JPS5849941A - ネガ型画像形成材料 - Google Patents
ネガ型画像形成材料Info
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- JPS5849941A JPS5849941A JP56147807A JP14780781A JPS5849941A JP S5849941 A JPS5849941 A JP S5849941A JP 56147807 A JP56147807 A JP 56147807A JP 14780781 A JP14780781 A JP 14780781A JP S5849941 A JPS5849941 A JP S5849941A
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- JP
- Japan
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- layer
- self
- optical density
- cross
- alkali
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、良好な感廖を冷し、しかも特にリスフィルム
用途に好適な高コントラスト、高解倫性及び為濃度の画
gIJを与えることができるネガ型画倫形成材料にトす
る。
用途に好適な高コントラスト、高解倫性及び為濃度の画
gIJを与えることができるネガ型画倫形成材料にトす
る。
従来、透明乃至半透明の支持体上に光架執性樹脂層を設
けたネガ童画4Ik形成材料は知られてhる0この材側
i11.wII#脂層−1に原図をi′き原図餉から旋
光してi[kt形欣させるものであるが、このものFi
%にリスフィルム用途に心機な高コントラスト、為解會
性及び高濃度の重曹を鳥オるもので社なかった0 さ春に、本発明者ら社リスフィルム用途に好適なiiI
像を与える画像形成材料を提案した(勇願昭55−83
459号)。この提案′@明の材料は、支持体上にいず
れも感光性である2&輌造を鳴し、中間層(第1Jb)
にシ料(瑞光剤)、非自己架−性の高分子化合物及び架
橋剤を含ませ、外〜(諏2〜)にか料を含ませないで自
己架機性島分子化泊物を含1セたものである。この*4
料は、中間層と外層の極脂取分としてそれぞれ物足のも
のを過ふと共にこれらを組合せることにより良好な11
Tsを冷し、しかも高コントラスト、高解像性及び高−
膓の画体を与えるものであった。
けたネガ童画4Ik形成材料は知られてhる0この材側
i11.wII#脂層−1に原図をi′き原図餉から旋
光してi[kt形欣させるものであるが、このものFi
%にリスフィルム用途に心機な高コントラスト、為解會
性及び高濃度の重曹を鳥オるもので社なかった0 さ春に、本発明者ら社リスフィルム用途に好適なiiI
像を与える画像形成材料を提案した(勇願昭55−83
459号)。この提案′@明の材料は、支持体上にいず
れも感光性である2&輌造を鳴し、中間層(第1Jb)
にシ料(瑞光剤)、非自己架−性の高分子化合物及び架
橋剤を含ませ、外〜(諏2〜)にか料を含ませないで自
己架機性島分子化泊物を含1セたものである。この*4
料は、中間層と外層の極脂取分としてそれぞれ物足のも
のを過ふと共にこれらを組合せることにより良好な11
Tsを冷し、しかも高コントラスト、高解像性及び高−
膓の画体を与えるものであった。
不発町名らは、引続!棟側を行った結果、前記提案発明
におけるとrj!jじ極脂取分を俊・用し、その除外層
にも中間層に比し少負の1(染)料をカムえると、リス
フィルム用途に好適なikl偽が物られ、しかも鮮鋭膝
の劣る網点・1kからなる原図をイー・用した場合でも
鮮鋭度の改善された画像が得られることを見出し、本発
明に達した。
におけるとrj!jじ極脂取分を俊・用し、その除外層
にも中間層に比し少負の1(染)料をカムえると、リス
フィルム用途に好適なikl偽が物られ、しかも鮮鋭膝
の劣る網点・1kからなる原図をイー・用した場合でも
鮮鋭度の改善された画像が得られることを見出し、本発
明に達した。
す危わち、本発明は、透明乃至半透明の支持体上に、中
1!]jIllとして下記(cL) 〜(i (7)成
分を含む義光学IIIWL感九鳩()10D層)、C−
) 馳(染)f#+ (4) 自己架橋性を1しないアルカリ可溶性の遊離
カルボキシル基含禍高分子化 合参゛。
1!]jIllとして下記(cL) 〜(i (7)成
分を含む義光学IIIWL感九鳩()10D層)、C−
) 馳(染)f#+ (4) 自己架橋性を1しないアルカリ可溶性の遊離
カルボキシル基含禍高分子化 合参゛。
(C) エチレン性不飽和結合yc基づく架橋剤
そして外〜として下記(C7)、(4)の成分を含む低
光学II表感九4(LOD層) (d) jll(染)料 14) エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を弔
するアルカリ可溶性の遊離 カルボキシル基含有高分子化合物 を設置てカるネカ型ik1g4形成材和である。
光学II表感九4(LOD層) (d) jll(染)料 14) エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を弔
するアルカリ可溶性の遊離 カルボキシル基含有高分子化合物 を設置てカるネカ型ik1g4形成材和である。
本発明における311町乃至牛透鴨の支持体としては、
紫外・近紫外域の活性光に約し、鳴利にFili 6o
%以上の透過率をもつ鎚伸・非延伸のグラスチックフィ
ルムか使用される。例えはポリエチレンテレフタレート
、インフタル醗変成ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート轡からなるポリエステルフィル
ム。
紫外・近紫外域の活性光に約し、鳴利にFili 6o
%以上の透過率をもつ鎚伸・非延伸のグラスチックフィ
ルムか使用される。例えはポリエチレンテレフタレート
、インフタル醗変成ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート轡からなるポリエステルフィル
ム。
ホIJ ! fレン、ポリプロピレン勢のポリ# L/
フィンフィルム、ナイロン12.ナイロン6、ナイロ
ン6.6叫からなるナイロンフィルム、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート郷からなるアセテ
ートフィルム、あるい祉ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリビニルクロリド、ポリビニルクロリド勢からな
るフィルム4か利用し44)る0そのはか、支持体とし
てソーダガラス、石莢ガラス叫の無楡材儂のものもP9
T望によっては使用することができる。
フィンフィルム、ナイロン12.ナイロン6、ナイロ
ン6.6叫からなるナイロンフィルム、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート郷からなるアセテ
ートフィルム、あるい祉ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリビニルクロリド、ポリビニルクロリド勢からな
るフィルム4か利用し44)る0そのはか、支持体とし
てソーダガラス、石莢ガラス叫の無楡材儂のものもP9
T望によっては使用することができる。
支持体のへさけ、寸法安此恰がよく好ましい支持体であ
る2軸延伸ポリエステルフイルムや一7合、10〜25
0μ9%に冷態には50〜150μであるn 本f6I8+1のネガ#1−1体影取材料にあっては、
支軸体上に光学s11の真なる5!1.架板上層である
1(ODhbとL OD Nlの2〜か設けられている
。
る2軸延伸ポリエステルフイルムや一7合、10〜25
0μ9%に冷態には50〜150μであるn 本f6I8+1のネガ#1−1体影取材料にあっては、
支軸体上に光学s11の真なる5!1.架板上層である
1(ODhbとL OD Nlの2〜か設けられている
。
光学濃度(Op、tLcal〕’cwaAJν、ODと
略記)とL1光がbit−透過する北本、または光か物
質表向よりBL射する比ヰを表わし、下式で与えられる
。
略記)とL1光がbit−透過する北本、または光か物
質表向よりBL射する比ヰを表わし、下式で与えられる
。
OD = J、6g、。IO/工
(ただし 工。は九の入射%膝、■は光の透過強度また
は反射弥縫を示す。) 本発明の材料は使用目的上透過光か1賛であるから、1
1について説明すると、例えば光学#膠3とは入射光の
171,000 が、また光学−皺5とに入射光のl
/ 100.000 が′i!1退することをかす
。したがって、光学濃度の数値が大きい#1ど透過Sa
小さく々る。被照射物質が同一でありでも、その物質の
光学l11度は、使用した入射光の波長に依有し、青色
フィルターを透過した光(波長:300〜400nm)
を入射光として使用した場合と緑色フィルターを透
過した光(が長: 500〜600 ton ) を
入射光として(!li用し九〜合とでは一般に九谷番譲
が異カリ、前渚の入射光は紫外・近県外光に、後者の入
射光は同視光にそれぞれ対k、する。
は反射弥縫を示す。) 本発明の材料は使用目的上透過光か1賛であるから、1
1について説明すると、例えば光学#膠3とは入射光の
171,000 が、また光学−皺5とに入射光のl
/ 100.000 が′i!1退することをかす
。したがって、光学濃度の数値が大きい#1ど透過Sa
小さく々る。被照射物質が同一でありでも、その物質の
光学l11度は、使用した入射光の波長に依有し、青色
フィルターを透過した光(波長:300〜400nm)
を入射光として使用した場合と緑色フィルターを透
過した光(が長: 500〜600 ton ) を
入射光として(!li用し九〜合とでは一般に九谷番譲
が異カリ、前渚の入射光は紫外・近県外光に、後者の入
射光は同視光にそれぞれ対k、する。
1’?−近県外光は活性光として本発明の材料自体の焼
き付けと、得られたill像フィルムをリスフィルムと
して利用するときの焼き付けに使用される関係上、体外
令近紫外光に対する光学#簾が11&!である。本発明
においてrl学撫皺(有色フィルター使用)」とは、青
色フィルター(米国人tdaA社製にルαχχ41井1
8)を透過した光を入射光として使用した場合K11l
定される光学−駄を指す。
き付けと、得られたill像フィルムをリスフィルムと
して利用するときの焼き付けに使用される関係上、体外
令近紫外光に対する光学#簾が11&!である。本発明
においてrl学撫皺(有色フィルター使用)」とは、青
色フィルター(米国人tdaA社製にルαχχ41井1
8)を透過した光を入射光として使用した場合K11l
定される光学−駄を指す。
本発明において中間層であるHOD烏は下記(a)〜<
c、>を含む。
c、>を含む。
<6) &(染)狛
(ネ) 自己架橋性を肩しないアルカリ可溶性の遊離
カルボキシル基含有高分子化 合物 (C) エチレン性不飽和結合に基づ〈架橋剤 また、外層であるLOD層は下記(d)、(−)を含む
。
カルボキシル基含有高分子化 合物 (C) エチレン性不飽和結合に基づ〈架橋剤 また、外層であるLOD層は下記(d)、(−)を含む
。
(d) 拳(染)料
(4) エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を有
するアルカリ可溶性の遊離 カルボキシル基含有高分子化合物 このように不発F!Aにおいては中間層のHOD層に自
己架橋性を本しない高分子化合物(4)及び**剤(C
)を含み、外層のLOI)層に自己架橋性を有する高分
子化合物(4)を含むものである□そして本発明は、前
記提案発明とは異なり外層に麺(染)料を含有しておシ
、本発明によればリスフィルム用途に好適な画像が得ら
れ、しかも前記提案発明と異なり鮮鋭度の劣る原図から
でも鮮鋭度の&善され九II1gNが得られる。かかる
優れた効果は本発明において特定の成分構成と光学S度
が採用されていることによると思われる。
するアルカリ可溶性の遊離 カルボキシル基含有高分子化合物 このように不発F!Aにおいては中間層のHOD層に自
己架橋性を本しない高分子化合物(4)及び**剤(C
)を含み、外層のLOI)層に自己架橋性を有する高分
子化合物(4)を含むものである□そして本発明は、前
記提案発明とは異なり外層に麺(染)料を含有しておシ
、本発明によればリスフィルム用途に好適な画像が得ら
れ、しかも前記提案発明と異なり鮮鋭度の劣る原図から
でも鮮鋭度の&善され九II1gNが得られる。かかる
優れた効果は本発明において特定の成分構成と光学S度
が採用されていることによると思われる。
本発明の如き構成のネガ型画体形成材料はこれまで知ら
れていない。もっと本従来銀塩写^材料において九t−
吸収する染料乃至−料を龜加したハレーション防止表引
きが知られているが、ハレーション肪止Mtiそれ自体
感光性がなく、かつ、染料乃至−料紘仇像中脱色される
のに附し、本発明の場合、外11&0LODJII自体
が感光性を有し、LOD〜中の龜(染)料は現体によっ
て脱色されることはなく形成される画像の光学hrIL
に寄与する点において本漬的な相違がある^ 次にhOD層、LOD&の組成について記述する。
れていない。もっと本従来銀塩写^材料において九t−
吸収する染料乃至−料を龜加したハレーション防止表引
きが知られているが、ハレーション肪止Mtiそれ自体
感光性がなく、かつ、染料乃至−料紘仇像中脱色される
のに附し、本発明の場合、外11&0LODJII自体
が感光性を有し、LOD〜中の龜(染)料は現体によっ
て脱色されることはなく形成される画像の光学hrIL
に寄与する点において本漬的な相違がある^ 次にhOD層、LOD&の組成について記述する。
中1′&11〜である)IODIII(高光学濃膿感光
勉)+Il[#(弧)料〕(Q) HOD〜中には該勉が高光学濃服を保持するために必賛
な範囲でよシ多量の#(染)料が添加される。本発明の
材料による1ili体は、本発明の材料自体の焼き付け
に使用されるとrFIJsな紫外・近紫外光を活性光と
して柄版あるいは感光性フィルムの快き付けに利用され
ることが多い@係上、HODIllはこの1の活性光の
IIA′:/l、に壱第1」になるよう高光蒙皺を有す
る心機がある0EOD〜の光学線縦(青色フィルター使
用)it3以上、好ましくは4〜6である。仁の党学&
脈の上限は実用上7程度である。
勉)+Il[#(弧)料〕(Q) HOD〜中には該勉が高光学濃服を保持するために必賛
な範囲でよシ多量の#(染)料が添加される。本発明の
材料による1ili体は、本発明の材料自体の焼き付け
に使用されるとrFIJsな紫外・近紫外光を活性光と
して柄版あるいは感光性フィルムの快き付けに利用され
ることが多い@係上、HODIllはこの1の活性光の
IIA′:/l、に壱第1」になるよう高光蒙皺を有す
る心機がある0EOD〜の光学線縦(青色フィルター使
用)it3以上、好ましくは4〜6である。仁の党学&
脈の上限は実用上7程度である。
llOD層に含壕せる麺(誓)料としては、WJAlh
性体甑粒子、殊にベンガラ、オーカー。
性体甑粒子、殊にベンガラ、オーカー。
#黒勢のほか、カーボン・プラック、ボーン黒、フタロ
シャエン(c、工、74265)、ナフトールグリーン
BN(0,工、10020−、taA4) 、 $2−
ダ電ンBレーキ(C,I。
シャエン(c、工、74265)、ナフトールグリーン
BN(0,工、10020−、taA4) 、 $2−
ダ電ンBレーキ(C,I。
45170)、キナクリドンレッド(0,I。
46500)、C、工、ティスパーズ・バイオレット1
(C0■、61100)、c、工、ティスパーズ・フ
ラッフ29’(C,工、11260)、O,工。
(C0■、61100)、c、工、ティスパーズ・フ
ラッフ29’(C,工、11260)、O,工。
バット・ブルー29(0,工、59800)、O。
1、ソルベント・ブルー12(0,工。
62150)、c、1.ソルベント拳ブラック3(0,
1,26150) 岬が例示される。
1,26150) 岬が例示される。
これらのうち、鉄無勢のIIjia性体微粒子−料祉、
現像液中で磁気的に回収でき@体液の循瑯反りal使用
を可能にするから有利である〇しかし、本発明の材料を
バット現像する場合とか、あるいFili1求される解
像性が網点−像tlどme+でない地図製版用の0帆の
揚台には強磁性体微粒子伽料以外の一料乃至染料を単独
または混合して使用するのがよい。HOD層にありては
、光架橋性において1利な粒子性の麺料金主体とするこ
とが概してのぞましい。
現像液中で磁気的に回収でき@体液の循瑯反りal使用
を可能にするから有利である〇しかし、本発明の材料を
バット現像する場合とか、あるいFili1求される解
像性が網点−像tlどme+でない地図製版用の0帆の
揚台には強磁性体微粒子伽料以外の一料乃至染料を単独
または混合して使用するのがよい。HOD層にありては
、光架橋性において1利な粒子性の麺料金主体とするこ
とが概してのぞましい。
(2)〔自己架極性を鳴しないアルカリ可溶性の遊離カ
ルボキシル基含有高分子化合物〕(すHOD 層中に含
まれる11記の高分子化合物は従来公知のものであって
、好ましいものは下式(1)に示される単@構造を有す
る共重合体である。
ルボキシル基含有高分子化合物〕(すHOD 層中に含
まれる11記の高分子化合物は従来公知のものであって
、好ましいものは下式(1)に示される単@構造を有す
る共重合体である。
1
ま
ただし、式中のArは置換基を有し、またL禍しないフ
ェニル基を R1は水素原子または低級アルキル墓を、
またR2は水嵩R子。
ェニル基を R1は水素原子または低級アルキル墓を、
またR2は水嵩R子。
アル今ル基、シクロアルキル基、ア2ルキル基を懺わす
。5L約60〜80モルチ、n論は約50〜20七ルー
の範囲にある。
。5L約60〜80モルチ、n論は約50〜20七ルー
の範囲にある。
この種の共重合体は、スチレン、α−メチルスチレン、
WL−あるいは−一ビニルトルエン、t−t*hp−ク
ロルスチレン、σ−または一一メトキシスチレン勢のス
チレンま九はその誘尋体〔ム〕と、マレイン酸モノエチ
ル、マレイン酸モノエチル、!レイン11%ノー tL
−70ビル、!レイン鈑モノー↓j#−プロピル、マレ
イン酸モノ−71−フチルウマレイン酸モノーLjt−
ブチル、マレイン酸モノ−1<ルえ−ブチル〔B〕との
共1金高分子化合−1わるいL前記〔ム〕とマレイン酸
モノエチル、モノーLje−プロピル勢との共重合高分
子化合物である。該共1金高分子化合物中のスチレンま
たは置換スチレンと、!レイン酸モノアルキルエステル
の存在比社約50〜80モルー/約50〜20峰ルーで
ある。
WL−あるいは−一ビニルトルエン、t−t*hp−ク
ロルスチレン、σ−または一一メトキシスチレン勢のス
チレンま九はその誘尋体〔ム〕と、マレイン酸モノエチ
ル、マレイン酸モノエチル、!レイン11%ノー tL
−70ビル、!レイン鈑モノー↓j#−プロピル、マレ
イン酸モノ−71−フチルウマレイン酸モノーLjt−
ブチル、マレイン酸モノ−1<ルえ−ブチル〔B〕との
共1金高分子化合−1わるいL前記〔ム〕とマレイン酸
モノエチル、モノーLje−プロピル勢との共重合高分
子化合物である。該共1金高分子化合物中のスチレンま
たは置換スチレンと、!レイン酸モノアルキルエステル
の存在比社約50〜80モルー/約50〜20峰ルーで
ある。
このほかHODMi中における高分子化合物として前記
式(1)で表わされる共重合高分子化合物のほかに9例
えは酢酸ビニル−クロトンWR1アルキルメタクリレー
ト−メタクリル識、アルキルアクリレート−アクリルか
。
式(1)で表わされる共重合高分子化合物のほかに9例
えは酢酸ビニル−クロトンWR1アルキルメタクリレー
ト−メタクリル識、アルキルアクリレート−アクリルか
。
エチレン−!レイン僚七ノアルキレート岬の二元共重合
体及び酢酸ビニル−塩化ビニル−マレイン−等の三元共
1合体、並びにセルシースフタレート、セルロースマレ
エート勢モ使用することが可能である。
体及び酢酸ビニル−塩化ビニル−マレイン−等の三元共
1合体、並びにセルシースフタレート、セルロースマレ
エート勢モ使用することが可能である。
(31〔エチレン性不飽和結合に基づく架−剤〕<−>
上に2 <’)の自己架極性を鳴しない高分子化合物を
光架橋させる架橋剤としては、公知のもOf:使用する
ことができる。通常例えは1個のエチレン性不か和結合
をもつ化合物。
光架橋させる架橋剤としては、公知のもOf:使用する
ことができる。通常例えは1個のエチレン性不か和結合
をもつ化合物。
2個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物で常温
算圧下不tI1発性の化合物か用いられる。しかし、架
板効率からみて概して2個以上のエチレン性不飽和結合
を有する化合物の使用か1利である0 架橋剤の具体例としては、エチレングリコ −一ルジア
クリレート、1.3−10パンジオールジアクリレート
、グロビレングリコールジアクリレート、2.3−ブタ
ンジオールジアクリレート、1.4−ブタンジオールジ
アクリレート、2−エチル−ブタン−1,4−ジオール
ジアクリレート、1.5−ベンタンジオールジアクリレ
ート、1.6−ヘキサンリオールジアクリレート、1.
4−ジメチロールシクロヘキサンジアクリレート、トリ
メチロールプロパントアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、レゾルシノールジアクリレート、戸、
−′−ジヒドロキシシフ、ニルジアクリレート、ビスフ
ェノールムージグリシジルジアクリレート、ビストリメ
チロールプロパンへキサアクリレート勢、あるい轄上記
のメタクリレート同構体例えばエチレングリコールジメ
タクリレート勢、更にジアリルフタレート、ジアリルア
クリルアミド、メチレンビスアクリルアミド、バルビッ
ール酸ジアリル勢が挙けられる。
算圧下不tI1発性の化合物か用いられる。しかし、架
板効率からみて概して2個以上のエチレン性不飽和結合
を有する化合物の使用か1利である0 架橋剤の具体例としては、エチレングリコ −一ルジア
クリレート、1.3−10パンジオールジアクリレート
、グロビレングリコールジアクリレート、2.3−ブタ
ンジオールジアクリレート、1.4−ブタンジオールジ
アクリレート、2−エチル−ブタン−1,4−ジオール
ジアクリレート、1.5−ベンタンジオールジアクリレ
ート、1.6−ヘキサンリオールジアクリレート、1.
4−ジメチロールシクロヘキサンジアクリレート、トリ
メチロールプロパントアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、レゾルシノールジアクリレート、戸、
−′−ジヒドロキシシフ、ニルジアクリレート、ビスフ
ェノールムージグリシジルジアクリレート、ビストリメ
チロールプロパンへキサアクリレート勢、あるい轄上記
のメタクリレート同構体例えばエチレングリコールジメ
タクリレート勢、更にジアリルフタレート、ジアリルア
クリルアミド、メチレンビスアクリルアミド、バルビッ
ール酸ジアリル勢が挙けられる。
(41〔光活性剤、熱1合糸止剤等〕
HOD層には以上(−)〜<Q)の必須成分のほかに光
活性剤、熱1合禁止剤、更には分散性向上のために界面
活性剤等を含有させてもよい。
活性剤、熱1合禁止剤、更には分散性向上のために界面
活性剤等を含有させてもよい。
光活性剤はHO2層の光架橋−始剤として1利に作用す
る。光活性剤は従来公知のものであってよく、具体的に
はベンゾ7、ノン。
る。光活性剤は従来公知のものであってよく、具体的に
はベンゾ7、ノン。
ノン、べ/ツインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインインプロピルエーテル、2−1<ル
χ −ブチルアントラキノン、フェナントレンキノン、
2−りt2ルチオキサントン、ヘキサ7、ニルビスイミ
ダジル等が例として挙げられる。
ーテル、ベンゾインインプロピルエーテル、2−1<ル
χ −ブチルアントラキノン、フェナントレンキノン、
2−りt2ルチオキサントン、ヘキサ7、ニルビスイミ
ダジル等が例として挙げられる。
また熱1合禁止剤としては、通常単量体の針鼠安定性を
増加させる目的で添加されゐ公知の、ヒドロキノン、ヒ
ドロキノンモノメチルエーテル、キュフ、ロン勢が利用
し得る。
増加させる目的で添加されゐ公知の、ヒドロキノン、ヒ
ドロキノンモノメチルエーテル、キュフ、ロン勢が利用
し得る。
更に、III(染)料の1中における分散性を向上させ
るため市販の分散用界匍活性剤を添加することができる
。この目的には、例えばポリオキシエチレンオレイルエ
ーテル(m−Ttj級1lIAノイゲン!チー80.1
00.120:東邦化学製ペグノール0−2・0)、ン
ルビタンモノオレエート(東邦化学シソルボン8−80
)、ンルビタンセスキオレエート(東邦化学級ンルボン
8−83)、ポリオキシエチレンノニル7、ノールエー
テル(IN−工業l=薬製2ム−140)、非イオン型
界拘活性剤(例えは花王アトラス製ホモゲノールL−9
5)勢が使用される◎ 11oD層をiIIIM、する必須成分ならびKlll
l次的諸成分の相互の量的陶体は、自己架橋性を有しな
いアルカリ可溶性の遊離カルボキシル基含有濁分子化合
物t o o 1−1部に対して、エチレン性不飽和結
合に基づく架橋剤約20〜300]1jlll好ましく
は約50〜15011部含有し、#1(染)料約10〜
500″M量部、好ましくFi躬50〜300ifi部
を含治させる。また、光活性剤、熱1合餘止剤シよひ分
散片の界面活性鄭jは、それぞれ、1〜501i1部、
好ましくは3〜20m ’nB1 、0. OO]〜0
31蓋部、および0.0005〜51i1部のTh囲で
ん加される0 外層であるLOD階(低光学−を感光層)(1)〔−(
染)料〕 (d) 1.0Djllt中にはし層が低元♀一度を保持する&
囲において餉(染)粕か少1添加される。
るため市販の分散用界匍活性剤を添加することができる
。この目的には、例えばポリオキシエチレンオレイルエ
ーテル(m−Ttj級1lIAノイゲン!チー80.1
00.120:東邦化学製ペグノール0−2・0)、ン
ルビタンモノオレエート(東邦化学シソルボン8−80
)、ンルビタンセスキオレエート(東邦化学級ンルボン
8−83)、ポリオキシエチレンノニル7、ノールエー
テル(IN−工業l=薬製2ム−140)、非イオン型
界拘活性剤(例えは花王アトラス製ホモゲノールL−9
5)勢が使用される◎ 11oD層をiIIIM、する必須成分ならびKlll
l次的諸成分の相互の量的陶体は、自己架橋性を有しな
いアルカリ可溶性の遊離カルボキシル基含有濁分子化合
物t o o 1−1部に対して、エチレン性不飽和結
合に基づく架橋剤約20〜300]1jlll好ましく
は約50〜15011部含有し、#1(染)料約10〜
500″M量部、好ましくFi躬50〜300ifi部
を含治させる。また、光活性剤、熱1合餘止剤シよひ分
散片の界面活性鄭jは、それぞれ、1〜501i1部、
好ましくは3〜20m ’nB1 、0. OO]〜0
31蓋部、および0.0005〜51i1部のTh囲で
ん加される0 外層であるLOD階(低光学−を感光層)(1)〔−(
染)料〕 (d) 1.0Djllt中にはし層が低元♀一度を保持する&
囲において餉(染)粕か少1添加される。
この目的に使用し祷る−(架)科は本質的にはHOD層
中に路Σ加されるものとN様である;7;、IOD階中
に如加される魁のとゼずしも同一である会費はなく異っ
ていてもよい0LODr@の光字識服(青色フィルター
使用)は、02〜2.5.−〜南オリには0.5〜1.
5である。
中に路Σ加されるものとN様である;7;、IOD階中
に如加される魁のとゼずしも同一である会費はなく異っ
ていてもよい0LODr@の光字識服(青色フィルター
使用)は、02〜2.5.−〜南オリには0.5〜1.
5である。
(21〔エチレン性不飽和結合に基づく自己架−性を肩
するアルカリ′rfJ浴性の遊離カルボキシル基含鳴薩
分子化合物〕 (4) LODm中に含1せるh icの高分子仕置1は従来公
知のものであってよい。好ましいものは1式(U)で示
される単信構造を有する共1合体 たたし、式中R1社N−又は黄なって水素原ドロキシア
ルキル基を表わす、)#′i約9約95註50 の遊離ヒドロキシル基に不飽和ジカルボン除無水物を付
加させて得られる諏価約10〜150の高分子化合物で
ある。
するアルカリ′rfJ浴性の遊離カルボキシル基含鳴薩
分子化合物〕 (4) LODm中に含1せるh icの高分子仕置1は従来公
知のものであってよい。好ましいものは1式(U)で示
される単信構造を有する共1合体 たたし、式中R1社N−又は黄なって水素原ドロキシア
ルキル基を表わす、)#′i約9約95註50 の遊離ヒドロキシル基に不飽和ジカルボン除無水物を付
加させて得られる諏価約10〜150の高分子化合物で
ある。
式(n)の共重合高分子化合物は、具体的には例えはメ
タクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリルw
k九−グロビル,メタ/’)k除−ルA〃−プロピル、
メタクリル酬−n−ブチル、メタクリル酸−Ljt−ブ
チル。
タクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリルw
k九−グロビル,メタ/’)k除−ルA〃−プロピル、
メタクリル酬−n−ブチル、メタクリル酸−Ljt−ブ
チル。
メタクリル酸−i4ルχ−ブチル、メタクリル除ペンチ
ル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル駿シクロヘキシ
ル、メタクリル−ベンジル、メタクリル酬フ、ニル、メ
タクリル酸−σ−トリル、あるい扛前記のメタクリル酸
エステルにそれぞれ対応するアクリル験エステルと、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシフロビルメタクリレートt’
tたは2−ヒドロキシエチルアクリレートのようなヒド
ロキシアルキルメタクリレートまた社アクリレートとの
共重合体である。l!ll1lヒドロキシル基をも九カ
いメタクリル酸エステルまたi17クリル酸エステルに
轡→と、ヒドロキシアル井ルメタクリルまたhヒドロキ
シアルキルアクリル参ネ→の共1合体中における存在比
は約95〜50モルー二約5〜5oセル−の動hKある
。また、式(1)の共1合高分子化合物に付加させる不
飽和ジカルボン酸無水物は具体的には、マレイン販、シ
ト2コン飯。
ル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル駿シクロヘキシ
ル、メタクリル−ベンジル、メタクリル酬フ、ニル、メ
タクリル酸−σ−トリル、あるい扛前記のメタクリル酸
エステルにそれぞれ対応するアクリル験エステルと、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシフロビルメタクリレートt’
tたは2−ヒドロキシエチルアクリレートのようなヒド
ロキシアルキルメタクリレートまた社アクリレートとの
共重合体である。l!ll1lヒドロキシル基をも九カ
いメタクリル酸エステルまたi17クリル酸エステルに
轡→と、ヒドロキシアル井ルメタクリルまたhヒドロキ
シアルキルアクリル参ネ→の共1合体中における存在比
は約95〜50モルー二約5〜5oセル−の動hKある
。また、式(1)の共1合高分子化合物に付加させる不
飽和ジカルボン酸無水物は具体的には、マレイン販、シ
ト2コン飯。
イタコンシ、テトラコン鈑、エチルマレイン娠、α−メ
チルイタコン酸、α、β−ジメチルマレインeea+
α−ジメチルイタコン除。
チルイタコン酸、α、β−ジメチルマレインeea+
α−ジメチルイタコン除。
k’ = k Oハク除、シクロヘキサー4−工ン−1
,2−ジカルボン#、シクロヘキ?−3゜5−ジエン−
1,2−ジカルボンrlbの酸無水物である。
,2−ジカルボン#、シクロヘキ?−3゜5−ジエン−
1,2−ジカルボンrlbの酸無水物である。
共重合高分子化合物(II)より訪導されるエチレン性
不飽和結合および遊離カルボキシル基をもつ高分子化合
1WIJ(4)はアルカリ可添性で々りれは彦らず、W
k餘は20〜isnの範囲にある。
不飽和結合および遊離カルボキシル基をもつ高分子化合
1WIJ(4)はアルカリ可添性で々りれは彦らず、W
k餘は20〜isnの範囲にある。
(3)〔光活性動勢〕
LODJiiに扛前記(d)、(4)の必須成分のaか
に光活性動勢を含ませてもよい。光治性剤としてはEO
Dp#Iにおいて使用されるものと同様な化合物か8用
される。EOI)層LODf@の光活性剤1必ずしも同
一である会費はなく、層ごとに輿なる亀のを選定し得る
〇LOD島には、HOD庵と同じく架極剤をlよ加し光
架橋を一翫有効に進行させることができる。この目的に
gk用される架鶴剤は、■OD層の必須成分の一つとし
て例示された化合物から違択される。更にLOD層に杜
、層膜の均一性を向上するために既に例示したよりな象
(染)料の分散に鳴動な界面活性剤と同一あるいは類似
の化合物、および貯蔵安定性を向上する目的で既に例示
したようなMil1合県止剤を添加することができる。
に光活性動勢を含ませてもよい。光治性剤としてはEO
Dp#Iにおいて使用されるものと同様な化合物か8用
される。EOI)層LODf@の光活性剤1必ずしも同
一である会費はなく、層ごとに輿なる亀のを選定し得る
〇LOD島には、HOD庵と同じく架極剤をlよ加し光
架橋を一翫有効に進行させることができる。この目的に
gk用される架鶴剤は、■OD層の必須成分の一つとし
て例示された化合物から違択される。更にLOD層に杜
、層膜の均一性を向上するために既に例示したよりな象
(染)料の分散に鳴動な界面活性剤と同一あるいは類似
の化合物、および貯蔵安定性を向上する目的で既に例示
したようなMil1合県止剤を添加することができる。
LOD層を構成する必須成分ならひK Th+次的次的
分成分互の1酪11係は、エチレン性不飽和結合に基づ
く自己架極性を肩するアルカリ可溶性の遊動カルボキシ
ル基含有高分子化4N物1oo、Iki1引に対して、
−(染)料1.25〜150.光活性剤0.1〜50
、架−剤o〜100、獣1合禁止剤0.01−1 、界
面活性剤0.001〜0.1の各1量部の岬、即におい
て選定されるのが通算である。化合物の糧−勢によって
上記の範り外を避電すること本、割述したLOD階の性
格を徊じない限り可能である。
分成分互の1酪11係は、エチレン性不飽和結合に基づ
く自己架極性を肩するアルカリ可溶性の遊動カルボキシ
ル基含有高分子化4N物1oo、Iki1引に対して、
−(染)料1.25〜150.光活性剤0.1〜50
、架−剤o〜100、獣1合禁止剤0.01−1 、界
面活性剤0.001〜0.1の各1量部の岬、即におい
て選定されるのが通算である。化合物の糧−勢によって
上記の範り外を避電すること本、割述したLOD階の性
格を徊じない限り可能である。
東に支ト[体上にm成された外層の感光階であるLOD
層の表面に水あるいはアルカリ明治な、ポリビニールア
ルコールの如き非感光性の款累防止鳩t−設けてもよい
。
層の表面に水あるいはアルカリ明治な、ポリビニールア
ルコールの如き非感光性の款累防止鳩t−設けてもよい
。
次に、不発明の材料の製公方法について述べる0
HOD珈、LOD層の構成成分をそれぞれ有機溶媒に俗
輩、分散させて支持体上に各層ごと流延、壱&[l&を
蒸発させて屑形成させることができるほか、両層を同時
に流延、乾燥することもでき、これらの技法は当#技術
分野では公知である。前記の目的に使用される有機溶1
sはメチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセ
pソルブ、メチルセロソルブアセテート。
輩、分散させて支持体上に各層ごと流延、壱&[l&を
蒸発させて屑形成させることができるほか、両層を同時
に流延、乾燥することもでき、これらの技法は当#技術
分野では公知である。前記の目的に使用される有機溶1
sはメチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセ
pソルブ、メチルセロソルブアセテート。
イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン等の低沸
点電媒の単独あるいは混合物である。
点電媒の単独あるいは混合物である。
EODJIζLO11層各島を構成する成分をそれぞれ
含有する1機溶媒分散浴液は、通常、HODMIの場合
粘度50〜500c7+−1(25℃)に調整され、支
持体上に、を餉族厚1〜20声。
含有する1機溶媒分散浴液は、通常、HODMIの場合
粘度50〜500c7+−1(25℃)に調整され、支
持体上に、を餉族厚1〜20声。
好ましくtj2〜10μに造膜され、LOD層の場合粘
度10〜10〇−戸J(25℃)に調整され、支持体上
乾燥膜厚0.1〜20μ、好ましくは0.5〜5μに股
定される。また、非感光性のrIk票防止層を設ける場
合層厚は0.5〜5μ程度であることかの七ましい〇 上記のようK11ll製された本発明の材料は、活性光
に対し透明度の高いフィルムを使用した原図と密着して
約300〜470 %?PL の波長の光を含む活性光
に露光すれF!豚図の非画像部分に対応する電光部分に
おいて光架橋するので、アルカリ現体によりて原4のネ
カg#を与える。また所mKようでは現像済みの材料な
両画から再び活性光を照射しm1体の光架橋を一層完全
なものとし、支持体とi!lI像間の密−性をさらに強
−なものとすることができる。この操作線&露光として
知られている。
度10〜10〇−戸J(25℃)に調整され、支持体上
乾燥膜厚0.1〜20μ、好ましくは0.5〜5μに股
定される。また、非感光性のrIk票防止層を設ける場
合層厚は0.5〜5μ程度であることかの七ましい〇 上記のようK11ll製された本発明の材料は、活性光
に対し透明度の高いフィルムを使用した原図と密着して
約300〜470 %?PL の波長の光を含む活性光
に露光すれF!豚図の非画像部分に対応する電光部分に
おいて光架橋するので、アルカリ現体によりて原4のネ
カg#を与える。また所mKようでは現像済みの材料な
両画から再び活性光を照射しm1体の光架橋を一層完全
なものとし、支持体とi!lI像間の密−性をさらに強
−なものとすることができる。この操作線&露光として
知られている。
アルカリ埃gIktkとしては、無払−街掻アルカリ性
化合物の水溶液か使用される。アルカリ性化合物を具体
的に例示すれに、炭酸す) リウムまたはケイ酸ナトリ
ウム(1〜8チ)、オルトケイ酸ナトリウム(01〜5
チ)、リン酸−ナトリウム(0,1〜3%)、リン酸三
ナトリウム(0,1〜5%)、モノエタノールアミン(
0,1〜3qk)、あるい社ジェタノールアミン(1〜
ト1等である。たたし前記のカッコ内−は各アルカリ性
化合物の1量濃J11:チを表わす〇以下、本発明を!
il!−施例によって具体的に訳明する□表お、実施例
中のll11に′i、重量刊、に対応する。
化合物の水溶液か使用される。アルカリ性化合物を具体
的に例示すれに、炭酸す) リウムまたはケイ酸ナトリ
ウム(1〜8チ)、オルトケイ酸ナトリウム(01〜5
チ)、リン酸−ナトリウム(0,1〜3%)、リン酸三
ナトリウム(0,1〜5%)、モノエタノールアミン(
0,1〜3qk)、あるい社ジェタノールアミン(1〜
ト1等である。たたし前記のカッコ内−は各アルカリ性
化合物の1量濃J11:チを表わす〇以下、本発明を!
il!−施例によって具体的に訳明する□表お、実施例
中のll11に′i、重量刊、に対応する。
実扼例1
(11下記組成のHOD〜、LOD層の各層を形成する
感光液を11111I製した口 HOI)Jlii感光液 〔自己架橋性を有しないアルカリ可溶性の遊離カルボキ
シル基14化合物〕(4)として ポリ(スチレン−co−マレイン酸モノイソブチル)〔
スチレン:マレモノ酬毫ノイソプチルー75:25 (
モルkL)) 100飢〔−(染)料〕 (a)とし
て 鉄 4 248部以上をメチルセ
ロソルブ(エチレンクリコールモノメチルエーテル)1
50部に加え、ボールミルで24時間混合しペースト状
の一料分散物を得た。 次に 〔エチレン性不飽和結合に基づく架橋剤〕(C)として テトラエチレングリコールジアクリレート60部 〔光活性剤〕として ベンゾ7、ノン 4部声9戸′−ビ
ス(N、N−ジメチルアミノ)ペンゾフユノン
O,S @。
感光液を11111I製した口 HOI)Jlii感光液 〔自己架橋性を有しないアルカリ可溶性の遊離カルボキ
シル基14化合物〕(4)として ポリ(スチレン−co−マレイン酸モノイソブチル)〔
スチレン:マレモノ酬毫ノイソプチルー75:25 (
モルkL)) 100飢〔−(染)料〕 (a)とし
て 鉄 4 248部以上をメチルセ
ロソルブ(エチレンクリコールモノメチルエーテル)1
50部に加え、ボールミルで24時間混合しペースト状
の一料分散物を得た。 次に 〔エチレン性不飽和結合に基づく架橋剤〕(C)として テトラエチレングリコールジアクリレート60部 〔光活性剤〕として ベンゾ7、ノン 4部声9戸′−ビ
ス(N、N−ジメチルアミノ)ペンゾフユノン
O,S @。
〔熱重合県止剤〕として
一層メトキシフェノール 0.11!l〔界面
活性剤〕として ポリオキシエチレンオレイルエーテル 1、5部 をメチルセロソルブ440sに1il解し前記ペースト
状の分散液と混合し、混合物をディシルバーにより強攪
拌し)IOD層感光液を得た。
活性剤〕として ポリオキシエチレンオレイルエーテル 1、5部 をメチルセロソルブ440sに1il解し前記ペースト
状の分散液と混合し、混合物をディシルバーにより強攪
拌し)IOD層感光液を得た。
このものの粘度は175cPj(25℃)であった0
LODliI#光液
〔エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を有するア
ルカリ11I]溶性の遊離カルボキシル基含有高分子化
合物〕(4)として ポリ (メチルメタクリレート−〇〇 −ヒドロキシ
エチルメタクリレート−CO−イタ;ノイルオキシエチ
ルメタクリレート 100部 〔合成法り後記参考例1に記述〕 〔光活性剤〕として ペンゾインイソグロビルエーテル 8刊i九〆−ビス
(a、i−ジメチルアミノ)ベンゾ71ノン
4部〔熱1含銀止剤〕として 一層メトキシ7.ノール 0.04部〔−(染)
料)Cd)として スミプラストブルー3R50111i 〔界面活性剤〕として ノイゲンEA−1400,011i! 以上をメチルセロソルブ400s、)ルエン400sに
浴解し、LODNi感光液を得た0この屯のの粘度鉱1
5c、*a(25℃)であった。
ルカリ11I]溶性の遊離カルボキシル基含有高分子化
合物〕(4)として ポリ (メチルメタクリレート−〇〇 −ヒドロキシ
エチルメタクリレート−CO−イタ;ノイルオキシエチ
ルメタクリレート 100部 〔合成法り後記参考例1に記述〕 〔光活性剤〕として ペンゾインイソグロビルエーテル 8刊i九〆−ビス
(a、i−ジメチルアミノ)ベンゾ71ノン
4部〔熱1含銀止剤〕として 一層メトキシ7.ノール 0.04部〔−(染)
料)Cd)として スミプラストブルー3R50111i 〔界面活性剤〕として ノイゲンEA−1400,011i! 以上をメチルセロソルブ400s、)ルエン400sに
浴解し、LODNi感光液を得た0この屯のの粘度鉱1
5c、*a(25℃)であった。
(2) 前記のように1製したHOII層感党液を厚
さ50μのポリエステルフィルム上に3本リバースロー
ルコータ−によ如m布、120℃で連&1!i銖し、1
1Lt#康り約4μのHOD層を形成させた。このHO
D珈の光学#に度(米1−kadaA社飯μルa)Lχ
(九番18ム、宵色フィルター使用)は5.0であった
。なお、緑色フィルター(P、l#4aii4n 41
:93 ) it用の場合h4,5であった。
さ50μのポリエステルフィルム上に3本リバースロー
ルコータ−によ如m布、120℃で連&1!i銖し、1
1Lt#康り約4μのHOD層を形成させた。このHO
D珈の光学#に度(米1−kadaA社飯μルa)Lχ
(九番18ム、宵色フィルター使用)は5.0であった
。なお、緑色フィルター(P、l#4aii4n 41
:93 ) it用の場合h4,5であった。
次に、前記LOD〜感光液をワイヤーバーコーター(ワ
イヤー@0.111)ニョリlll+布、120℃で遅
ftc1に、燥し、*静&MI約1μのLOD層を造膜
した。仁のLOD〜の光字濃度(青色フィルター使用)
itl、oSri」(k色フィルター使用)#i1.
8であった〇 前記フィルJ−感光層の外^であるLOD層表面にポリ
ビニルアルコール” 部、yk 77 部、エチルアル
コール2o@゛がら力る浴治をワイヤーバーコーター(
ワイヤー径0.1勧)で勤布、120℃で連kk11L
燥し、腰厚約0.5μの11&防止〜とじてのホリビニ
ルアルコール島を設けた。
イヤー@0.111)ニョリlll+布、120℃で遅
ftc1に、燥し、*静&MI約1μのLOD層を造膜
した。仁のLOD〜の光字濃度(青色フィルター使用)
itl、oSri」(k色フィルター使用)#i1.
8であった〇 前記フィルJ−感光層の外^であるLOD層表面にポリ
ビニルアルコール” 部、yk 77 部、エチルアル
コール2o@゛がら力る浴治をワイヤーバーコーター(
ワイヤー径0.1勧)で勤布、120℃で連kk11L
燥し、腰厚約0.5μの11&防止〜とじてのホリビニ
ルアルコール島を設けた。
(3) かくして得られた画像形成材料のポリビニル
アルコール層側におφてテストパターン並びに133#
/づンチの網廣、1体を真空密着し、高圧水銀灯(31
W)を船離1m−(強駄3、5 m W / cm″
)で10恥l514照躬した。
アルコール層側におφてテストパターン並びに133#
/づンチの網廣、1体を真空密着し、高圧水銀灯(31
W)を船離1m−(強駄3、5 m W / cm″
)で10恥l514照躬した。
次に、訳酸ナトリウム251j1%、界面活性剤(トー
工業製薬製ノイゲンEA−140)0.005m1Lチ
水溶液を28℃においてスプレー圧3にy / cm”
の下、20秒関スプレーした後、水洗、乾燥した。
工業製薬製ノイゲンEA−140)0.005m1Lチ
水溶液を28℃においてスプレー圧3にy / cm”
の下、20秒関スプレーした後、水洗、乾燥した。
得られたTheを100倍に拡大して(日本光学製プロ
ファイル・10ジエクタ−■16A使用)振動したとこ
ろ、エツジの切れは非割によく、面径15μの円智ノド
ット、麹−15μのライン像を鮮鋭に解体した。
ファイル・10ジエクタ−■16A使用)振動したとこ
ろ、エツジの切れは非割によく、面径15μの円智ノド
ット、麹−15μのライン像を鮮鋭に解体した。
また、若干のボケのある網点沖和を上記と−j様な方法
で焼き付り、現像処理を行い、一体を鞘f t、たとこ
ろ、網点画像の画鵞か1看に数隻されていることが蛯め
られた。
で焼き付り、現像処理を行い、一体を鞘f t、たとこ
ろ、網点画像の画鵞か1看に数隻されていることが蛯め
られた。
実施例2〜10
EODN感光液
〔自己架4に性f:鳴しないアルカリ可沁性の遊離カル
ボキシル基金*高分子化合物〕(4)として ポリ (スチレン−〇〇−!レイン酸モノイソプロヒル
)〔スチレン:マレイン酸モノインプロピル=so:s
o(モル比)〕 996 部1IN(染)料〕(a)として カーボンブラック 78部以上管メ
チルセロンルブ150%に加え、ボールミルで24時間
混合し、ペースト状の顔料分散物を得た0次に 〔エチレン性不飽和結合に基づく架橋剤〕(O)として テトラエチレングリフールジアクリレート30部 トリメチロールプロパントリアクリレート20% 〔光活性剤〕として 2−χ441− ブチルアントラキノン 6部戸9戸
′−ヒス([、N−ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
襠部p、p’−ジベンゾイルベ
ンゼン 4部〔熱重合類止剤〕として キュフエロン 0.1部〔界面活
性剤〕として ホモゲノールL−9549 (花王アトラス知ノニオン糸界面活性剤)以上をメチル
セロソルブ400部に溶解し、前記ペースト状の餉料分
敷物と混合し、ティシルバーにより強攪拌し、HOD層
感光1Ikt−得た。このものの粘度は210 cpj
(25℃)でありた〇 この110部m感光液を厚さ100μのポリエステルフ
ィルムに、3本リバースロールコータ−を、使用して塗
布、120℃で連続乾燥し、乾煉族厚4μのHO11層
を設けた。
ボキシル基金*高分子化合物〕(4)として ポリ (スチレン−〇〇−!レイン酸モノイソプロヒル
)〔スチレン:マレイン酸モノインプロピル=so:s
o(モル比)〕 996 部1IN(染)料〕(a)として カーボンブラック 78部以上管メ
チルセロンルブ150%に加え、ボールミルで24時間
混合し、ペースト状の顔料分散物を得た0次に 〔エチレン性不飽和結合に基づく架橋剤〕(O)として テトラエチレングリフールジアクリレート30部 トリメチロールプロパントリアクリレート20% 〔光活性剤〕として 2−χ441− ブチルアントラキノン 6部戸9戸
′−ヒス([、N−ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
襠部p、p’−ジベンゾイルベ
ンゼン 4部〔熱重合類止剤〕として キュフエロン 0.1部〔界面活
性剤〕として ホモゲノールL−9549 (花王アトラス知ノニオン糸界面活性剤)以上をメチル
セロソルブ400部に溶解し、前記ペースト状の餉料分
敷物と混合し、ティシルバーにより強攪拌し、HOD層
感光1Ikt−得た。このものの粘度は210 cpj
(25℃)でありた〇 この110部m感光液を厚さ100μのポリエステルフ
ィルムに、3本リバースロールコータ−を、使用して塗
布、120℃で連続乾燥し、乾煉族厚4μのHO11層
を設けた。
HOD層懺面にワイヤーバーコーター(ワイヤー410
.11Ell)を用い、以下に示す各種のLOD層感光
WLを塗布、乾燥し、それぞれLOD層を造成した0 LOD烏感光液 〔エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を有するア
ルカリ可溶性の遊離カルボ今シル基含壱高分子化合物〕
(4)とじて ポリ (エチルメタクリレート−CO−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート−〇〇−イタコノイルオキシエチルメ
タクリレート 100部 〔合成法は後記参考例2に記述〕 〔光活性剤〕として ペンシイ/イソプロビルエーテル B1l1l声、
!−ビス(N、N−ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
4 *Ir〔熱重合類止剤〕とし
て キエフ、ロン 0.01班・〔界少
活性剤〕として ポリオキシエチレンノニル フェノールエーテル 0,01部上記船敗
を共通とし、仮11表に示す瞭(染)料金メチルセロソ
ルブ800 g、に溶Vし、LOD層S光t&を調製し
た。更に、1.OD層表伽に、実施例1と同様な組成並
びに粗布方法で、ポリビニルアルコール層をiff九〇 得られ九都九性材料を実施例1と同様な方法で飢自付け
・桝S島塩を行い、−會を評価し鶴2表の&l釆1*た
。
.11Ell)を用い、以下に示す各種のLOD層感光
WLを塗布、乾燥し、それぞれLOD層を造成した0 LOD烏感光液 〔エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を有するア
ルカリ可溶性の遊離カルボ今シル基含壱高分子化合物〕
(4)とじて ポリ (エチルメタクリレート−CO−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート−〇〇−イタコノイルオキシエチルメ
タクリレート 100部 〔合成法は後記参考例2に記述〕 〔光活性剤〕として ペンシイ/イソプロビルエーテル B1l1l声、
!−ビス(N、N−ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
4 *Ir〔熱重合類止剤〕とし
て キエフ、ロン 0.01班・〔界少
活性剤〕として ポリオキシエチレンノニル フェノールエーテル 0,01部上記船敗
を共通とし、仮11表に示す瞭(染)料金メチルセロソ
ルブ800 g、に溶Vし、LOD層S光t&を調製し
た。更に、1.OD層表伽に、実施例1と同様な組成並
びに粗布方法で、ポリビニルアルコール層をiff九〇 得られ九都九性材料を実施例1と同様な方法で飢自付け
・桝S島塩を行い、−會を評価し鶴2表の&l釆1*た
。
謝 1 物
注(1)光学11i 11114定に社青色フィル!−
(米−λσjaA社にルルχχ番九参18ム)使用。
(米−λσjaA社にルルχχ番九参18ム)使用。
(2)染料はいずれもC,1,1号なし0第 2p
注(11製伜性
ム:ドット修15μをpl#体、B:IS〜20μを触
体。
体。
(2) エツジの切れ
$t100倍に拡大検量、ム:〜に優れる、B:優れる
。
。
(31414点修正性
原図1のボケの修正性、25倍拡大視覚検査、ム:馳著
に改善、B:はぼ満足すべき1−+度に改善。
に改善、B:はぼ満足すべき1−+度に改善。
以下に、本発明で用いられる筒分子化合物の一&成例を
示す。
示す。
参考例1
攪拌装伽、温度計+lL流冷却智、*素導入管を偏えた
4つ口のフラスコに、乾燥ア七トン1500mを入れ、
gj&木雰囲気下で下記組成メタクリル酸メチル(MM
A) 350g2−ヒドロキシエチルメタクリ レ − ト (2−!(FiM ム )
195,92.6−シーi4ルχ−ブ
チル クレゾール 1.、 10 、ON2
.2′−アゾビス(2,4−ジ メチルバレロニトリル) 13Iの混合液1
に滴下し、達眞下7時間反応させた。
4つ口のフラスコに、乾燥ア七トン1500mを入れ、
gj&木雰囲気下で下記組成メタクリル酸メチル(MM
A) 350g2−ヒドロキシエチルメタクリ レ − ト (2−!(FiM ム )
195,92.6−シーi4ルχ−ブ
チル クレゾール 1.、 10 、ON2
.2′−アゾビス(2,4−ジ メチルバレロニトリル) 13Iの混合液1
に滴下し、達眞下7時間反応させた。
反応終了後、2.6−ジ−144χ−ブチルクレゾール
2.5gを加え、型温まで放外し、イソプロヒルアルコ
ール181中に激しく攪拌しなからfIk)シ、析出し
た共1合体をr別し、40℃で泳圧1に課し、ポリ (
メチルメタクリレート−co−2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート)〔化合物(イ)148ON (収率88
チ)を得たO 次いで、下記組成物 @ &、化合物(イ) 40g無水
イタコン除 18.2 J2.6−シ
ース44差−ブチル クレゾール 1.39址化亜鉛
2Iを*、 *メチルエ
チルケトン300−に裕解し、11洲、下8峙間反応さ
せた。放〜振ル応液をlO4の水中に強攪拌下注加し、
析出した反応4!をF %lJ後再び10tの水に加え
て攪拌&NF’別し′た。風乾後25℃で減圧に銖して
エチレン性不飽和結合及び遊離カルボキシル基をもつ高
分子化合物すなわちポリ(メチルメタクリレート−CO
−−ヒドロキシエチルメタクリレート−00−イタコノ
イルオキシエチルメタクリレート)45、5 、li’
t−得た。このものの酸価は63.9であった0 番54飢2 1記組成物 エチルメタクリレート (ICMム) 145#2
− HIli M A 29−
a jl声−メトキシフェノール 18吋
アゾビスインブチロニトリル 49を用い、&
省例1と同様にして、ポリ(エチルメタクリレート−c
o−2−ヒドロキシエチルメタクリレート)〔化合物(
ロ))139jl(収率80チ)を鞠た。
2.5gを加え、型温まで放外し、イソプロヒルアルコ
ール181中に激しく攪拌しなからfIk)シ、析出し
た共1合体をr別し、40℃で泳圧1に課し、ポリ (
メチルメタクリレート−co−2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート)〔化合物(イ)148ON (収率88
チ)を得たO 次いで、下記組成物 @ &、化合物(イ) 40g無水
イタコン除 18.2 J2.6−シ
ース44差−ブチル クレゾール 1.39址化亜鉛
2Iを*、 *メチルエ
チルケトン300−に裕解し、11洲、下8峙間反応さ
せた。放〜振ル応液をlO4の水中に強攪拌下注加し、
析出した反応4!をF %lJ後再び10tの水に加え
て攪拌&NF’別し′た。風乾後25℃で減圧に銖して
エチレン性不飽和結合及び遊離カルボキシル基をもつ高
分子化合物すなわちポリ(メチルメタクリレート−CO
−−ヒドロキシエチルメタクリレート−00−イタコノ
イルオキシエチルメタクリレート)45、5 、li’
t−得た。このものの酸価は63.9であった0 番54飢2 1記組成物 エチルメタクリレート (ICMム) 145#2
− HIli M A 29−
a jl声−メトキシフェノール 18吋
アゾビスインブチロニトリル 49を用い、&
省例1と同様にして、ポリ(エチルメタクリレート−c
o−2−ヒドロキシエチルメタクリレート)〔化合物(
ロ))139jl(収率80チ)を鞠た。
次いで下記組成物
前記化合eh(ロ) 58.2 j
l無水イタコン−9,1g 2.6−シーi44λ−ブチル クレゾール 1.39堝化亜鉛
29を用い参考例1と同
様にしそエチレン性不飽和結合及び遊離カルボキシルi
I!−をもつ高分子化合物すなわちポリ(エチルメタク
リレート−CO−ヒドロキシエチルメタクリレート−C
O−イタコノイルオキシエチルメタクリレート)59.
2Ii(収率81g6)を得た。
l無水イタコン−9,1g 2.6−シーi44λ−ブチル クレゾール 1.39堝化亜鉛
29を用い参考例1と同
様にしそエチレン性不飽和結合及び遊離カルボキシルi
I!−をもつ高分子化合物すなわちポリ(エチルメタク
リレート−CO−ヒドロキシエチルメタクリレート−C
O−イタコノイルオキシエチルメタクリレート)59.
2Ii(収率81g6)を得た。
このものの酸価は25.4であった。
%許出如人ソマール工業株式会社
代理人 弁理士 土 胎 三 部
手続補正書
IIII÷n 561+11’m 5 ul、
=lYイ′1の表示 特願昭56−147807号 2、発明の名称 ネガ製画像形成材料 3、金11自Eをする名 j・f’l !:のlj′旧 特許出願人民 ト・(記
′1・) 代表者 曽 谷 憲 三4、代 理 人
〒105 (電話501−3677)&補正命令の日
付 (自発) と補正″j6 6) 明細書第9頁第17行「高光濃度」とあするを「
高光学a夏」と補正する。
=lYイ′1の表示 特願昭56−147807号 2、発明の名称 ネガ製画像形成材料 3、金11自Eをする名 j・f’l !:のlj′旧 特許出願人民 ト・(記
′1・) 代表者 曽 谷 憲 三4、代 理 人
〒105 (電話501−3677)&補正命令の日
付 (自発) と補正″j6 6) 明細書第9頁第17行「高光濃度」とあするを「
高光学a夏」と補正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +11 ?h明乃至半透明の支持体上に、中間層とし
く−) *(染)狛 (4) 自己架橋性を有しないアルカリ可溶性の遊離カ
ルボキシル基含有高分 子化合物 (G) エチレン性不飽和結合に基づく架篠剤 そして外層として下記Cd)、(4)の成分を含む低光
学濃am光鳩(LOD層) ・d) &(擬)l#+ (4) エチレン性不飽和結合に基づく自己架橋性を1
するアルカリ可溶性の 遊離カルボキシル基含有高分子化合 を設けてなるネガ詭11111mル凧拐相〇(2)
中間層のHODrIIの光学濃度(宵色フィルター会用
)が3以上、好ましくは4〜6、外層のLOD4の光学
111度(−」)が0.2〜2.5、好1しくは0.5
〜1.5である特許請求の範囲(1)の材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56147807A JPS5849941A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | ネガ型画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56147807A JPS5849941A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | ネガ型画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849941A true JPS5849941A (ja) | 1983-03-24 |
| JPH0128933B2 JPH0128933B2 (ja) | 1989-06-06 |
Family
ID=15438653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56147807A Granted JPS5849941A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | ネガ型画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5849941A (ja) |
-
1981
- 1981-09-21 JP JP56147807A patent/JPS5849941A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0128933B2 (ja) | 1989-06-06 |
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