JPS5853882A - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
- Publication number
- JPS5853882A JPS5853882A JP15259581A JP15259581A JPS5853882A JP S5853882 A JPS5853882 A JP S5853882A JP 15259581 A JP15259581 A JP 15259581A JP 15259581 A JP15259581 A JP 15259581A JP S5853882 A JPS5853882 A JP S5853882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- peeling
- support
- image
- image forming
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は画像形成方法、特に剥離現像型フォトレジス
トを用いて良好な画像性を付与し得る画家形成方法に関
するものである。
トを用いて良好な画像性を付与し得る画家形成方法に関
するものである。
一般的に剥離現像型フォトレジスト用の画像形成材料は
、例えば特開昭53−29713号で示されるように感
光層の支持体であるフィルムの端部に剥離端を有するよ
うに構成されており、このものを例えば特開昭52−1
17630号で示されるような感光材料現像装置を用い
て剥離現像している。この剥離現像操作は、画像形成用
基板の表面に光重合性組成物からなる感光層が透明支持
体上に被着された画像形成材料を貼着し、所定パターン
で露光した後、支持体を上記剥離端より引き剥がすこと
により、露光部分を基板表面に残すと共に未露光部分を
支持体と共に取り除いて画像形成を行なうものである。
、例えば特開昭53−29713号で示されるように感
光層の支持体であるフィルムの端部に剥離端を有するよ
うに構成されており、このものを例えば特開昭52−1
17630号で示されるような感光材料現像装置を用い
て剥離現像している。この剥離現像操作は、画像形成用
基板の表面に光重合性組成物からなる感光層が透明支持
体上に被着された画像形成材料を貼着し、所定パターン
で露光した後、支持体を上記剥離端より引き剥がすこと
により、露光部分を基板表面に残すと共に未露光部分を
支持体と共に取り除いて画像形成を行なうものである。
上記支持体の剥離に際して、従来では剥離装置や剥離操
作の面から一般に支持体の剥離端を基板の端辺と平行な
形で設けておき、これを引き剥がす場合に剥離境界線が
上記基板の端辺と平行となるようにするのが普通であっ
た。
作の面から一般に支持体の剥離端を基板の端辺と平行な
形で設けておき、これを引き剥がす場合に剥離境界線が
上記基板の端辺と平行となるようにするのが普通であっ
た。
しかしながら、近年、需要が著しく増大しているプリン
ト配線板作製用の両面スルーホール基板の多くは画像パ
ターンが表裏で垂直関係にあるが、それぞれの画像の主
パターンは一定方向性を持った多数の直線状部分からな
る場合が多い。従ってこの直線状パターンの方向と剥離
現像時の剥離境界線とが垂直である場合は問題はないが
、これが平行である場合、例えば第1図で示すように基
板l上に貼着された画像形成材料2の感光層3の線状の
画像パターン4の露光部分5と未露光部分6との界面7
が剥離端lOを有する支持体8の剥離境界線9に一致し
てこの部分では線状の界面7全体に亘って一時に切断分
離するための大きな引き剥がし力が必要となり、しかも
他の部分では感光1−3と基板1または支持体3との分
離に要するだけの小さな力でよいため、剥離がスムーズ
に行なわれず、剥離速度も不均一となり露光部分が基板
に付着せずに支持体と共に持ち去られたり、未露光部分
のひげ状残りを生じる等の問題があった。
ト配線板作製用の両面スルーホール基板の多くは画像パ
ターンが表裏で垂直関係にあるが、それぞれの画像の主
パターンは一定方向性を持った多数の直線状部分からな
る場合が多い。従ってこの直線状パターンの方向と剥離
現像時の剥離境界線とが垂直である場合は問題はないが
、これが平行である場合、例えば第1図で示すように基
板l上に貼着された画像形成材料2の感光層3の線状の
画像パターン4の露光部分5と未露光部分6との界面7
が剥離端lOを有する支持体8の剥離境界線9に一致し
てこの部分では線状の界面7全体に亘って一時に切断分
離するための大きな引き剥がし力が必要となり、しかも
他の部分では感光1−3と基板1または支持体3との分
離に要するだけの小さな力でよいため、剥離がスムーズ
に行なわれず、剥離速度も不均一となり露光部分が基板
に付着せずに支持体と共に持ち去られたり、未露光部分
のひげ状残りを生じる等の問題があった。
この発明者らは、上記問題を解決するために鋭意検討を
重ねた結果、露光部分と未露光部分との界面の切断を線
ではなく点で行なえる画像形成方法を見い出し、この発
明をなすに至った。
重ねた結果、露光部分と未露光部分との界面の切断を線
ではなく点で行なえる画像形成方法を見い出し、この発
明をなすに至った。
すなわち、この発明は、画像形成用基板の表面に光重合
性組成物層が透明支持体上に被着された画像形成材料を
貼着して露光した後、上記支持体を上記基板から剥離す
ることによって主パターンが一定方向に平行な線状であ
る画像を現像するに当たり、上記支持体の剥離時の剥離
境界線を上記主パターンの方向に対して斜めに交差させ
て剥離現像することを特徴とする画像形成方法に係るも
のである。
性組成物層が透明支持体上に被着された画像形成材料を
貼着して露光した後、上記支持体を上記基板から剥離す
ることによって主パターンが一定方向に平行な線状であ
る画像を現像するに当たり、上記支持体の剥離時の剥離
境界線を上記主パターンの方向に対して斜めに交差させ
て剥離現像することを特徴とする画像形成方法に係るも
のである。
以下、この発明方法を第2図の例によって説明する。
図示するように、基板1と画像形成材料2のそれぞれの
構成は第1図で示したものと同一であるが、剥離現像に
おける支持体8の剥離方向は剥離境界線9が線状パター
ン4の方向に対して斜めに交差するような方向としてい
る。このような方法によれば、露光部分5と未露光部分
6との各界面7の切断が剥離境界線9の移動に従って点
移動として連続的に行なわれるから、前述した第1図で
例示する方法のような界面剥順に要する大きな引き剥し
力を必要とぜず、小さな力で且つ一定した速度でスムー
ズに剥離現像を行なうことができ、結果として露光部分
5の剥がれや未露光部分の残留がなく良好な画像パター
ンが得られる。なお、かかる効果を得るための上記交差
角度は10〜80°程度が好適である。
構成は第1図で示したものと同一であるが、剥離現像に
おける支持体8の剥離方向は剥離境界線9が線状パター
ン4の方向に対して斜めに交差するような方向としてい
る。このような方法によれば、露光部分5と未露光部分
6との各界面7の切断が剥離境界線9の移動に従って点
移動として連続的に行なわれるから、前述した第1図で
例示する方法のような界面剥順に要する大きな引き剥し
力を必要とぜず、小さな力で且つ一定した速度でスムー
ズに剥離現像を行なうことができ、結果として露光部分
5の剥がれや未露光部分の残留がなく良好な画像パター
ンが得られる。なお、かかる効果を得るための上記交差
角度は10〜80°程度が好適である。
この発明方法における剥離現像は、手作業によってもよ
いし、機械的に連続工程として行なうことも可能である
。機械的に行なう場合は、例えば剥離ローラを使用する
場合にローラの軸方向を従来のそれに対して所定角度と
なるように設定したり、また基板の向きを露光後に自動
的に所定角度だけ転回させる等の種々の手段を用い得る
。
いし、機械的に連続工程として行なうことも可能である
。機械的に行なう場合は、例えば剥離ローラを使用する
場合にローラの軸方向を従来のそれに対して所定角度と
なるように設定したり、また基板の向きを露光後に自動
的に所定角度だけ転回させる等の種々の手段を用い得る
。
また、画像形成材料を構成する支持体の種類や光重合性
組成物の組成等については、従来より剥鑓現像型フォト
レジスト用として使用されている材料1組成に従かえば
よく、形成画像の用途や目的とする特性や形状に応じて
適宜選択すればよい。
組成物の組成等については、従来より剥鑓現像型フォト
レジスト用として使用されている材料1組成に従かえば
よく、形成画像の用途や目的とする特性や形状に応じて
適宜選択すればよい。
以下、この発明を実施例によって具体的に示す0実施例
中で部とあるのはいずれも重電部を意味する。
中で部とあるのはいずれも重電部を意味する。
実施例
塩素化ポリエチレン60部、ポリメタクリル酸メチル4
0部、ペンタエリスリトールアクリレ−)5部部、オリ
ゴエステルアクリレート70i、ベンゾフェノン2.0
部、4・4I−ビスジエチルアミノベンゾフェノン2.
0g、パラメトキシフェノ−tLlo、 1部、エチル
バイオレットo、3部、トルエン400部からなる光重
合性組成物溶液を厚さ25μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥塗膜厚が20μmとなるように
塗布し、80℃で5分間の乾燥を行なって画像形成材料
を得た口 この画像形成材料をプリント配線用の銅−ガラスエポキ
シ積層基板の清浄化した銅表面上に貼着して加圧ラミネ
ートした。次に画像形成材料の表面に、基板の剥離端側
の端辺に平行な多数の直線状細線パターン(幅150μ
m)を有する陰画原稿を密着させ、3KWの超面圧水銀
灯で60trnの距離から10秒間の露光を行なった。
0部、ペンタエリスリトールアクリレ−)5部部、オリ
ゴエステルアクリレート70i、ベンゾフェノン2.0
部、4・4I−ビスジエチルアミノベンゾフェノン2.
0g、パラメトキシフェノ−tLlo、 1部、エチル
バイオレットo、3部、トルエン400部からなる光重
合性組成物溶液を厚さ25μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥塗膜厚が20μmとなるように
塗布し、80℃で5分間の乾燥を行なって画像形成材料
を得た口 この画像形成材料をプリント配線用の銅−ガラスエポキ
シ積層基板の清浄化した銅表面上に貼着して加圧ラミネ
ートした。次に画像形成材料の表面に、基板の剥離端側
の端辺に平行な多数の直線状細線パターン(幅150μ
m)を有する陰画原稿を密着させ、3KWの超面圧水銀
灯で60trnの距離から10秒間の露光を行なった。
続いて基板を35℃に加温した状態下でポリエチレンテ
レフタレートフィルムをその剥離端を引くことにより、
剥離境界線が細線パターンの方向に対して45°の角度
で交差するようにして剥離したところ、基板表面に露光
部分の欠けや未露光部分のひげ状残りがない良好な画像
パターンが形成された◎また、この剥離は極めてスムー
ズに一定速度で行なうことかできた。
レフタレートフィルムをその剥離端を引くことにより、
剥離境界線が細線パターンの方向に対して45°の角度
で交差するようにして剥離したところ、基板表面に露光
部分の欠けや未露光部分のひげ状残りがない良好な画像
パターンが形成された◎また、この剥離は極めてスムー
ズに一定速度で行なうことかできた。
比較例
剥離現像時の剥離方向を剥離境界線と細線パターンの方
向とか平行となるようにした以外は、実施例中と全く同
一条件として基板状に画像パターンを形成した。この画
像パターンは露光部分の欠けや未露光部分のひげ状残り
が散見され、また剥離は非常に困難で且つ露光部分と未
露光部分との界面位置で大きな音を伴なった。
向とか平行となるようにした以外は、実施例中と全く同
一条件として基板状に画像パターンを形成した。この画
像パターンは露光部分の欠けや未露光部分のひげ状残り
が散見され、また剥離は非常に困難で且つ露光部分と未
露光部分との界面位置で大きな音を伴なった。
第1図は従来の剥離現像の状態を模式的に示す斜視図、
第2図はこの発明方法における剥離現像の状態を模式的
に示す斜視図である。 l・・・画像形成用基板、2・・・画像形成材料、3・
・・光重合性組成物層、4・・・画像パターン、5・・
・露光部分、6・・・未露光部分、8−・・支持体、9
・・・剥離境界線。 特 許 出 願 人 日東電気工業株式会社代理人
弁理士 祢亘元 邦 夫□
第2図はこの発明方法における剥離現像の状態を模式的
に示す斜視図である。 l・・・画像形成用基板、2・・・画像形成材料、3・
・・光重合性組成物層、4・・・画像パターン、5・・
・露光部分、6・・・未露光部分、8−・・支持体、9
・・・剥離境界線。 特 許 出 願 人 日東電気工業株式会社代理人
弁理士 祢亘元 邦 夫□
Claims (1)
- il1画像形成用基板の表面に光重合性組成物層が透明
支持体上に被着された画像形成材料を貼着して露光した
後、上記支持体を上記基板から剥離することによって主
パターンが一定方向に平行な線状である画像を現像する
に当たり、上記支持体の剥離時の剥離境界線を上記主パ
ターンの方向に対して斜めに交差させて剥離現像するこ
とを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15259581A JPS5853882A (ja) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15259581A JPS5853882A (ja) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5853882A true JPS5853882A (ja) | 1983-03-30 |
Family
ID=15543862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15259581A Pending JPS5853882A (ja) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5853882A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5958891A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-04 | 日東電工株式会社 | 剥離現像方法 |
JPS60234508A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-21 | 株式会社クボタ | 歩行型耕耘機 |
US5533452A (en) * | 1990-11-19 | 1996-07-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of peeling a release film from a photosensitive plate blank |
-
1981
- 1981-09-26 JP JP15259581A patent/JPS5853882A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5958891A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-04 | 日東電工株式会社 | 剥離現像方法 |
JPS60234508A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-21 | 株式会社クボタ | 歩行型耕耘機 |
US5533452A (en) * | 1990-11-19 | 1996-07-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of peeling a release film from a photosensitive plate blank |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4157407A (en) | Toning and solvent washout process for making conductive interconnections | |
US4504571A (en) | Method of peel development | |
EP0096865B1 (en) | Sequential automatic registration and imagewise exposure of a sheet substrate | |
JPH10305670A (ja) | メタルマスク及びその製造方法 | |
JPS6131855B2 (ja) | ||
US3960561A (en) | Method for making electrical lead frame devices | |
JPS5853882A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS59500636A (ja) | フオトリソグラフイプロセツシング方法 | |
JPH11237732A (ja) | 巻上げに好適な構造のドライフィルム・フォトレジスト | |
US5254435A (en) | Method of patterning resist | |
EP0382944B1 (en) | Method and structure for preventing wet etchant penetration at the interface between a resist mask and an underlying metal layer | |
JPS58136027A (ja) | 感光性エレメント | |
EP0469973A1 (en) | Method for forming relief patterns | |
JPS61102652A (ja) | 液体感光性重合体により密着焼付けを行なうためのシステム | |
JPH04371957A (ja) | フォトレジストフィルム | |
JP3061206B2 (ja) | メタルマスクの製造方法 | |
JPS6054799B2 (ja) | プリント板の製造方法 | |
JPS584140A (ja) | 液体型感光性樹脂の塗布方法 | |
JPS5943564Y2 (ja) | 剥離現像型感光材料 | |
JPS588637A (ja) | ロ−ル状に巻取られた光重合性エレメント | |
JPS59181341A (ja) | 剥離現像方法 | |
JPH02502675A (ja) | レジストパターニングの方法 | |
JPS5853883A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0573226B2 (ja) | ||
JPS62204249A (ja) | 感光性樹脂積層体 |