JPS5850207B2 - 水素添加方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な接触的不斉水素添加方法に関する。

更に詳しくは、本発明は顕著な光学純度水準を与える水
素添加方法に関する。

均質触媒反応、すなわち反応成分および触媒の両者が反
応系中に可溶であるような触媒反応は不斉結果が求めら
れる方法において特に有用であることが見出されている
。

例えばラセミ混合物を生成しうるオレフィンを均質な光
学活性触媒の存在下に水素添加する場合、可能な光学対
掌体の一方が大割合量として得られ、他方の光学対掌体
が小割合量で得られることが見出されている。

更にある種のそのようなオレフィン性基質例えばα−ア
シルアミド置換基を含有するα−アミノ酸の前駆物質（
プレカーサー）は均質光学活性触媒の水素添加に特に適
合している。

そのような接触的不斉水素添加方法は多量の所望の光学
対掌体を生成する。

最近においては、光学活性ビスホスフィンリガンドを含
有する光学活性触媒はそのようなαアミノ酸前駆体に関
して顕著な（すなわち８０％およびそれ以上に達する）
光学純度水準を与えることが発見された。

水素添加によってそのような顕著な光学純度水準を与え
るような他のオレフィン性基質は特に望ましい。

本発明の目的はそのようなオレフィン性基質を提供する
ことである。

本発明の別の目的は大量の所望の光学対掌体を生成する
ような新規な接触的不斉水素添加方法を提供することで
ある。

本発明のこれらおよびその他の目的、特徴および利点は
以下の記載の考察から明らかとなるであろう。

前記目的によれば、本発明は、光学活性ビスホスフィン
リガンドとの組合せにおいてロジウムを包含してなる均
質配位コンプレックス触媒の存在下において、式 ％式％（） （式中Ｒ，Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素、１
〜５個の炭素原子を含有する置換または未置換のアルキ
ル、または置換または未置換のアリールを表わし、そし
てＲ３は１〜５個の炭素原子を含有する置換または未置
換のアルキルまたは置換または未置換のアリールを表わ
す）の化合物のＺ幾何異性体を接触不斉水素添加する方
法を与えるものである。

この方法は顕著な水準の光学純度の所望の光学対掌体を
与える。

この水素添加反応は次の反応式により説明される。

上記式中において、＊印は一方または両方の炭素原子が
不斉であることを示し、そしてＲ，Ｒ１、Ｒ２およびＲ
３は前記と同一の意味を有する。

水素添加されるオレフィン性基質の幾何立体化学は得ら
れる結果に影響することが見出されている。

一般に、本発明のオレフィン性基質に関して顕著な光学
純度水準を実現するためには、Ｚ幾何異性体を使用する
ことが必要である。

Ｅおよび２幾何異性体の命名法はＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ
ＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ第３５巻第９号第
２８４９〜２８６７頁（１９７０）に詳記されている。

Ｒ，Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の例としては、アルキル基例
えばメチル、エチル、プロピルその他、そジチアリール
基例えばフェニル、４−クロロフェニル、３・４−ジヒ
ドロキシフェニル、４−）ｆルフェニルその他を挙げる
ことができる。

当業者は、そのような置換基は多数の基から選ぶことが
できるということ、そしてこれは所望の目的生成物であ
る光学対掌体によってのみ限定されるということを認識
するであろう。

更に、そのような置−換基それ自体が、所望置換基であ
る置換基の前駆体であるという場合もありうる。

例えば、所望置換基がヒドロキシルの場合には、その不
飽和前駆体は接触的不斉水素添加後の簡単な加水分解に
よってヒドロキシルを与える置換基 を含有していてもよい。

本発明の方法から得られる光学対掌体は光学活性が生物
学的に活性な化合物の特性である場合、すなわち通常は
生物体においては一方または他方の光学対掌体のみが有
用であるという場合に特に望ましい。

例えば、カルボン酸上にα−ヒドロキシ置換基（単なる
加水分解から得られる）を有するこの方法から得られる
光学対掌体はα−アミノ酸に対する代替物として認めら
れている。

次の構造式により表わされる化合物は、本発明方法の使
用によって優れた結果を与える。

従ってこれは本発明の水素添加方法に特に好適な化合物
を表わす。

式中Ｒ，Ｒ’、 Ｒ２およびＲ３は前記と同一の意味を
有する。

本発明の特に好ましい態様は、橙）−エチル−２（アセ
チルオキシ）−３−フェニル−２−グロペノエー）、（
Ｚ）−メチル−２−（アセチルオキシ）２−７０ペノエ
ートおヨヒ（５）−エチル−２−（アセチルオキシ）−
２−プロペノエートの接触的不斉水素添加である。

そのような方法によって、フェニル酢酸および乳酸のＬ
型エナンチオマーを容易に得ることができる。

そのような水素化は通常例えばベンゼン、エタノール、
２−プロパツール、トルエン、シクロヘキサンのような
溶媒およびこれら溶媒の混合物中で行われる。

本反応の水素添加条件に不活性のほとんどすべての芳香
族または飽和アルカンまたはシクロアルカン溶媒を使用
することができる。

好ましい溶媒はアルコール特にメタノール、エタノール
および２−プロパツールである。

例えば水素添加されるオレフィン性基質中のエステル基
に相当するアルコールは特に望ましい。

本発明に有用である均質な光学活性触媒は、少くとも１
種の光学活性ビスホスフィンリガンド、好ましくは金属
１モル当り少くとも約０．５モルのビスホスフィンリガ
ンドと組合せたロジウムを包含する可溶性配位コンプレ
ックスである。

これらの触媒は反応物中で可溶性であり、そして従って
「均質」触媒と呼ばれる。

これらの触媒は次の一般式Ｉおよび■の光学活性ビスホ
スフィン化合物を含有する。

これらビスホスフィン化合物は、構造式 （式中人およびＢはそれぞれ独立して１〜１２個の炭素
原子を含有する置換および未置換のアルキル、４〜７個
の炭素原子を含有する置換および未置換のシクロアルキ
ル、置換および未置換アリールを表わすがただしそのよ
うな置換分については燐原子のまわりの立体要件に有意
の障害を与えないものであり、そしてＡとＢは異ったも
のである）により特性づゆられる。

そのようなビスホスフィン化合物の中で、各燐原子上に
２個の異ったアリール基を有するもの、特に１個のその
ようなアリール基がオルト位にアルコキシ置換分を有し
ているものもまた好ましい。

本発明に有用な一層好ましいビスホスフィン化合物は、
構造式 （式中Ｘは置換および未置換のフェニルを表わしそして
Ｙはアルコキシが１〜６個の炭素原子を含有している置
換および未置換の２−アルコキシフェニルを表わすが、
ただしそのような置換分は燐原子のまわりの立体要求性
を有意に阻害を与えないものであり、そしてＸおよびＹ
は異っている）により特徴づけられる光学活性ビスホス
フィンである。

次の一層具体的な式■の光学活性ビスホスフィン化合物
を使用して製造される触媒は本発明の接触的不斉水素添
加反応に特に好ましい。

本発明に有用な特に好ましい光学活性ビスホスフィン化
合物は、構造式 （式中Ｍは を表わし、Ｎは を表わし、 Ｒ′およびＲ“ はそれ ぞれ独立して水素、ハロゲン、１〜６個の炭素原子を含
有するアルキルおよび１〜６個の炭素原子を含有するア
ルコキシを表わし、そしてＲ″′は１〜６個の炭素原子
を含有するノルマルアルキルを表わすが、ただしＭおよ
びＮは異ったものである）によって特徴づけられる。

特に好ましい本発明に有用な光学活性ビスホスフィン化
合物は１・２−ビス（０−アニシルフェニルホスフイノ
）エタンである。

本発明に有用な他の光学活性ビスホスフィン化合物とし
ては １・２−ビス（０−アニンルー４−メチルフェニルホス
フィノ）エタン、 １・２−ビス（０−アニンルー４−クロロフェニルホス
フィノ）エタン、 １・２−ビス（ｏ−アニンルー３−クロロフェニルホス
フィノ）エタン、 １・２−ビス（ｏ−−ｙニジルー４−ブロモフェニルホ
スフィノ）エタン、 １・２−ビス（（２−メトキシ−５−クロロフェニル）
フェニルホスフィノ〕エタン １・２−ビス（（２−メトキシ−５−ブロモフェニル）
フェニルホスフィノコエタン、 １・２−ビス（２−エトキシフェニルフェニルホスフィ
ノ）エタン、 １・２−ビス（０−アニシルー（ｐ−フェニルフェニル
）ホスフィノコエタン、 １ ・２−ビス（（２−メトキシ−４−メチルフェニル
）フェニルホスフィノコエタン、 １・２−ビス（２−エトキシフェニル−４−クロロフェ
ニルホスフィノ）エタン、 ■・２−ビス（ｏ−７ニシルー２−メチルフェニルホス
フィノ）エタン、 ■・２−ビス（０−アニンルー４−エチルフェニルホス
フィノ）エタン、 １・２−ビス（０−アニンルー３−エチルフエニルホス
フイノ〕エタン、および １・２−ビス（０−アニンルー３−フェニルフェニルホ
スフィノ）エタン があげられる。

これらビスホスフィン化合物が小書水素添加反応に有用
であるためには、これらは光学活性の光学対掌体として
使用されなくてはならず、そしてメゾ（ｍｅｓｏ）形で
使用してはならない。

本発明に有用な配位コンプレックス触媒の光学活性性は
ビスホスフィンリガンド中にある。

この光学活性性は燐原子上にエタン架橋（ブリッジ）の
他に２個の異った基を有していることから由来する。

代表的な配位金属コンプレックスは式ＲｈＴＬ（式中Ｔ
は水素、弗素、臭素、塩素および沃素より成る群から選
ばれ、そしてＬは前記定義の光学活性ビスホスフィンリ
ガンドである）により表わすことができる。

所望の光学的対掌体の顕著な光学純度の水準は、ロジウ
ム金属の配位コンプレックスである式ＲｈＴＬ によ
り表わされる前記触媒によってのみ達成されうるのでは
な（、それはまたロジウムである遷移金属と金属１モル
当り少くとも約０．５モルの光学活性ビスホスフィンリ
ガンドの溶液を包含するその場で生成されたコンプレッ
クス触媒の存在下に水素添加が実施される場合にも達成
することができる。

例えばそのような触媒は適当な溶媒中にリガンドとして
の光学活性ビスホスフィン化合物と共に適当な金属の可
溶性化合物を溶解させることによって調製できるが、こ
の場合リガンドの金属に対する比は金属１モル当り少く
とも０．５モルのりガント、好ましくは金属１モル当り
１モルのりガントである。

触媒は、水素添加の前または水素添加の間に反応物に適
当量の光学活性ビスホスフィンリガンドを添加すると共
に、反応物に可溶性金属化合物を加えることによってそ
の場で生成させることが見出されている。

本発明方法に使用するに好ましい金属はロジウムである
。

使用しうる可溶性ロジウム化合物としては、三塩化ロジ
ウム水和物、三臭化ロジウム水和物、硫酸ロジウム、エ
チレン、プロピレンその他およびビスオレフィン例えば
１・５−シクロオクタジエンおよび１・５−へキサジエ
ン、ビシクロ−２・２・１−へブタ−２・５−ジエンお
よび二座配位性リガンドを形成しうるその他のジエンと
の有機ロジウムコンプレックス、または容易に可溶化さ
れる活性形態の金属ロジウムがあげられる。

金属１モル当り約０．５〜約２．０モル、好ましくは１
．０モルのビスホスフィンリガンド比で光学活性ビスホ
スフィンリガンドが存在している水素添加方法が本発明
の好ましい態様であることが見出された。

実際には、取扱いおよび保存の目的には固体形態の光学
活性触媒を有することが好ましい。

固体状の陽イオン性配位金属コンプレックスを使用して
顕著な結果を得ることができる。

金属１モル当り１モルの光学活性ビスホスフィンリガン
ドおよびキレート形成性ビスオレフィンを含有する陽イ
オン性配位金属コンプレックスは本発明に有用な触媒の
好適な形態を表わす。

例えば、前記の有機ロジウムコンプレックスを使用して
アルコール例えばエタノール中にこの有機ロジウムコン
プレックスをスラリー化させ、ロジウム１モル当り１モ
ルの光学活性ビスホスフィン化合物を加えてイオン溶液
を生成させ、次いで適当な陰イオン例えばテトラフルオ
ロボレートイオン、テトラフェニルボレートイオン、ま
たは溶媒から直接にかまたは適当な溶媒中での処理の際
に固体状陽イオン性配位金属コンプレックスの沈澱また
は結晶化を生ずるその他の任意の陰イオンを加えること
によって、そのような陽イオン性配位ロジウムコンプレ
ックスを調製することができる。

陽イオン位配位金属コンプレックスの例には、シクロオ
クタジエン−１・５−〔１・２−ビス（０−アニシルフ
ェニルホスフイノ〕エタン〕ロジウムテトラフルオロボ
レート、シクロオクタジエン−１・５−〔１・２−ビス
（０−アニシルフェニルホスフイノ）エタン〕ロジウム
テトラフェニルボレートおよびビシクロ−２・２・１−
へブタ−２・５−ジエン−〔１・２−ビス（０−アニシ
ルフェニルホスフイノ）エタン〕ロジウムテトラフルオ
ロボレートがある。

本発明に特に制限を加えようとするものではないが、こ
の触媒は実際には触媒前駆体として存在しているという
こと、そして水素に接触すると同時にこの触媒は活性形
態に変換されるということが考えられる。

勿論、この変換は現実の水素添加の間に行われうるか、
または水素添加されるべき反応系への添加に光触媒を（
または前駆体を）立って水素に付すことによって達成さ
れうる。

前記したように、この触媒は化合物それ自体としてかま
たは次いでその場で触媒を形成するその成分として溶媒
に加えることができる。

触媒がその成分として加えられる場合には、それはオレ
フィン性基質の添加の前または後で加えることができる
。

その場で触媒を製造するための成分は、可溶性金属化合
物および光学活性ビスホスフィン化合物である。

触媒は任意の触媒作用量で、そして一般には水素添加さ
れるべきオレフィン性基質基準で約０．００１ないし約
５重量％の金属含有量範囲で加えることができる。

実際的限度内において、触媒または反応物が酸化作用物
質と接触するのを避けるための手段が設けられるべきで
ある。

特に酸素との接触を避けるように注意すべきである。

水素添加反応の準備および実際の反応を反応成分および
触媒の両者に対して不活性な気体（水素以外）例えば窒
素またはアンボン中で行うことが好ましい。

反応成分および触媒を溶媒に加えた後で、存在するオレ
フィン性基質のモル量の約０．５〜約５倍が加えられる
まで水素をこの混合物に加える。

系の圧力は必然的に変動する。

その理由は圧力が反応成分の種類、触媒の種類、°水素
添加装置の大きさ、反応成分と触媒の量、および溶媒の
量に依存するからである。

大気圧および大気圧以下の圧力を含めて一層低い圧力な
らびに一層高い圧力を使用することができる。

反応温度は約−２０℃〜約１１０℃の範囲でありうる。

もつと高温を使用することもできるが、しかし通常は不
要であり、そしてこれら副反応を増大させる結果となる
。

慣用の手段で決定される反応の完了後、この生成物は慣
用の手段で回収される。

多（の天然物質および医薬は光学活性形態で存在してい
る。

これらの場合、Ｌ形またはＤ形のみが有効であるのが普
通である。

過去におけるこれら化合物の合成的製造は、その生成物
をその光学対掌体に分離するという追加の段階を必要と
した。

この方法は高価でありそして時間のかかるものである。

本発明の方法は顕著な光学純度での所望の光学対掌体の
直接形成を可能ならしめ、かくしてそのような時間のか
かりそして高価な光学活性対掌体の分離を大幅に省略す
るものである。

更に、この方法は所望の光学対掌体のより高収率を与え
、その際同時に不要の光学対掌体の収率を低下せしめる
。

本発明の水素添加方法は、異常に高い光学純度の所望の
光学対掌体を与えるというその能力の故のみならず、ま
た低い触媒濃度で迅速な水素添加速度を与える能力の故
にも特に望ましいものである。

次の実施例は本発明の範囲内のある特定具体例を示すた
めのものであり、そしてこれは本発明の範囲を限定する
ものとして理解されるべきではない。

実施例中の光学純度％は次の式により決定される。

比旋光度として表わされているその光学活性度は同一溶
媒中で測定された。

例１ 区）−エチル−２−（アセチルオキシ）−３−フェニル
−２−グロペノエートノ製造 ２２ｙのフェニルピルビン酸エチル、６５Ｓ’（７）酢
酸無水物および２０ｒｖのｐ−トルエンスルホン酸−水
和物を含有する溶液を２．５時間還流させた。

過剰の酢酸無水物を反応物からストリッピングし、そし
て生成物たる粗製の（Ｚ）−エチル−２−（アセチルオ
キシ）−３−フェニル−２−プロペノエートを約１．６
ｍｉＨｇ （ｂ、ｐ、１２０〜１３５℃）で蒸溜した。

回収された生成物は冷蔵庫に放置すると結晶化した。

これを沢過により回収しそしてエタノールから再結晶し
て１２．１ｆ（ｍ、ｐ、４１〜４７℃）を回収した。

第２次の再結晶により１０．５ Ｓ’ （ｍ、ｐ、 ４
７〜４９℃）そして第３次の再結晶により９．２ｙ（ｍ
、ｐ、４７〜４９℃）を得た。

例２ エチル−２−（アセチルオキシ）−３−フェニルプロパ
ノエートの製造 （Ａ） ３０ＣＣのエタノール中１．９９０３Ｐ中のＶ
Ｊ）エチル−２−（アセチルオキシ）−３−フェニル−
２−プロペノエートおよび０．０１７５５’のシクロオ
クタジエンート５−（１・２−ビス（０−アニシルフェ
ニルホスフイノ）エタン〕ロジウムテトラフルオロボレ
ートをホークボンベ中で約２７気圧５０℃で振盪した。

水素吸収は２時間で本質的に完了した。

得られた溶液を回転蒸発器上でそのエタノールをストリ
ッピングし、モしてＮＭＲにより検査した。

ＮＭＲは油状物としての水素添加反応生成物たるエチル
−２−（アセチルオキシ）−３−フェニルプロパノエー
トの存在を確認した。

この生成物を真空蒸溜により回収した。

１．６２の蒸留物（ｂ、ｐ。８０〜ｂ ＮＭＲ分析は、この生成物が９７．６％の所望の水素添
加生成物および２．４％の原料オレフィンより構成され
ていることを示す。

ガスクロマトグラフィーによってこの分析を確認した。

（α、１２０ ＝−６，９１°（ｃ−６，０、ＣＨＣｌ
ａ中）。

光学純度は７９．４％であった。

分析用に調整された場合にはそれは８１．５％であった
。

（Ｂ） ３０ｃｃのエタノール中の２．２７２１５’
の（２）−エチル−２−（アセチルオキシ）−３−フェ
ニル−２−プロペノエートおよび０．０２０；Ｉｌｌの
シクロオクタジエン−１・５−（１・２−ビス（０−ア
ニシルフェニルホスフイノ）エタン〕ロジウムテトラフ
ルオロボレートを５１℃において３気圧の水素圧に付し
た。

得られた溶液を回転蒸発器上でそのエタノールをストリ
ッピングした。

ＮＭＲは６時間後に８９％の完了を示した。

この生成物たるエチル−２−（アセチルオキシ）−３−
フェニルプロパノエートラフラッシュ蒸留（ｂ、ｐ、８
０〜８５℃１０．５間Ｈｇ）により回収した。

ＮＭＲ分析は、８７．０％の所望の生成物を示す。

この生成物の観測された旋光度は−０，５１５°、（α
）Ｄ＝８．２７°（ｃ−６，０、ＣＨＣｌ３中）であっ
た。

分析用に調整された光学純度は９５％であった。

例３ （７Ｊ）−エチル−３−（アセチルオキシ）−３−フェ
ニル−２−プロパノエートの製造 ２７．８１（０，１４５モル）のエチル−３−オキソ−
３−フェニルプロパノニー）、２９．Ｏｆの２−アセチ
ルオキシ−１−プロペンおよび１００ｒｒｌｆｊＩのｐ
−）ルエンスルホン酸−水和物の溶液全１フ時間還流加
熱した。

この反応物を５ｏｍｌの５℃の飽和ＮａＨＣＯ３溶液中
に注ぎそしてその有機相をエチルエーテル中に抽出した
。

このエーテル溶液を乾燥させ、そして溶媒をストリッピ
ングした。

残渣を０．１ ｍｗＨｇ圧力で蒸留すると８．３２の黄
色の油（ｂ、ｐ、１１０〜１２０℃）が得られた。

この蒸留物はＧＬＣｌＮＭＲおよび紫外分析によって（
２Ｓ）−エチル−３−（アセチルオキシ）−３−フェニ
ル−２−プロペノエートであることが示された。

例４ エチル−３−（アセチルオキシ）−３−フェニルプロパ
ノエートの製造 ３０ＣＣのエタノール中２．５２のＺ）−エチル−３−
（アセチルオキシ）−３−フェニル−２−プロペノエー
ト（２，６５Ｐ）および０．０３７３Ｓ’のシクロオク
タジエン−１・５−（１・２−ビス（０−アニシルフェ
ニルホスフイノ）エタン〕ロジウムテトラフルオロボレ
ートの溶液を２７気圧において５０℃でホークボンベ中
で水素添加した。

１２時間後回転蒸発器上でエタノールを除去することに
よってこの生成物を単離した。

ＮＭＲ分析はこのオレフィンに対する水素添加生成物の
比が８９：１１であることを示した。

更に若干のエチル−３−フェニルプロパノエートカ存在
していたが、これは加水素分解から生じたものであった
。

この粗製生成物２．５ｙを蒸留に付した。

第一の分画（ｂ、ｐ、７５〜８７℃１０．１ｍｉＨｇ
）を集めた。

これはエチル３−フェニルプロパノエートであった。

９５〜ｂりの物質は、エチル−３−（アセチルオキシ）
−３−フェニルプロパノエートト（Ｚ）−エチル−３−
（アセチルオキシ）−３−フェニル−２−プロペノエー
トの８６ ：１４の混合物（ＮＭＲ）であった。

〔α）Ｄ＝−４，７４（そのまま、１＝１）。ＮＭＲ分
析に対して補正を行った場合には光学純度は９０．５％
であった。

例５ （６）−エチ／ｌ／−３−（アセチルオキシ）−３−フ
ェニル−２−プロペノエートの製造 ６０ｍ１のＣＨＣｌ３中５．２１の（Ｚ）−エチル−３
−（アセチルオキシ）−３−フェニル−２−プロペノエ
ートの溶液を７２時間３１００Ａの光線で照射した。

回転蒸発器上で溶媒を除去した。０．０３ｍｒｎＨｇで
残渣を蒸留すると１．３１の黄色油状物（ｂ、ｐ、９２
〜９８℃）が得られた。

この蒸留物はＧＬＣ，ＮＭＲおよび紫外分析によって８
６％純度の（８）−エチル−３−（アセチルオキシ）−
３−フェニル−２−プロペノエートであることが示され
た。

例６ エチルー３−（アセチルオキシ）−３−フェニルプロパ
ノエートの製造 ３０ｃｃのエタノール中で１．１５６６ｆの（６）−エ
チル−３−（アセチルオキシ）−３−フェニル−２−プ
ロペノエート（８６％純度）（例５で製造されたもの）
および０．０２７ｆＩのシクロオクタジエン−１・５−
〔１・２−ビス（０−アニシルフェニルホスフイノ）エ
タン〕ロジウムテトラフルオロボレートを５時間２７気
圧５０℃で水素添加した。

次いでエタノールを回転蒸発器上でストリッピングし、
そしてその生成物をＮＭＲ分析により検査した。

水素添加生成物のオレフィンに対する比は７６ ： ２
４であった。

この生成混合物を９５〜１２０℃１０，２關Ｈｇで蒸留
した。

蒸留物のガスクロマトグラフィー分析はエチル−３（ア
セチルオキシ）−３−フェニルプロパノエート対（８）
−エチル−３−（アセチルオキシ）−３フェニル−２−
プロパノエート対エチル−３−フェニルプロパノエート
の比が６４：１８：１８であることを示した。

この混合物は〔α〕９−＋０．５１５° （そのまま、
１＝１）を有していた。

所望の水素添加生成物の分析用に補正すると〔α、ｌＤ
＝＋０．８０５° （そのまま、１−１）であった。

光学純度は１５．４％である。ここに本発明をある特定
具体例に関して記載したが本発明はそれらに限定される
ものではない。

当業者によって本発明の精神から逸脱することなしに多
くの変形をなしうろことを理解すべきである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １式 （式中、Ｒ１ Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水 素、１〜５個の炭素原子を含有する置換または未置換の
   アルキル、または置換または未置換のアリールを表わし
   、そしてＲ３は１〜５個の炭素原子を含有する置換また
   は未置換のアルキルまたは置換または未置換のアリール
   を表わす）の化合物の２幾何異性体を、式 （式中、ＡおよびＢはそれぞれ独立して１〜１２個の炭
   素原子を含有する置換および未置換アルキル、４〜７個
   の炭素原子を含有する置換および未置換シクロアルキル
   、または置換および未置換アリールを表わすがただしそ
   のような置換基は燐原子のまわりの立体要件に有意の障
   害を与えないものであり、モしてＡおよびＢは異ったも
   のである）により表わされる光学活性ビスホスフィンリ
   ガンドと組合せたロジウムを包含する均質配位コンプレ
   ックスの触媒作用量の存在下において水素添加すること
   よりなる、不斉水素添加方法。 ２ ビスホスフィンリガンドカ式 （式中、Ｘは置換および未置換のフェニルを表わし、そ
   してＹはアルコキシが１〜６個の炭素原子を含有してい
   る置換および未置換の２−アルコキシフェニルを表わし
   ているが、ただしそのような置換基は燐原子のまわりの
   立体要件を有意に阻害しないものであり、そしてＸおよ
   びＹは異っている）により表わされる、前記第１項記載
   の水素添加方法。 ３ ビスホスフィンリガンドが式 （式中、Ｍは を表わし、Ｎは を表わし、Ｒ′およびＲ〃 はそれ ぞれ独立して水素、ハロゲン、１〜６個の炭素原子を含
   有するアルキルおよび１〜６個の炭素原子を含有するア
   ルコキシを表わし、そしてＲ″′は１〜６個の炭素原子
   を含有するノルマルアルキルを表わすが、ただしＭおよ
   びＮは異っている）により表わされる、前記第１項記載
   の水素添加方法。 ４ ビスホスフィンリガンドが１・２−ビス（０−アニ
   シルフェニルホスフイノ）エタンである、前記第１項記
   載の水素添加方法。 ５ 水素添加される化合物がＶ、）−エチル−２−（ア
   セチルオキシ）−３−フェニル−２−プロペノエートで
   ある、前記第１項記載の水素添加方法。