JP2932339B2 - サーマルプリントヘッドの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、サーマルプリントヘ
ッドの製造方法に関し、とくに、薄膜型サーマルプリン
トヘッドにおいて、グレーズ上に形成されるヒータ部の
グレーズ幅方向の位置精度を格段に高めることができる
ようにした方法に関する。この種のサーマルプリントヘ
ッドは、感熱プリンタ、熱転写プリンタ、ラベルプリン
タ、ファクシミリ、ワードプロセッサ、タイプライタ、
カードプリンタ、画像プリンタ、タイムレコーダ等の印
字部に組み込まれるあらゆる薄膜型サーマルプリントヘ
ッドに適用することができる。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】たと
えば、図９に示すように、ヘッド基板１の端面近傍にヒ
ータ部２が形成されるシリアル型サーマルプリントヘッ
ド３の断面は、図１０のようになっている。すなわち、
基板１の端面近傍に断面弓形の部分グレーズ４を形成
し、この部分グレーズ４の表面を含む基板表面に抵抗体
層５を薄膜形成する。そして、さらにこの抵抗体層５の
上に、部分グレーズ４の頂部付近所定幅領域を残すよう
にして、共通電極パターン６および個別電極パターン７
を導体金属により薄膜形成する。上記共通電極パターン
６および個別電極パターン７は、平面的には図１１のよ
うになっており、オン状態となった個別電極パターン７
と共通電極パターン６の間に臨む部分グレーズ４上の矩
形の抵抗体層領域８が個別に発熱駆動される。すなわ
ち、図１０および図１１において、符号８で示す領域
が、ヒータ部として機能する。

【０００３】上記のようなサーマルプリントヘッド３は
また、図１２に示すように、単位ヘッド領域９を複数行
複数列に有する材料基板１０から、複数個一括して作成
するという製造手法がとられる。すなわち、上記部分グ
レーズ４の形成が印刷・焼成によって一括形成されるこ
とはもちろん、抵抗体層５の薄膜形成、これに続くいわ
ゆるフォトリソ法による共通電極パターン６および個別
電極パターン７の形成も、上記材料基板１０に対して一
括して行われる。

【０００４】ところで、上記のサーマルプリントヘッド
の印字性能を画一化するためには、上記部分グレーズ４
上のヒータ部８の形成位置、とりわけ部分グレーズ４の
幅方向の形成位置を一定化する必要がある。そのために
は、フォトリソ工程におけるフォトマスクアライメント
が正確に行われる必要がある。

【０００５】そのため、従来、図１２に示すように、材
料基板１０上に部分グレーズ４を印刷・焼成によって形
成する際に、基板の縁部にアライメントグレーズ１１を
同時に形成し、このアライメントグレーズ１１とフォト
マスクに設けた図１３に示すようなアライメントマーク
１２を合わせることによってフォトマスクアライメント
を行っている。

【０００６】上記部分グレーズ４と上記アライメントグ
レーズ１１とは、同一の印刷スクリーンを用いて形成し
ているため、アライメントグレーズ１１を基準とした各
部分グレーズ４の平面的な位置誤差は、±３０μｍ以内
に収まる。また、アライメントグレーズ１１とフォトマ
スク上のアライメントマーク１２を合わせるアライメン
ト時の基板に対するフォトマスクの位置ずれはせいぜい
±１０μｍ程度であるので、結局、上記ヒータ部８のグ
レーズ中心に対する平面的な位置ずれは、±４０μｍ以
内に収まり、要求精度を達成することができる。

【０００７】ところで、記録紙に対する圧力集中をより
高め、そうして、印字時における記録紙からのインクリ
ボンの最適な剥がれ挙動を達成して表面凹凸の大きいラ
フ紙に対する高度な印字品質を達成するために、最近、
図１に示すように、部分グレーズ４の一部を傾斜状に削
除して曲率の大きい凸状のグレーズコーナ１３を設けた
上で、このグレーズコーナ１３を中心とするヒータ部８
を設けるといった構造が提案されている（特開平４−２
４４８６１号公報参照）。

【０００８】しかしながら、上記のグレーズコーナ１３
は、いったん印刷・焼成によって断面弓形の部分グレー
ズを形成した後、研削加工等によって形成せざるをえな
い。したがって、基板の厚み方向の寸法誤差、部分グレ
ーズ４の厚みの誤差、研削加工時の誤差が重なって、形
成されるグレーズコーナ１３の平面的な誤差が±５０μ
ｍ程度生じてしまい、ヒータ部８の形成にあたって上記
のようなマスクアライメント方法をとったとしても、結
局、グレーズコーナ１３に対するヒータ部８の位置ずれ
が±９０μｍにもなる場合が生じる。

【０００９】部分グレーズ４にグレーズコーナ１３を設
けて印字性能を高めるためには、グレーズコーナ１３に
正確にヒータ部８が形成されていることが求められる
が、製造過程において生じるグレーズコーナ１３に対す
るヒータ部８の誤差が上記のように大きくなるため、製
品としての歩留りの著しい低下、およびこれに起因する
製造コストの高騰を招く結果となり、現実問題として、
従来の製造手法を踏襲して図１に示すような構造のサー
マルプリントヘッドを安定的に製造することは不可能で
あった。

【００１０】本願発明は、上記のような事情のもとで考
え出されたものであって、グレーズに対して加工を施し
て曲率の大きいグレーズコーナを形成する場合におい
て、このグレーズコーナに対して正確にヒータ部を形成
することができる新たなサーマルプリントヘッドの製造
方法を提供することをその課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本願の各発明では、次の技術的手段を講じている。

【００１２】すなわち、請求項１に記載したように、本
願発明のサーマルプリントヘッドの製造方法は、基板上
に形成したグレーズに曲率の大きいグレーズコーナを設
け、このグレーズコーナにフォトリソ工程によってヒー
タ部を形成する場合において、上記フォトリソ工程にお
けるマスクアライメントを、上記グレーズコーナからの
反射光ラインまたは反射光の明暗境界ラインを基準とし
て行うことを基本的特徴としている。

【００１３】そして、請求項２の発明は、縦方向に複数
列、横方向に複数列の単位ヘッド領域を有する材料基板
を用い、各ヘッド領域の縦方向縁部にそれぞれ横方向に
同一線上に延びる縁部を有するグレーズを印刷・焼成に
よって一括形成するとともに、横方向に並ぶ各ヘッド領
域上の各グレーズに、横方向同一線上に延びる稜線をも
つグレーズコーナを形成し、各グレーズのグレーズコー
ナにフォトリソ工程によってヒータ部を形成する場合に
おいて、上記フォトリソ工程におけるマスクアライメン
トを、上記グレーズコーナからの反射光ラインまたは反
射光の明暗境界ラインを基準として行うことを特徴とす
る。

【００１４】さらに、請求項３の発明は、縦方向に複数
列、横方向に複数列の単位ヘッド領域を有する材料基板
を用い、各ヘッド領域の縦方向縁部にそれぞれ横方向に
同一線上に延びる部分グレーズを印刷・焼成によって一
括形成するとともに、横方向に並ぶ各ヘッド領域上の各
部分グレーズに、横方向同一線上に延びる稜線をもつグ
レーズコーナを形成し、各グレーズのグレーズコーナに
フォトリソ工程によってヒータ部を形成する場合におい
て、上記フォトリソ工程におけるマスクアライメント
を、上記グレーズコーナからの反射光ラインまたは反射
光の明暗境界ラインを基準として行うことを特徴とす
る。

【００１５】すなわち、この種のサーマルプリントヘッ
ドは、縦方向に複数列、横方向に複数列の単位ヘッド領
域を有する材料基板を用い、この材料基板上の各単位ヘ
ッド領域に対してグレーズの成形およびヒータ部の形成
を一括して行い、最終的に基板分割をして単位サーマル
プリントヘッドを得る。また、各ヘッドに対するグレー
ズの形成方法として、いわゆる全面グレーズとする場合
と、部分グレーズとする場合とが含まれ、請求項２およ
び３は、このような場合に請求項１の基本発明を適用し
た方法を規定している。

【００１６】さらに、請求項４の発明は、縦方向に複数
列、横方向に複数列の単位ヘッド領域を有する材料基板
を用い、各ヘッド領域の縦方向縁部にそれぞれ横方向に
同一線上に延びる縁部を有するグレーズを印刷・焼成に
よって一括形成するとともに、これと同時に、いずれか
の横方向に並ぶグレーズの列の延長線上に少なくとも一
つのダミーグレーズを形成し、横方向に並ぶ各ヘッド領
域上の各グレーズに、横方向同一線上に延びる稜線をも
つグレーズコーナを形成するとともに、上記ダミーグレ
ーズにも上記グレーズのグレーズコーナと同一線上に延
びる稜線をもつグレーズコーナを形成しておき、各グレ
ーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によってヒータ
部を形成する場合において、上記フォトリソ工程におけ
るマスクアライメントを、上記ダミーグレーズのグレー
ズコーナからの反射光ラインまたは反射光の明暗境界ラ
インを基準として行うことを特徴とする。

【００１７】さらに、請求項５の発明は、縦方向に複数
列、横方向に複数列の単位ヘッド領域を有する材料基板
を用い、各ヘッド領域の縦方向縁部にそれぞれ横方向に
同一線上に延びる部分グレーズを印刷・焼成によって一
括形成するとともに、これと同時に、いずれかの横方向
に並ぶ部分グレーズの列の延長線上に少なくとも一つの
ダミーグレーズを上記各部分グレーズと同一断面形態に
おいて形成し、横方向に並ぶ各ヘッド領域上の各グレー
ズに、横方向同一線上に延びる稜線をもつグレーズコー
ナを形成するとともに、上記ダミーグレーズにも上記部
分グレーズのグレーズコーナと同一線上に延びる稜線を
もつグレーズコーナを形成しておき、各グレーズのグレ
ーズコーナにフォトリソ工程によってヒータ部を形成す
る場合において、上記フォトリソ工程におけるマスクア
ライメントを、上記ダミーグレーズのグレーズコーナか
らの反射光ラインまたは反射光の明暗境界ラインを基準
として行うことを特徴とする。

【００１８】すなわち、上記マスクアライメントは、各
ヘッド領域に形成されたグレーズのグレーズコーナから
の反射光ラインを基準として行うほか、上記請求項４ま
たは５の発明のように、材料基板上にダミーグレーズを
設け、このダミーグレーズのグレーズコーナからの反射
光ラインを基準として行うこともできる。

【００１９】さらに、請求項６の発明は、ダミーグレー
ズを設けて行う上記請求項４および５の方法において、
フォトリソ工程によって各グレーズコーナにヒータ部を
形成するに際し、これと同時に、ダミーグレーズにヒー
タ位置ずれ確認パターンを形成しておき、ヒータ部形成
後、ダミーグレーズのグレーズコーナからの反射光ライ
ンが上記ヒータ位置ずれ確認パターンで規定された幅領
域内に入っているか否かにより、上記ヒータ部が所定の
精度範囲内で形成されているかどうかを容易に確認する
ことができるようにしたものである。

【００２０】

【発明の作用および効果】本願の請求項１ないし３の発
明においては、グレーズに形成したグレーズコーナから
の反射光ラインまたは反射光の明暗境界ラインを基準と
してヒータ部形成のためのフォトマスクの位置合わせ
（マスクアライメント）を行っている。すなわち、グレ
ーズに形成したグレーズコーナを基準としてヒータ部の
形成を行っている。したがって、グレーズの印刷・焼成
時でのグレーズの位置ずれ、および、グレーズコーナの
加工形成時での位置ずれがヒータ位置精度に関与しなく
なり、ヒータ位置精度が飛躍的に向上する。

【００２１】さらに、請求項４および５の発明のよう
に、材料基板上の各ヘッド領域に形成される各グレーズ
に加え、ダミーグレーズを設け、このダミーグレーズの
グレーズコーナを基準としてヒータ部の形成を行うよう
にすると、機種によって単位ヘッドの大きさが異なる場
合であっても、ダミーグレーズの位置を一定させること
ができるため、機種の異なるサーマルプリントヘッドの
製造におけるフォトリソ工程装置の標準化を図ることが
できるようになる。

【００２２】なお、上記ダミーグレーズは、横方向に並
ぶヘッド領域の列の両側に２箇所設け、この２箇所のダ
ミーグレーズのグレーズコーナを基準としてフォトマス
クの位置合わせを行うようにすると、フォトマスクのθ
方向の位置合わせが正確に行えるようになり、ヒータ位
置精度がさらに向上する。

【００２３】さらに、請求項６の発明のように、ヒータ
部を形成するべきフォトリソ工程において、上記ダミー
グレーズ上にヒータ位置確認パターンを形成しておけ
ば、このダミーグレーズのグレーズコーナからの反射光
ラインと上記ヒータ位置確認パターンとの比較により、
ヒータ部が要求精度内で形成されているかどうかの検査
をきわめて簡単に行えるようになる。

【００２４】このように本願の各発明によれば、グレー
ズに曲率の大きいグレーズコーナを形成してこの部にヒ
ータ部を形成することによって印字性能を高めることが
できるサーマルプリントヘッドを、画一化された品質を
もって容易に製造することが可能となる。

【００２５】

【実施例の説明】以下、本願発明の好ましい実施例を図
１ないし図８を参照して具体的に説明する。これらの図
において図９以下の図面と同一または同等の部材あるい
は部分には同一の符号を付してある。

【００２６】なお、以下の説明は、図９に示すようなシ
リアル型サーマルプリントヘッド３において、図１に詳
示するように、部分グレーズ４の一部を傾斜状に削除し
て曲率の大きい凸状のグレーズコーナ１３を設けた上
で、このグレーズコーナ１３を中心とするヒータ部８を
設けるという構造をもつものの製造に本願発明を適用し
た例についての説明である。

【００２７】図２に示すように、縦方向複数列（図示例
では３列）、横方向複数列（図示例では４列）の単位ヘ
ッド領域９が予定されたアルミナセラミックなどの絶縁
材料からなる材料基板１０における各単位ヘッド領域９
の横方向に延びる縁９ａに沿うようにして、部分グレー
ズ４が形成され、同時に、縦方向中央列に形成される各
部分グレーズ４と同一線上に並ぶようにして、材料基板
の横方向両余白部に２つのダミーグレーズ１１が形成さ
れる。

【００２８】上記部分グレーズ４およびダミーグレーズ
１１は、同一の断面形状をもつようにして、同一の印刷
スクリーン（図示略）を用いて一括印刷・焼成によって
形成されるのであり、この時点では、部分グレーズ４お
よびダミーグレーズ１１のいずれもが、図３(a) に示す
ように、断面弓形となっている。

【００２９】次いで、図３(b) に示すように、傾斜研削
面１４ａをもつ研削ブレード１４を用いるなどして、材
料基板１０に対してハーフカットを施し、上記各部分グ
レーズ４およびダミーグレーズ１１に、傾斜面１５を加
工形成し、これにより、各グレーズ４，１１の頂部付近
に、グレーズコーナ１３を形成する。このグレーズコー
ナ１３の位置は、図３(b) に表れているように、コーナ
加工前のグレーズ４の幅方向中心よりもやや内側に位置
するようにすることが、コーナの角度をより鋭くするこ
とになるので、後述する本願発明によるマスクアライメ
ントをより適正に行う上で都合がよい。

【００３０】次いで、熱処理あるいは化学処理により、
図１(c) に示すように上記グレーズコーナ１３のバリや
返りを除去してグレーズ表面を円滑化する。

【００３１】上記研削ブレードによる加工は、各グレー
ズ４，１１の長手方向、すなわち、材料基板の横方向に
行われるので、材料基板縦方向中央に並ぶ各部分グレー
ズ４および両端のダミーグレーズ１１の上記加工後の断
面は、同一となる。

【００３２】次いで、上記グレーズ４，１１を含む材料
基板１０表面に抵抗体層５をスパッタリング等によって
薄膜形成した後、この抵抗体層５の上記グレーズコーナ
１３を挟む所定幅領域を残すようにして、共通電極パタ
ーン６および個別電極パターン７を形成する（図１参
照）。

【００３３】具体的には、まず、図４(a) に示すよう
に、上記抵抗体層５に重ねるようにして導体層１６をス
パッタリング等によって薄膜形成した後、いわゆるフォ
トリソ工程により、導体層１６および抵抗体層５の不要
部分を除去して、図１に示すような断面形態と、図１１
に示すような平面パターンをもつ共通電極パターン６お
よび個別電極パターン７を形成する。

【００３４】すなわち、上記抵抗体層５上に重ね形成さ
れる導体層１６上に塗布したフォトレジスト（図示略）
に対してフォトマスク（図示略）を用いたフォトリソ工
程によってパターン抜きを行い、こうして露出させられ
た所定パターンの導体層をエッチングにより除去するの
である。

【００３５】上記のようにして導体層膜が除去された部
分、換言すると、グレーズ断面において、上記共通電極
パターン６と個別電極パターン７とによって挟まれた、
グレーズコーナ１３において露出させられる抵抗体層部
分がヒータ部８として機能することになるが（図１参
照）、上記したことから、このヒータ部８の位置精度
は、上記フォトマスクの位置調整（マスクアライメン
ト）の精度に依存することになる。

【００３６】本願発明においては、図４(a),(b) に示す
ように、基板上に配置した光源１７から基板１０に当て
た光の上記グレーズコーナ１３からの反射光ライン１８
を基準として上記フォトマスクの位置決めを行うように
している。

【００３７】具体的には、上記フォトマスクにたとえば
図５(a),(b) に示すようなアライメントマーク１９を形
成しておき、図５(c) に示すように、上記反射光ライン
１８が上記アライメントマーク１９と一致するようにし
てフォトマスクの位置決めを行う。なお、グレーズコー
ナ１３の曲率が大きい場合には、上記反射光ライン１８
は細い線状となり、この反射光ラインそのものを上記ア
ライメントマーク１９と一致させればよいが、上記グレ
ーズコーナの曲率が小さい場合、すなわち、グレーズコ
ーナのラウンド形状が緩やかな場合は、上記反射光ライ
ン１８は所定の幅をもったものとなる。この場合には、
この幅をもった反射光ラインの明暗の境界ライン１８ａ
に上記アライメントマーク１９を合わせるようにすれば
よい。

【００３８】図４に示すように上記光源１７を基板に対
して斜め上方に設ける場合は、上記反射光ライン１８は
グレーズコーナ１３の頂部からやや光源方向にずれて現
れるが、この場合には、そのずれ量に見合った補正を行
うか、このずれ量に応じた位置にアライメントマーク１
９を形成しておけばよい。また、図６(a),(b) に示すよ
うに上記光源１７を基板上方に設ける場合は、上記反射
光ライン１８はやや幅方向に拡がるが、この場合は、反
射光ラインの明暗境界線１８ａを基準として上記マスク
アライメントを行えばよい。なお、この場合の反射光ラ
イン１８をできるだけ細幅化するために、部分グレーズ
４の表面曲率半径を２０００μｍ以下としておくことが
好ましい。

【００３９】上記のようなマスクアライメントは、いず
れかのヘッド領域の部分グレーズ４におけるグレーズコ
ーナ１３からの反射光ライン１８を基準として行っても
よいが、図２に示したように、材料基板の余白部にダミ
ーグレーズ１１を設け、このダミーグレーズ１１のグレ
ーズコーナ１３からの反射光ラインを基準として行うよ
うにすると、機種の違いによって各単位ヘッド領域の大
きさが異なる場合でも、ダミーグレーズ１１をほぼ一定
の位置に形成することができ、マスクアライメント装置
を標準化することができるので好都合である。

【００４０】また、上記ダミーグレーズ１１を設ける場
合、図２に示すように、２箇所設け、この２箇所のダミ
ーグレーズ１１のグレーズコーナ１３からの反射光ライ
ン１８を基準として上記のマスクアライメントを行うよ
うにすると、フォトマスクのθ方向の位置をも正確に設
定することができるので好都合である。

【００４１】さらに、本実施例においては、上記のフォ
トリソ工程において各グレーズ４のグレーズコーナ１３
にヒータ部８を形成するに際し、上記ダミーグレーズ１
１のグレーズコーナ１３に、たとえば、図７(a),(b),
(c),(d) に示すようなヒータ位置ずれ確認パターン２０
を形成する。すなわち、具体的には、図７(a),(b),(c),
(d) に示すようなパターンをダミーグレーズ１３上に導
体層１６に対するエッチングによって形成する。このヒ
ータ位置ずれ確認パターン２０は、ヒータ部の形成に際
してフォトマスクにヒータ部のパターンとともに形成し
ておくのであるから、各グレーズ４上に形成されるヒー
タ部８の平面的な位置と一定の関係にある。

【００４２】図７(a),(b),(c),(d) のヒータ位置ずれ確
認パターン２０は、いずれも、ヒータ部８の幅方向中心
が位置するべき幅方向範囲を表示しており、したがっ
て、上記ヒータ部８の形成後、ヒータ部８の形成時と同
様の光を当てた場合の反射光ライン１８が図７に示すよ
うに位置しておれば、上記ヒータ部８はグレーズ幅方向
の所定の範囲内に形成されていることになる。このよう
なヒータ位置確認パターン２０を形成するようにする
と、ヒータ位置が所定の精度内で適正に形成されている
かどかの検査をきわめて簡便に行うことができる。

【００４３】上記のようなヒータ部８の形成を終えた材
料基板１０には、駆動ＩＣを搭載する場合にはそのため
の領域、および、端子部分を除いて保護ガラスコーティ
ングあるいはスパッタリング、またはＣＶＤ等による保
護層の成膜２１が施され、最終的に基板分割されて図１
に示すようなサーマルプリントヘッド３が得られる。

【００４４】図８は、いわゆる全面グレーズ４’を有す
るサーマルプリントヘッド３において、全面グレーズ
４’の縁部に傾斜面１５を加工形成してグレーズコーナ
１３’を形成し、このグレーズコーナ１３’にヒータ部
８を形成した場合の構造例である。このような場合にお
いても、基板１０に光を当てると上記グレーズコーナ１
３’からの細幅の反射光ライン得ることができるので、
これを基準として、ヒータ部形成のためのマスクアライ
メントを行うことができる。

【００４５】以上から明らかなように、本願発明によっ
て製造されるサーマルプリントヘッドは、グレーズ４に
グレーズコーナ１３を加工によって設け、このグレーズ
コーナにヒータ部８を形成するにあたり、グレーズコー
ナ１３を基準として都合よくヒータ部を形成することが
できるので、グレーズの形成時で生じる誤差、グレーズ
コーナの加工形成時に生じる誤差の影響がヒータ部の形
成のためのマスクアライメントの精度に影響を及ぼさな
い。したがって、グレーズコーナ１３に対してきわめて
位置精度よくヒータ部８を形成することができる。その
結果、記録紙に対する圧力集中を高め、印字時における
記録紙からのインクリボンの最適な剥がれ挙動を達成し
て、表面凹凸の大きいラフ紙に対しても高度な品質をも
って印字を行うことが可能な高性能なサーマルプリント
ヘッドを、性能の画一性をもって簡便に製造することが
できるようになる。

【００４６】もちろん、この発明の範囲は上述の実施例
に限定されることはない。図に示した実施例は、シリア
ル型サーマルプリントヘッドの製造に本願発明を適用し
た例であるが、ライン型サーマルプリントヘッドの製造
にも同様に本願発明を適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明方法によって製造されるサーマルプリ
ントヘッドの一例の要部断面図である。

【図２】本願発明方法において、各ヘッド領域に部分グ
レーズを形成すると同時にダミーグレーズを形成した状
態を示す材料基板の平面図である。

【図３】上記部分グレーズおよびダミーグレーズにグレ
ーズコーナを形成する工程を示す説明図であり、図２の
III −III 線断面に相当する図である。

【図４】部分グレーズにフォトリソ工程によってヒータ
部を形成するにあたり、基板に斜め方向から当てた光が
グレーズコーナにおいて反射光ラインを形成している様
子の説明図である。

【図５】(a) および(b) は、図４に示されるような反射
光ラインに合わせてフォトマスクアライメントを行うべ
く、フォトマスクに形成されるアライメントマークの一
例の説明図であり、(c) は、(a) のアライメントマーク
をダミーグレーズのグレーズコーナに現れる反射光ライ
ンに合わせている様子の説明図である。

【図６】部分グレーズにフォトリソ工程によってヒータ
部を形成するにあたり、基板に上方から当てた光がグレ
ーズコーナにおいて反射光ラインを形成している様子の
説明図である。

【図７】フォトリソ工程によって各部分グレーズのグレ
ーズコーナにヒータ部をパターニング形成すると同時
に、ダミーグレーズ上に形成されるヒータ位置確認パタ
ーンの説明図である。

【図８】本願発明方法によって製造されるサーマルプリ
ントヘッドの他の例の要部断面図である。

【図９】本願発明方法によって製造されるサーマルプリ
ントヘッドの形態例を示す斜視図である。

【図１０】図９に示される形態のサーマルプリントヘッ
ドの従来構造の要部断面図である。

【図１１】部分グレーズを含むヘッド基板上にパターニ
ング形成されるべき共通電極パターンと個別電極パター
ンの例の平面図である。

【図１２】従来方法において、各ヘッド領域に部分グレ
ーズを形成すると同時にアライメントグレーズを形成し
た状態を示す材料基板の平面図である。

【図１３】従来方法において、上記アライメントグレー
ズと協働してフォトマスクのアライメントを行うべくフ
ォトマスクに形成されるアライメントマークの一例の説
明図である。

【符号の説明】 １ ヘッド基板 ４ 部分グレーズ ５ 抵抗体層 ６ 共通電極パターン ７ 個別電極パターン ８ ヒータ部 ９ 単位ヘッド領域 １０ 材料基板 １１ アライメントグレーズ １３ グレーズコーナ １６ 導体層 １７ 光源 １８ 反射光ライン １８ａ 反射光の明暗境界ライン １９ アライメントマーク ２０ ヒータ位置ずれ確認パターン

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−244861（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−246551（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−297068（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−239656（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−227660（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B41J 2/335

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に形成したグレーズに曲率の大き
   いグレーズコーナを設け、このグレーズコーナにフォト
   リソ工程によってヒータ部を形成する場合において、 上記フォトリソ工程におけるマスクアライメントを、上
   記グレーズコーナからの反射光ラインまたは反射光の明
   暗境界ラインを基準として行うことを特徴とする、サー
   マルプリントヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 縦方向に複数列、横方向に複数列の単位
   ヘッド領域を有する材料基板を用い、各ヘッド領域の縦
   方向縁部にそれぞれ横方向に同一線上に延びる縁部を有
   するグレーズを印刷・焼成によって一括形成するととも
   に、横方向に並ぶ各ヘッド領域上の各グレーズに、横方
   向同一線上に延びる稜線をもつグレーズコーナを形成
   し、各グレーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によ
   ってヒータ部を形成する場合において、 上記フォトリソ工程におけるマスクアライメントを、上
   記グレーズコーナからの反射光ラインまたは反射光の明
   暗境界ラインを基準として行うことを特徴とする、サー
   マルプリントヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 縦方向に複数列、横方向に複数列の単位
   ヘッド領域を有する材料基板を用い、各ヘッド領域の縦
   方向縁部にそれぞれ横方向に同一線上に延びる部分グレ
   ーズを印刷・焼成によって一括形成するとともに、横方
   向に並ぶ各ヘッド領域上の各部分グレーズに、横方向同
   一線上に延びる稜線をもつグレーズコーナを形成し、各
   グレーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によってヒ
   ータ部を形成する場合において、 上記フォトリソ工程におけるマスクアライメントを、上
   記グレーズコーナからの反射光ラインまたは反射光の明
   暗境界ラインを基準として行うことを特徴とする、サー
   マルプリントヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】 縦方向に複数列、横方向に複数列の単位
   ヘッド領域を有する材料基板を用い、各ヘッド領域の縦
   方向縁部にそれぞれ横方向に同一線上に延びる縁部を有
   するグレーズを印刷・焼成によって一括形成するととも
   に、これと同時に、いずれかの横方向に並ぶグレーズの
   列の延長線上に少なくとも一つのダミーグレーズを形成
   し、横方向に並ぶ各ヘッド領域上の各グレーズに、横方
   向同一線上に延びる稜線をもつグレーズコーナを形成す
   るとともに、上記ダミーグレーズにも上記グレーズのグ
   レーズコーナと同一線上に延びる稜線をもつグレーズコ
   ーナを形成しておき、 各グレーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によって
   ヒータ部を形成する場合において、 上記フォトリソ工程におけるマスクアライメントを、上
   記ダミーグレーズのグレーズコーナからの反射光ライン
   または反射光の明暗境界ラインを基準として行うことを
   特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】 縦方向に複数列、横方向に複数列の単位
   ヘッド領域を有する材料基板を用い、各ヘッド領域の縦
   方向縁部にそれぞれ横方向に同一線上に延びる部分グレ
   ーズを印刷・焼成によって一括形成するとともに、これ
   と同時に、いずれかの横方向に並ぶ部分グレーズの列の
   延長線上に少なくとも一つのダミーグレーズを上記各部
   分グレーズと同一断面形態において形成し、横方向に並
   ぶ各ヘッド領域上の各グレーズに、横方向同一線上に延
   びる稜線をもつグレーズコーナを形成するとともに、上
   記ダミーグレーズにも上記部分グレーズのグレーズコー
   ナと同一線上に延びる稜線をもつグレーズコーナを形成
   しておき、 各グレーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によって
   ヒータ部を形成する場合において、 上記フォトリソ工程におけるマスクアライメントを、上
   記ダミーグレーズのグレーズコーナからの反射光ライン
   または反射光の明暗境界ラインを基準として行うことを
   特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項４または５の方法において、各グ
   レーズのグレーズコーナにフォトリソ工程によってヒー
   タ部を形成するに際し、これと同時に、上記ダミーグレ
   ーズにはヒータ位置ずれ確認パターンを形成しておき、
   上記ダミーグレーズのグレーズコーナからの反射光ライ
   ンまたは反射光の明暗境界ラインと上記ヒータ位置ずれ
   確認パターンとの関係により、各グレーズに形成された
   ヒータ部の位置ずれの確認をすることができるようにし
   たことをと特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造
   方法。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかの方法によ
   って製造されたサーマルプリントヘッド。