JPS5851972A - 薬品処理装置 - Google Patents
薬品処理装置Info
- Publication number
- JPS5851972A JPS5851972A JP14933181A JP14933181A JPS5851972A JP S5851972 A JPS5851972 A JP S5851972A JP 14933181 A JP14933181 A JP 14933181A JP 14933181 A JP14933181 A JP 14933181A JP S5851972 A JPS5851972 A JP S5851972A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cell
- trichloroethylene
- flow rate
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薬品処理装置に係り、さらに詳しく述べるなら
ば半導体製造工程のウニハープリセスにおいて洗浄、エ
ツチング、レジスト除去等のウェハー用薬品処理槽の薬
品の微少量制御を容易にした薬品処理装置に関するもの
である。
ば半導体製造工程のウニハープリセスにおいて洗浄、エ
ツチング、レジスト除去等のウェハー用薬品処理槽の薬
品の微少量制御を容易にした薬品処理装置に関するもの
である。
半導体装置の製造工程の中でシリコンを用いた半導体ウ
ェハープロセスにおいてウェハー表面に付着したゴミ等
の異物を酸、アルカリ、有機溶剤等を用いて洗浄したり
酸を用いて絶縁層又はシリコン膜をエツチングしたり又
該エツチングの際に使用されたレジスト膜を除去する場
合第１図に示すような装置が用いられている。例えば薬
品供給タンク１内にウェハー洗浄のだめのトリクレン１
ａを適当量大れておき処理槽５にもトリクレン５ａを入
れる１７次に該トリクレン５ａ内に２５枚の４インチの
シリコンウェハーを浸漬する。該ウェハーはキャリヤー
によって支持せしめられる。
ェハープロセスにおいてウェハー表面に付着したゴミ等
の異物を酸、アルカリ、有機溶剤等を用いて洗浄したり
酸を用いて絶縁層又はシリコン膜をエツチングしたり又
該エツチングの際に使用されたレジスト膜を除去する場
合第１図に示すような装置が用いられている。例えば薬
品供給タンク１内にウェハー洗浄のだめのトリクレン１
ａを適当量大れておき処理槽５にもトリクレン５ａを入
れる１７次に該トリクレン５ａ内に２５枚の４インチの
シリコンウェハーを浸漬する。該ウェハーはキャリヤー
によって支持せしめられる。
一定時間ウェハーがトリクレン５ａ内に浸漬され洗浄を
終えると次の２５枚のウェハーを同様にトリクレン５ａ
内に浸漬し洗浄を行なう。とのようにして継続してウェ
ハーが洗浄されてゆくにつれて、洗浄されたウェハー表
面へのイ」着、蒸発等によシ処理槽５内のトリクレン５
ａが消耗する。この消耗した量を補なうため薬品供給タ
ンク１と処理槽５との間に配設されたエアー弁３を手動
によって開放し供給配管を経由して薬品供給タンク１内
の薬品が処理槽５内へ供給される。しがＬながらこの従
来の装置では消耗１−た処理液を処理槽内の薬品の量を
微調整することが困難であった。
終えると次の２５枚のウェハーを同様にトリクレン５ａ
内に浸漬し洗浄を行なう。とのようにして継続してウェ
ハーが洗浄されてゆくにつれて、洗浄されたウェハー表
面へのイ」着、蒸発等によシ処理槽５内のトリクレン５
ａが消耗する。この消耗した量を補なうため薬品供給タ
ンク１と処理槽５との間に配設されたエアー弁３を手動
によって開放し供給配管を経由して薬品供給タンク１内
の薬品が処理槽５内へ供給される。しがＬながらこの従
来の装置では消耗１−た処理液を処理槽内の薬品の量を
微調整することが困難であった。
そ゛こで本発明は上記問題点を改善し、多量の処理液の
初期供給とそれ、以降の微少量の処理液の供給を容易に
打力い得る檗品処理装隆゛を提供することを目的とする
。 ゛ 上記本発明の目的は処理槽と、該処理槽への薬品供給の
ためのタンク及び配管とを具備する薬品処理装置におい
て； 前記処理槽への薬品供給のだめの配管を大流量と小流ｌ
の２系統配設することにより前記処理槽の薬品の消耗に
対して微少量の薬品を前記タンクから処理槽へ供給して
、該、処理槽内の薬品の液量を一定に維持子るととを特
徴とする薬品処理装置によって達成される。
初期供給とそれ、以降の微少量の処理液の供給を容易に
打力い得る檗品処理装隆゛を提供することを目的とする
。 ゛ 上記本発明の目的は処理槽と、該処理槽への薬品供給の
ためのタンク及び配管とを具備する薬品処理装置におい
て； 前記処理槽への薬品供給のだめの配管を大流量と小流ｌ
の２系統配設することにより前記処理槽の薬品の消耗に
対して微少量の薬品を前記タンクから処理槽へ供給して
、該、処理槽内の薬品の液量を一定に維持子るととを特
徴とする薬品処理装置によって達成される。
以下本発明を実施例に基いて詳細に説明する。
第２図及び第３図は本発明に係る実施例を示す概略説明
図である。
図である。
第２・図によれば薬品供給用タンク１には処理槽５の必
要量の薬品例えばトリクレン１ａが常に貯えられており
処理槽５が空の状態の時に大流量系（３） 側のエアー弁３を開放して配管２ａ及び４を介して薬品
供給用タンク１内のトリクレン１ａを全て処理槽５に供
給し終えた後にエアー弁を閉じる。
要量の薬品例えばトリクレン１ａが常に貯えられており
処理槽５が空の状態の時に大流量系（３） 側のエアー弁３を開放して配管２ａ及び４を介して薬品
供給用タンク１内のトリクレン１ａを全て処理槽５に供
給し終えた後にエアー弁を閉じる。
その後再びタンク１のにはメインタンク８から供給管９
を介して必要量のトリクレンが貯えられる。
を介して必要量のトリクレンが貯えられる。
以後いわゆる半導体ウェハープロセスにより、トリクレ
ン（処理液）５ａの自然蒸発ウェハー表面への付着等の
消耗により処理槽５内のトリクレン５ａ・の液面が低下
する。この 小流量系のエアー弁６を定期的に、例え
ば４インチの半導体ウェハー２５枚の１セツトの処理時
間６分間毎に、一定時間、例えば１０秒間開放すること
により処理槽内５のトリクレン５ａの量整配管２ｂを介
して補なう。流量はニードルパルプ７により調節しニー
ドルパルプ７とエアー弁６を開く間隔及び開いておく時
間を最適々状態に設定することにより処理槽７の液面を
常に一定に維持することが可能となる。
ン（処理液）５ａの自然蒸発ウェハー表面への付着等の
消耗により処理槽５内のトリクレン５ａ・の液面が低下
する。この 小流量系のエアー弁６を定期的に、例え
ば４インチの半導体ウェハー２５枚の１セツトの処理時
間６分間毎に、一定時間、例えば１０秒間開放すること
により処理槽内５のトリクレン５ａの量整配管２ｂを介
して補なう。流量はニードルパルプ７により調節しニー
ドルパルプ７とエアー弁６を開く間隔及び開いておく時
間を最適々状態に設定することにより処理槽７の液面を
常に一定に維持することが可能となる。
第３図は本発明の他の実施例を示すものであり第２図と
はソ同じであるが、第２図と異なるのは（４） 微少量供給配管のニードルパルプ７ａがモーターを７ｂ
を有しており、該ニードルパルプ７ａがモーター駆動型
であること、処理槽５内のトリクレン５ａの液面に液面
レベル方ンサー１１を有していること、センサー信号を
人力しモーターに駆動信号を与えるコントローラ７１０
が具備されている点である。該実施例でｄトリクレン５
ａの液面の変化に応じて自動的に供給せしめられる。こ
の場合も大流量供給側のエアー弁３を開放することによ
り配管２ａを介して初期供給がなされ、−力率流量供給
側のエアー弁６及びニードルパルプ７ａの適当力調節に
より微量供給が配管２ｂを介して外される。特に本実施
例では液面レベルセンサー】１及びセンサー信号を入力
しモーターに駆動信号を与えるコントローラー１０の具
備により液面の変化に応じて、小流量供給側の流量が可
変して供給される。従って、液面の変動が非周期的な場
合や、液の消耗量が大きく、且つ常にある一定の量の薬
品を供給する必要がある場合に特に効果がある。
はソ同じであるが、第２図と異なるのは（４） 微少量供給配管のニードルパルプ７ａがモーターを７ｂ
を有しており、該ニードルパルプ７ａがモーター駆動型
であること、処理槽５内のトリクレン５ａの液面に液面
レベル方ンサー１１を有していること、センサー信号を
人力しモーターに駆動信号を与えるコントローラ７１０
が具備されている点である。該実施例でｄトリクレン５
ａの液面の変化に応じて自動的に供給せしめられる。こ
の場合も大流量供給側のエアー弁３を開放することによ
り配管２ａを介して初期供給がなされ、−力率流量供給
側のエアー弁６及びニードルパルプ７ａの適当力調節に
より微量供給が配管２ｂを介して外される。特に本実施
例では液面レベルセンサー】１及びセンサー信号を入力
しモーターに駆動信号を与えるコントローラー１０の具
備により液面の変化に応じて、小流量供給側の流量が可
変して供給される。従って、液面の変動が非周期的な場
合や、液の消耗量が大きく、且つ常にある一定の量の薬
品を供給する必要がある場合に特に効果がある。
又実施例で使用している薬品はトリクレンであるか“半
導体プロセスの目的により種々の薬品が使用出来るのは
勿論である。薬品の種類、温度、使用頻度、処理槽の容
積に応じて、ニードルパルプ７による流■及びエアー弁
６を開く間隔、時間を設定することによシ、いかなる薬
品、及び処理槽にも適応できる４、 以上の説明により本発明は処理槽への薬品供給のだめの
配管を大流量と小流量具備するととによって初期状態に
おいては短時間で処理槽を薬品で満たし、処理中におい
ては微少量の薬品供給を容易に行うことができるので作
業の能率の向上を図ることが可能である。
導体プロセスの目的により種々の薬品が使用出来るのは
勿論である。薬品の種類、温度、使用頻度、処理槽の容
積に応じて、ニードルパルプ７による流■及びエアー弁
６を開く間隔、時間を設定することによシ、いかなる薬
品、及び処理槽にも適応できる４、 以上の説明により本発明は処理槽への薬品供給のだめの
配管を大流量と小流量具備するととによって初期状態に
おいては短時間で処理槽を薬品で満たし、処理中におい
ては微少量の薬品供給を容易に行うことができるので作
業の能率の向上を図ることが可能である。
第１図は従来の実施例を示す説明図であり、第２図、第
３図は本発明の実施例を示す説明図である。 １・・・薬品供給タンク、１ａ・・・トリクレン、２．
２ａ、２ｂ、、、配管、 ａ／、・、エアー弁、
３・・・大流量供給側エアー弁、４・・・配管、５・・
・処理槽、 ５ａ・・・トリクレン、６・・
・小流量供給側エアー弁、 ７．７ａ・・・ニードルパルプ、 ７ｂ・・・モーター ８・・・メインタン
ク、９・・・配 管、 １０・・・コントロ
ーラー、特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 （７）
３図は本発明の実施例を示す説明図である。 １・・・薬品供給タンク、１ａ・・・トリクレン、２．
２ａ、２ｂ、、、配管、 ａ／、・、エアー弁、
３・・・大流量供給側エアー弁、４・・・配管、５・・
・処理槽、 ５ａ・・・トリクレン、６・・
・小流量供給側エアー弁、 ７．７ａ・・・ニードルパルプ、 ７ｂ・・・モーター ８・・・メインタン
ク、９・・・配 管、 １０・・・コントロ
ーラー、特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 （７）
Claims (1)
- 処理槽と、該処理槽への薬品供給のためのタンク及び配
管とを具備する薬品処理装置において；前記処理槽への
薬品供給のための配管を大流量と小流量の２系統配設す
ることにより前記処理槽の薬品の消耗に対して微少量の
薬品を前記タンクから処理槽へ供給して、該処理槽内の
薬品の液■を一定に維持することを特徴とする薬品処理
装置、。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14933181A JPS5851972A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薬品処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14933181A JPS5851972A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薬品処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5851972A true JPS5851972A (ja) | 1983-03-26 |
Family
ID=15472767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14933181A Pending JPS5851972A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薬品処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5851972A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5230442B2 (ja) * | 1971-08-21 | 1977-08-08 |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP14933181A patent/JPS5851972A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5230442B2 (ja) * | 1971-08-21 | 1977-08-08 |
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