドツト／酬の記録密度でＡ４判（２１６ｍｍ）の
記録幅を有するサーマルヘッドの場合には１７２８個の
同一パターンの発熱抵抗体が配列されることになる。
えば８ドツト／酬の記録密度でＡ４判（２１６ｍｍ）の
記録幅を有するサーマルヘッドの場合には１７２８個の
同一パターンの発熱抵抗体が配列されることになる。
第２図は第１図のＡ Ａ’線断面図で、セラミック基板
４上に発熱抵抗体１々よ形成され、その上に電極３及び
共通電極２が形成されて発熱抵抗体１−と接続し、これ
らの上には発熱抵抗体１の耐酸化保護層として二酸化珪
素（Ｓ ） ０２ ）層５が被覆され、更にその上に耐
磨耗層として五酸化タンタル層６が被覆されている。
４上に発熱抵抗体１々よ形成され、その上に電極３及び
共通電極２が形成されて発熱抵抗体１−と接続し、これ
らの上には発熱抵抗体１の耐酸化保護層として二酸化珪
素（Ｓ ） ０２ ）層５が被覆され、更にその上に耐
磨耗層として五酸化タンタル層６が被覆されている。
発熱抵抗体ｌ、共通電極２、・及び電極３のパターン形
成は、よく知られた微軸加工技術を用いて行なうことが
できる。例えば、セラミック基板４上に発熱抵抗体層と
導電体層との積層体を有する試料表面にホトレジストを
塗布し、電極パターン用マスクを重ねて露光と現像を行
なってホトレジストパターンを形成した後、このホトレ
ジストパターンをマスクとして導電体層をエツチングし
て共通電極２及び電極３のパターンを形成する。次にそ
の上に再びホトレジストを塗布し、今度は発熱抵抗体パ
ターン用マスクを重ねて同様に露光、現像及びエツチン
グを行なって発熱抵抗体１のパターンを形成する。
成は、よく知られた微軸加工技術を用いて行なうことが
できる。例えば、セラミック基板４上に発熱抵抗体層と
導電体層との積層体を有する試料表面にホトレジストを
塗布し、電極パターン用マスクを重ねて露光と現像を行
なってホトレジストパターンを形成した後、このホトレ
ジストパターンをマスクとして導電体層をエツチングし
て共通電極２及び電極３のパターンを形成する。次にそ
の上に再びホトレジストを塗布し、今度は発熱抵抗体パ
ターン用マスクを重ねて同様に露光、現像及びエツチン
グを行なって発熱抵抗体１のパターンを形成する。
このパターン形成プロセスにおいて、発熱抵抗体パター
ン用マスクは、先に形成された共通電極パターン２及び
電極パターン３の上に正しく位置合せして重ねなければ
ならない。そこで、従来、位置合せのためのパターンを
別途釜マスクに設けることが行なわれている。
ン用マスクは、先に形成された共通電極パターン２及び
電極パターン３の上に正しく位置合せして重ねなければ
ならない。そこで、従来、位置合せのためのパターンを
別途釜マスクに設けることが行なわれている。
従来の方法を、第１図に示したパターンを形成するため
のマスクについて示すと、その発熱抵抗体パターン用マ
スクは、第３図に示すように発熱抵抗体用のパターン７
の他に斜線で示した十字形の位置合せ用パターン８を備
える。また、電極パターン用マスクは、第４図に示すよ
うに、共通電極用のパターン９及び電極用のパターン１
０の他に斜線で示した四角形の位置合せ用パターン１１
を、第３図の発熱抵抗体パターン用マスクの位置合せ用
パターン８と対応する位置に備える。これらのマスクを
用いてサーマルヘッドのパターンを形成するには、第５
図に示すように、第４図の電極パターン用マスクにより
形成され導電体層からなる四角形の位置合せ用パターン
１１′に位置合せ用パターン８が合致するように第３図
の発熱抵抗体パターン用マスクを重ねる。
のマスクについて示すと、その発熱抵抗体パターン用マ
スクは、第３図に示すように発熱抵抗体用のパターン７
の他に斜線で示した十字形の位置合せ用パターン８を備
える。また、電極パターン用マスクは、第４図に示すよ
うに、共通電極用のパターン９及び電極用のパターン１
０の他に斜線で示した四角形の位置合せ用パターン１１
を、第３図の発熱抵抗体パターン用マスクの位置合せ用
パターン８と対応する位置に備える。これらのマスクを
用いてサーマルヘッドのパターンを形成するには、第５
図に示すように、第４図の電極パターン用マスクにより
形成され導電体層からなる四角形の位置合せ用パターン
１１′に位置合せ用パターン８が合致するように第３図
の発熱抵抗体パターン用マスクを重ねる。
しかしながら、第３図のような発熱抵抗体用の、多くの
繰返しパターン７を有するマスクに、その繰返し単位の
パターンとは別異の形状の位置合せ用パターン８を設、
けることにより以下の問題が発生する。すなわち、発熱
抵抗体用の繰返しパターン７部分はホトリピータにより
同一パターンを繰返し露光 することにより作画するの
が一般であるが、位置合せ用パターン８の部分ではホト
’Ｊピータ全使用することができない。その結果、パタ
ーンの作画精度が低下し、したがってマスクの精度が低
下する。マスクの誤差は、長さが２００ｍｍにも及ぶサ
ーマルヘッドの歩留りに特に重大な影響を及ぼすので、
高度のマスク精度が要求される。
繰返しパターン７を有するマスクに、その繰返し単位の
パターンとは別異の形状の位置合せ用パターン８を設、
けることにより以下の問題が発生する。すなわち、発熱
抵抗体用の繰返しパターン７部分はホトリピータにより
同一パターンを繰返し露光 することにより作画するの
が一般であるが、位置合せ用パターン８の部分ではホト
’Ｊピータ全使用することができない。その結果、パタ
ーンの作画精度が低下し、したがってマスクの精度が低
下する。マスクの誤差は、長さが２００ｍｍにも及ぶサ
ーマルヘッドの歩留りに特に重大な影響を及ぼすので、
高度のマスク精度が要求される。
また、ホトリピータが完全に利用できないことにより、
作画時間が長くかかり、マスクの価格を上昇させる要因
ともなる。
作画時間が長くかかり、マスクの価格を上昇させる要因
ともなる。
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、同一の繰返
しパターンを多数有するマスクにおいて、位置合せ精度
が高く、かつ作画精度の高いマスクを安価に製造する。
しパターンを多数有するマスクにおいて、位置合せ精度
が高く、かつ作画精度の高いマスクを安価に製造する。
ことのできるマスクツ（りτンを提供することを目的と
するものであって、繰返しパターンを余分に形成し、そ
のパターンを位置合せ用パターンに利用することにより
上記目的を達成せんとするものである。
するものであって、繰返しパターンを余分に形成し、そ
のパターンを位置合せ用パターンに利用することにより
上記目的を達成せんとするものである。
以下、−実施例により本発明の詳細な説明する。
第６しＩは、一実施例における発熱抵抗体パターン用マ
スクを中央部を省略して両端部を示したものである。内
側のパターン７０両端に各２個のパターン１２を介して
パターン１３が配置されている。これらのパターン７．
１２． １８１ｒｌ全て同一パターンで、かつ等間隔に
配列されている。パターン７は発熱抵抗体パターンを形
成するためのパターン、斜線で示したパターン１３はマ
スクの位置合せ用パターン、パターン１２はパターン７
とパターン１３の間隔を調整するためのダミーパターン
である。
スクを中央部を省略して両端部を示したものである。内
側のパターン７０両端に各２個のパターン１２を介して
パターン１３が配置されている。これらのパターン７．
１２． １８１ｒｌ全て同一パターンで、かつ等間隔に
配列されている。パターン７は発熱抵抗体パターンを形
成するためのパターン、斜線で示したパターン１３はマ
スクの位置合せ用パターン、パターン１２はパターン７
とパターン１３の間隔を調整するためのダミーパターン
である。
第７図は、一実施例における電極パターン用マスクを中
央部を省略して両端部を示したものである。斜線で示し
７た位置合せ用パターン１４は、電極パターン用マスク
と発熱抵抗体パターン用マスクとを重ねたとき、パター
ン１３に正確に重なり合うような大きさと位置に設計さ
れている。
央部を省略して両端部を示したものである。斜線で示し
７た位置合せ用パターン１４は、電極パターン用マスク
と発熱抵抗体パターン用マスクとを重ねたとき、パター
ン１３に正確に重なり合うような大きさと位置に設計さ
れている。
これらのマスクを用いてサーマルヘッドのパターンを形
成するプワセスは、従来例として第５図で記述したとこ
ろと全く同様である。すなわち、第８図に示すように、
第７図の電極パターン用マスクを用いてホトリソグラフ
ィー技術により形成された、図に破線で示される導電体
層からなるパターンの上に、ポジ型ホトレジストを塗布
した後、第６図の発熱抵抗体パターン用マスクを重ねる
。
成するプワセスは、従来例として第５図で記述したとこ
ろと全く同様である。すなわち、第８図に示すように、
第７図の電極パターン用マスクを用いてホトリソグラフ
ィー技術により形成された、図に破線で示される導電体
層からなるパターンの上に、ポジ型ホトレジストを塗布
した後、第６図の発熱抵抗体パターン用マスクを重ねる
。
この際、導電体層からなる畏方形の位置合せパターン１
４′に、位置合せパターン１３の矩形部分が正確に重な
り合うように位置合せを行なう。その後、電極パターン
を形成したのと同じホトリソグラフィー技術により発熱
抵抗体パターンを形成すれば、第１図に示したサーマル
ヘッドが得られる。
４′に、位置合せパターン１３の矩形部分が正確に重な
り合うように位置合せを行なう。その後、電極パターン
を形成したのと同じホトリソグラフィー技術により発熱
抵抗体パターンを形成すれば、第１図に示したサーマル
ヘッドが得られる。
本実施例において、発熱抵抗体パターンとしてミアンダ
形状のものを例示したが、他の形状の発熱抵抗体パター
ンであっても、それが繰返して設けられる構造である以
上、本実施例と全く同様に扱いうろことは明らかである
。また、不実施゛例の発熱抵抗体パターン用マスクで、
両端にそれぞれ２個のダミーパターンを設けたが、その
数は適宜定めることができ、あるいは設けなくてもよい
。
形状のものを例示したが、他の形状の発熱抵抗体パター
ンであっても、それが繰返して設けられる構造である以
上、本実施例と全く同様に扱いうろことは明らかである
。また、不実施゛例の発熱抵抗体パターン用マスクで、
両端にそれぞれ２個のダミーパターンを設けたが、その
数は適宜定めることができ、あるいは設けなくてもよい
。
更に、本実施例はポジ型ホトレジストを使用するマスク
について示したが、ネガ型ホトレジヌトを使用するマス
クについても、パターンが反転する点を除いて全く同様
に適用することができる。
について示したが、ネガ型ホトレジヌトを使用するマス
クについても、パターンが反転する点を除いて全く同様
に適用することができる。
以上詳述した如く、本発明は多数の繰返しパターンを有
するマスク、特にサーマルヘッド用の発熱抵抗体パター
ン用マスクにおいて、マスクの位置合せ用パターンとし
て繰返し単位のパターンを利用するように構成したので
、位置合せ用パターンもホトリピータにより発熱抵抗体
パターンと同時に形成することを可能にし、したがって
作画精度が高く、かつ作画時間の短かいマスク、延いて
は高精度で安価なマスクを提供することを可能にした。
するマスク、特にサーマルヘッド用の発熱抵抗体パター
ン用マスクにおいて、マスクの位置合せ用パターンとし
て繰返し単位のパターンを利用するように構成したので
、位置合せ用パターンもホトリピータにより発熱抵抗体
パターンと同時に形成することを可能にし、したがって
作画精度が高く、かつ作画時間の短かいマスク、延いて
は高精度で安価なマスクを提供することを可能にした。
、１：。
第１図にサーマルヘッドの一例の発熱抵抗体部を示す部
分平面（２）、第２図は第１図のＡＡ’線断面図、第３
図は従来の位置合せ用パターンを有する発熱抵抗体パタ
ーン用マスクを示す平面図、第４図は同じ〈従来の位置
合せ用パターンを有する電極パターン用マスクを示す平
面図、第５図は第３図に示した発熱抵抗体パターン用マ
スクの位置合せ状態を示す平面図、第６図は本発明の一
実施例の位置合せ用パターンを有する発熱抵抗体パター
ン用マスクを示す平面図、第７図は第６図に示された位
置合せ用パターンに対応する位置合せ用パターンを有す
る電極パターン用マスクを示す平面図、第８図は第６図
に示した発熱抵抗体パターン用マスクの位置合せ状Ｍ？
示す平面図である。 ｌ・・・発熱抵抗体、 ２・・・共通電極、 ３・・・
電極、４・・・セラミック基板、 ５・・・二酸化珪素
層、 ６・・・五酸化タンタル層、 ７・・・発熱抵抗
体用パターン、 ８，１１．１３．１４・・・位置合せ
用パターン、 ９・・・共通電極用パターン、 １
０・・・電極用パターン。 第１Ｍ 第２図 第３図 第４図 第５ｆｔ！！１ 第７図 第８図
分平面（２）、第２図は第１図のＡＡ’線断面図、第３
図は従来の位置合せ用パターンを有する発熱抵抗体パタ
ーン用マスクを示す平面図、第４図は同じ〈従来の位置
合せ用パターンを有する電極パターン用マスクを示す平
面図、第５図は第３図に示した発熱抵抗体パターン用マ
スクの位置合せ状態を示す平面図、第６図は本発明の一
実施例の位置合せ用パターンを有する発熱抵抗体パター
ン用マスクを示す平面図、第７図は第６図に示された位
置合せ用パターンに対応する位置合せ用パターンを有す
る電極パターン用マスクを示す平面図、第８図は第６図
に示した発熱抵抗体パターン用マスクの位置合せ状Ｍ？
示す平面図である。 ｌ・・・発熱抵抗体、 ２・・・共通電極、 ３・・・
電極、４・・・セラミック基板、 ５・・・二酸化珪素
層、 ６・・・五酸化タンタル層、 ７・・・発熱抵抗
体用パターン、 ８，１１．１３．１４・・・位置合せ
用パターン、 ９・・・共通電極用パターン、 １
０・・・電極用パターン。 第１Ｍ 第２図 第３図 第４図 第５ｆｔ！！１ 第７図 第８図
Claims (2)
- （１）複数回のホトリソグラフィーによりサーマルヘッ
ドのパターンを形成するための複数のマスクの少なくと
も１個のマスクにおいて、多数の同一形状パターンを繰
返して有すると共に、位置合せ用パターンとして上記繰
返しパターンに並べて別設され、かつ繰返しパターンの
１つと同一形状を有するパターンを用いるようにしたこ
とを特徴とするサーマルヘッド用マスクパターン。 - （２）上記１個のマスクは発熱抵抗体パターン用マスク
である特許請求の範囲第１項に記載のサーマルヘッド用
マスクパターン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156884A JPS5855260A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | サーマルヘッドの発熱抵抗体パターン用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156884A JPS5855260A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | サーマルヘッドの発熱抵抗体パターン用マスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855260A true JPS5855260A (ja) | 1983-04-01 |
| JPH0159113B2 JPH0159113B2 (ja) | 1989-12-14 |
Family
ID=15637492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56156884A Granted JPS5855260A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | サーマルヘッドの発熱抵抗体パターン用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5855260A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02117838A (ja) * | 1988-07-03 | 1990-05-02 | Canon Inc | 記録素子駆動ユニット、インクジェット駆動ユニット及びインクジェット装置 |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP56156884A patent/JPS5855260A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02117838A (ja) * | 1988-07-03 | 1990-05-02 | Canon Inc | 記録素子駆動ユニット、インクジェット駆動ユニット及びインクジェット装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0159113B2 (ja) | 1989-12-14 |
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