JPS5852933B2 - 光伝送路の製造法 - Google Patents
光伝送路の製造法Info
- Publication number
- JPS5852933B2 JPS5852933B2 JP52014733A JP1473377A JPS5852933B2 JP S5852933 B2 JPS5852933 B2 JP S5852933B2 JP 52014733 A JP52014733 A JP 52014733A JP 1473377 A JP1473377 A JP 1473377A JP S5852933 B2 JPS5852933 B2 JP S5852933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- optical transmission
- manufacturing
- transmission line
- silicon compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は滑らかな屈折率分布を有する光伝送路を生産性
よく製造する方法に関する。
よく製造する方法に関する。
従来コアの中心部から周辺部に向って滑らかな屈折率分
布、すなわち該中心部を頂点とする放物線状の屈折率分
布を有する光伝送路（グレイデッドインデックス型ファ
イバー）の製造法としては、石英管の内壁にドーパント
（屈折率制御物質）の量を逐次変えたドープト石英ガラ
ス層を気相化学反応を利用して析出させた後、該石英管
をつぶして線引きする方法、均一なドープト石英ガラス
の表面からドーパントを除去する方法、プラズマ炎によ
って石英ガラスのプールを製造する工程でドーパントを
プールの中心軸に集中して得た素材から線引きする方法
、あるいは二重ないし教主のルツボを用いて同心円状に
二重ないし数種の異なった組成のガラスの繊維を引き出
す過程でガラス成分のイオン交換、拡散等により屈折率
分布を滑らかにする方法が知られている。
布、すなわち該中心部を頂点とする放物線状の屈折率分
布を有する光伝送路（グレイデッドインデックス型ファ
イバー）の製造法としては、石英管の内壁にドーパント
（屈折率制御物質）の量を逐次変えたドープト石英ガラ
ス層を気相化学反応を利用して析出させた後、該石英管
をつぶして線引きする方法、均一なドープト石英ガラス
の表面からドーパントを除去する方法、プラズマ炎によ
って石英ガラスのプールを製造する工程でドーパントを
プールの中心軸に集中して得た素材から線引きする方法
、あるいは二重ないし教主のルツボを用いて同心円状に
二重ないし数種の異なった組成のガラスの繊維を引き出
す過程でガラス成分のイオン交換、拡散等により屈折率
分布を滑らかにする方法が知られている。
これらの方法はいずれも屈折率制御物質として、たとえ
ばＧｅ 、 Ｐ 。
ばＧｅ 、 Ｐ 。
Ｔ１等のガラス屈折率を高める物質を利用しているが、
光伝送路としては屈折率のなるべく低い媒質を利用した
方が光散乱による伝送損失が少ない上に信号パルスの分
散が低減されて通信容量を増大できるため有利となる。
光伝送路としては屈折率のなるべく低い媒質を利用した
方が光散乱による伝送損失が少ない上に信号パルスの分
散が低減されて通信容量を増大できるため有利となる。
屈折率の低いガラスとしては石英ガラスがあり、さらに
その屈折率を低減させるために所定量のホウ素または弗
素を添加する方法が開発されている。
その屈折率を低減させるために所定量のホウ素または弗
素を添加する方法が開発されている。
たとえば四塩化珪素ガスにホウ素化合物または弗素化合
物を混合し、高温酸化反応によりドープト石英ガラスを
生成させている。
物を混合し、高温酸化反応によりドープト石英ガラスを
生成させている。
しかしながら、ホウ素添加の場合には原料として液体で
ある三塩化ホウ素または三臭化ホウ素を使用するため、
その気化工程が含まれるので、添加量の制御がむつかし
く、さらに含ホウ素石英ガラスの屈折率が熱覆歴を受け
やすいため、所望の滑らかな屈折率分布を構成すること
が困難である。
ある三塩化ホウ素または三臭化ホウ素を使用するため、
その気化工程が含まれるので、添加量の制御がむつかし
く、さらに含ホウ素石英ガラスの屈折率が熱覆歴を受け
やすいため、所望の滑らかな屈折率分布を構成すること
が困難である。
一方、弗素を添加する場合には原料としてガス状の弗化
炭素、四弗化珪素または弗化イオウを使用するのである
が、ドープト石英ガラスの析出速度が遅く生産性が低い
。
炭素、四弗化珪素または弗化イオウを使用するのである
が、ドープト石英ガラスの析出速度が遅く生産性が低い
。
本発明は上記の従来法の欠点を解決し、滑らかな屈折率
分布を有する光伝送路を生産性よく製造する方法を提供
するもので、その要旨とするところは、石英ガラス管内
に酸化によりシリカを形成する珪素化合物と屈折率制御
物質との混合物を導入し気相化学反応により半径方向に
滑らかな屈折率分布を有する光伝送路を製造するに当り
、該屈折率制御物質としての三弗化ホウ素の該珪素化合
物に対する混合比をモル比でＯ〜１．５の範囲としかつ
三弗化ホウ素を該範囲の上限から下限に向って段階的に
減少させつつ該珪素化合物に混合せしめることを特徴と
する光伝送路の製造法、にある。
分布を有する光伝送路を生産性よく製造する方法を提供
するもので、その要旨とするところは、石英ガラス管内
に酸化によりシリカを形成する珪素化合物と屈折率制御
物質との混合物を導入し気相化学反応により半径方向に
滑らかな屈折率分布を有する光伝送路を製造するに当り
、該屈折率制御物質としての三弗化ホウ素の該珪素化合
物に対する混合比をモル比でＯ〜１．５の範囲としかつ
三弗化ホウ素を該範囲の上限から下限に向って段階的に
減少させつつ該珪素化合物に混合せしめることを特徴と
する光伝送路の製造法、にある。
本発明は酸化によりシリカを形成する珪素化合物に対す
る屈折率制御物質としての三弗化ホウ素の混合比をモル
比で０〜１．５の範囲とし、しかも三弗化ホウ素の該珪
素化合物への混合方法として上記混合範囲の上限から下
限に向って段階的に減少させつつ複数回に分割して混合
せしめる構成である。
る屈折率制御物質としての三弗化ホウ素の混合比をモル
比で０〜１．５の範囲とし、しかも三弗化ホウ素の該珪
素化合物への混合方法として上記混合範囲の上限から下
限に向って段階的に減少させつつ複数回に分割して混合
せしめる構成である。
なお、上記三弗化ホウ素の珪素化合物に対する混合比が
１．５を越えた場合はシリカの析出速度が低下すると同
時に熱的歪みによってクラック等が発生する。
１．５を越えた場合はシリカの析出速度が低下すると同
時に熱的歪みによってクラック等が発生する。
本発明は上記構成によってドープト石英ガラスの析出速
度を低下させることなくかつ得られた低屈折率ガラスも
熱履歴をほとんど受けることがないので、実施例に示す
ように、これを線引きすることによって所定の滑らかな
屈折率分布、すなわちコアの中心部を頂点とする放物線
状の屈折率分布を有する光伝送路を生産させて製造する
ことを可能とする。
度を低下させることなくかつ得られた低屈折率ガラスも
熱履歴をほとんど受けることがないので、実施例に示す
ように、これを線引きすることによって所定の滑らかな
屈折率分布、すなわちコアの中心部を頂点とする放物線
状の屈折率分布を有する光伝送路を生産させて製造する
ことを可能とする。
本発明は、以上のごとく、滑らかな屈折率分布を有する
光伝送路を生産性よく製造する方法を提供するもので、
その工業的有用性は高い。
光伝送路を生産性よく製造する方法を提供するもので、
その工業的有用性は高い。
次に、本発明を実施例によってさらに具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものでない。
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものでない。
実施例
純度９９．９９９％の酸素ガス、三弗化ホウ素ガスおよ
び酸素ガスで希釈した高純度四塩化珪素ガスを精密流量
制御計を用いてそれぞれ３００ｃｃ／ｍｉ、９０ＣＣ／
Ｔｎｉ１ｔおよび３００ ｃｃ／ｍ１ｙｔの流量でガラ
ス旋盤に支持された高純度石英ガラス管内に導入し、次
いでガラス旋盤の加熱バーナを上記ガスの流れ方向に沿
って石英ガラス管を外部から１，２００℃に加熱しなが
ら移動させ、石英ガラス管内で気相化学反応を起こさせ
て石英ガラス管内壁にホウ素および弗素をドープしたシ
リカガラスを付着させた。
び酸素ガスで希釈した高純度四塩化珪素ガスを精密流量
制御計を用いてそれぞれ３００ｃｃ／ｍｉ、９０ＣＣ／
Ｔｎｉ１ｔおよび３００ ｃｃ／ｍ１ｙｔの流量でガラ
ス旋盤に支持された高純度石英ガラス管内に導入し、次
いでガラス旋盤の加熱バーナを上記ガスの流れ方向に沿
って石英ガラス管を外部から１，２００℃に加熱しなが
ら移動させ、石英ガラス管内で気相化学反応を起こさせ
て石英ガラス管内壁にホウ素および弗素をドープしたシ
リカガラスを付着させた。
その際この付着を均一に行わせるため、石英ガラス管を
３０回／分で回転させた。
３０回／分で回転させた。
加熱バーナが上記移動を終了すると、リターンさせて再
び加熱バーナ移動によりホウ素および弗素をドープした
シリカガラスを最初に付着したシリカガラス上に付着さ
せた。
び加熱バーナ移動によりホウ素および弗素をドープした
シリカガラスを最初に付着したシリカガラス上に付着さ
せた。
この操作を１０回繰り返した後、加熱バーナのリターン
毎に三弗化ホウ素ガスの混合量を第１図に示す割合で減
少させ、ホウ素および弗素のドープ量が漸次減少してゆ
くシリカガラス層を３０層積層させ、最終層の第３０層
目の付着に際しては三弗化ホウ素の混合量をＯＣＣ／
ｍ１ｙｔとした。
毎に三弗化ホウ素ガスの混合量を第１図に示す割合で減
少させ、ホウ素および弗素のドープ量が漸次減少してゆ
くシリカガラス層を３０層積層させ、最終層の第３０層
目の付着に際しては三弗化ホウ素の混合量をＯＣＣ／
ｍ１ｙｔとした。
次に、上記酸素ガス、四塩化珪素ガスの導入を中止し、
加熱温度を１，９００°Ｃ〜２，０００℃に上昇させ、
該石英ガラス管をつぶしプレフォームを製造した。
加熱温度を１，９００°Ｃ〜２，０００℃に上昇させ、
該石英ガラス管をつぶしプレフォームを製造した。
このプレフォームの線引きにより紡糸したファイバーは
、第２図に示すように、屈折率がコアの中心部で１．４
５８５、コアの周辺部で１．４５１２を示し、放射線状
の屈折率分布を有している。
、第２図に示すように、屈折率がコアの中心部で１．４
５８５、コアの周辺部で１．４５１２を示し、放射線状
の屈折率分布を有している。
また波長０．８μｍでの損失は３．１ｄＢ／ｋｍであつ
へさらに、１ｋｍの本ファイバーでの半導体レーザー（
波長０．８３μｍ）のパルス幅の広がりは０．８ｎｓｅ
ｃであった。
へさらに、１ｋｍの本ファイバーでの半導体レーザー（
波長０．８３μｍ）のパルス幅の広がりは０．８ｎｓｅ
ｃであった。
一方、比較例として、従来法のＢ−Ｐ−８ｉ０２系グレ
ーデツドインデツクス型フアイバーを気相化学反応で製
造し、その上記特性を同様に測定した結果、損失値は波
長０．８／Ｊｍで３．８ ｄＢ／ｋｍ 。
ーデツドインデツクス型フアイバーを気相化学反応で製
造し、その上記特性を同様に測定した結果、損失値は波
長０．８／Ｊｍで３．８ ｄＢ／ｋｍ 。
パルス幅の広がりは３ Ｈｓｅｃであった。
従って、従来法のＢ Ｐ ８１０２系等のグレーデ
ッドインデックス型ファイバーに比べて本発明方法によ
るグレーデッドインデックス型ファイバーは大幅に改良
された特性を有していることが確認された。
ッドインデックス型ファイバーに比べて本発明方法によ
るグレーデッドインデックス型ファイバーは大幅に改良
された特性を有していることが確認された。
第１図は本発明におけるガラス旋盤の加熱バーナのリタ
ーン数と三弗化ホウ素流量との関係を示すグラフ図、第
２図は本発明により製造されたグレーデッドインデック
ス型ファイバーの半径と屈折率との関係を示すグラフ図
である。
ーン数と三弗化ホウ素流量との関係を示すグラフ図、第
２図は本発明により製造されたグレーデッドインデック
ス型ファイバーの半径と屈折率との関係を示すグラフ図
である。
Claims (1)
- １ 石英ガラス管内に酸化によりシリカを形成する珪素
化合物と屈折率制御物質との混合物を導入し気相化学反
応により半径方向に滑らかな屈折率分布を有する光伝送
路を製造するに当り、該屈折率制御物質としての三弗化
ホウ素の該珪素化合物に対する混合比をモル比でＯ〜１
．５の範囲としかつ三弗化ホウ素を該範囲の上限から下
限に向って段階的に減少させつつ該珪素化合物に混合せ
しめることを特徴とする光伝送路の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52014733A JPS5852933B2 (ja) | 1977-02-14 | 1977-02-14 | 光伝送路の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52014733A JPS5852933B2 (ja) | 1977-02-14 | 1977-02-14 | 光伝送路の製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59164032A Division JPS60156016A (ja) | 1984-08-04 | 1984-08-04 | 光伝送路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53100254A JPS53100254A (en) | 1978-09-01 |
| JPS5852933B2 true JPS5852933B2 (ja) | 1983-11-26 |
Family
ID=11869316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52014733A Expired JPS5852933B2 (ja) | 1977-02-14 | 1977-02-14 | 光伝送路の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5852933B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5662204A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical transmission fiber and its manufacture |
| JPS56121002A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical fiber for light transmission and its manufacture |
-
1977
- 1977-02-14 JP JP52014733A patent/JPS5852933B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53100254A (en) | 1978-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MacChesney et al. | A new technique for the preparation of low-loss and graded-index optical fibers | |
| US4224046A (en) | Method for manufacturing an optical fiber preform | |
| JPH055774B2 (ja) | ||
| Blankenship et al. | The outside vapor deposition method of fabricating optical waveguide fibers | |
| US5221308A (en) | Low loss infrared transmitting hollow core optical fiber method of manufacture | |
| US4087266A (en) | Optical fibre manufacture | |
| JP2017007941A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| US4243299A (en) | Optical fibers for communication transmission having high stability to nuclear radiation | |
| EP0060085B1 (en) | Infrared optical fiber | |
| JPS5852933B2 (ja) | 光伝送路の製造法 | |
| US4116653A (en) | Optical fiber manufacture | |
| JPH07230015A (ja) | 分散シフト型シングルモード光ファイバと分散シフト型シングルモード光ファイバ用母材と分散シフト型シングルモード光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0476936B2 (ja) | ||
| JPS60156016A (ja) | 光伝送路 | |
| JPH0210095B2 (ja) | ||
| JP3100291B2 (ja) | 分散シフト光ファイバとその製造方法 | |
| GB2046239A (en) | Optical fibres | |
| Geittner et al. | PCVD at high deposition rates | |
| JP3343079B2 (ja) | 光ファイバコア部材と光ファイバ母材およびそれらの製造方法 | |
| JPS6144821B2 (ja) | ||
| JPS6042242A (ja) | 光フアイバ用ガラスの製造方法 | |
| KR830002121B1 (ko) | 광 파이버 | |
| JPS62182129A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS6011241A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0359018B2 (ja) |