JPS5849914A - 低粘度溶液の塗膜形成装置 - Google Patents
低粘度溶液の塗膜形成装置Info
- Publication number
- JPS5849914A JPS5849914A JP56138025A JP13802581A JPS5849914A JP S5849914 A JPS5849914 A JP S5849914A JP 56138025 A JP56138025 A JP 56138025A JP 13802581 A JP13802581 A JP 13802581A JP S5849914 A JPS5849914 A JP S5849914A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- coating liquid
- solution
- coating film
- glass plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/002—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the work consisting of separate articles
- B05C5/004—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the work consisting of separate articles the work consisting of separate rectangular flat articles, e.g. flat sheets
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、低粘度溶液を電子ディバイス基板に所定のパ
ターンの塗膜を形成するコーティング装置に関する。
ターンの塗膜を形成するコーティング装置に関する。
近年、半導体素子の絶縁被膜、ろるいは液晶表示素子の
絶縁被膜、−または配向制御膜に無機酸化物薄膜や有゛
機物薄膜が使用されている。特に液晶表示素子の場合に
は、ガラス基板上に絶縁被膜（８１０冨膜）、無反射コ
ート膜（Ｔｔｏ、膜等）。
絶縁被膜、−または配向制御膜に無機酸化物薄膜や有゛
機物薄膜が使用されている。特に液晶表示素子の場合に
は、ガラス基板上に絶縁被膜（８１０冨膜）、無反射コ
ート膜（Ｔｔｏ、膜等）。
透明導電体験（ＸＴＯめるいは８ｎＯ１）で、順次形成
したのち二酸化珪素、ポリイミイド、シラン壽の配向制
御膜の表向を布等でラビングした後この基板２枚で、液
晶を挾持して液晶表示素子管形成する。配向制御＃！け
、液晶表示素子の駆動電圧金一定に保つためと、駆動ｔ
ｘｔ−少（する比め。
したのち二酸化珪素、ポリイミイド、シラン壽の配向制
御膜の表向を布等でラビングした後この基板２枚で、液
晶を挾持して液晶表示素子管形成する。配向制御＃！け
、液晶表示素子の駆動電圧金一定に保つためと、駆動ｔ
ｘｔ−少（する比め。
できるだけ均一な膜を、必快とする。一般には、５００
Ｘ〜１ｏｏｏｏＸの薄膜が用いられる。膜厚の均一性は
±２０％以内でろるこ゛とが望ましい。
Ｘ〜１ｏｏｏｏＸの薄膜が用いられる。膜厚の均一性は
±２０％以内でろるこ゛とが望ましい。
このような薄膜を形成する方法として、従来、基板を（
ロ）転し薄膜となる有機おるいは無機化合物を含む溶１
ｌｌ（以下、化合物溶液）を回転する基板上罠滴下し遠
心力罠よる広がりにより塗膜を形成するス１ビーン・コ
ート法、化合物溶液中に、浸漬する浸漬塗り、化合物Ｉ
ｖ液を噴霧状態にして塗布する、スプＬ／−塗布、ロー
ル円周上に細かい溝を形成し溝中の化合物溶液を基板上
に、転写し塗膜を形成するロールフート法が広く用いら
れる。しかし、これらの方法の蝙°大の欠点として、基
板面の全域にかけて塗膜が形成されてしまう。
ロ）転し薄膜となる有機おるいは無機化合物を含む溶１
ｌｌ（以下、化合物溶液）を回転する基板上罠滴下し遠
心力罠よる広がりにより塗膜を形成するス１ビーン・コ
ート法、化合物溶液中に、浸漬する浸漬塗り、化合物Ｉ
ｖ液を噴霧状態にして塗布する、スプＬ／−塗布、ロー
ル円周上に細かい溝を形成し溝中の化合物溶液を基板上
に、転写し塗膜を形成するロールフート法が広く用いら
れる。しかし、これらの方法の蝙°大の欠点として、基
板面の全域にかけて塗膜が形成されてしまう。
したがって、前記塗膜を適当な加熱により薄膜管得るが
、それも全域にわたってしまう。このような場合、たと
えば液晶表示素子用基板の場合、透明導電膜の端子群等
を前記薄膜より霧出させるためには、前記端子群上に可
剥性保護膜を形成し、しかるのち前記各種塗布法を用い
て薄膜形成後可剥性保護膜を除去する。この場合可剥性
保時膜が基板面一ヒに凸凹となり、均一な膜厚にならず
、特に化合物溶液の表面張力により可剥性保護膜との境
界部の膜厚が増加した。また化合物溶液の粘度Ｖｉ（１
５〜１０ Ｄ Ｏｃｐｓと低く、直接的にバターニング
するためには、従来のスクナーン印刷、オフセット印刷
などは高粘度１０００口ｃｐｓ〜２００００Ｃｐ８溶液
のものは可能であるが、このように低粘度溶液では不可
能でめった。
、それも全域にわたってしまう。このような場合、たと
えば液晶表示素子用基板の場合、透明導電膜の端子群等
を前記薄膜より霧出させるためには、前記端子群上に可
剥性保護膜を形成し、しかるのち前記各種塗布法を用い
て薄膜形成後可剥性保護膜を除去する。この場合可剥性
保時膜が基板面一ヒに凸凹となり、均一な膜厚にならず
、特に化合物溶液の表面張力により可剥性保護膜との境
界部の膜厚が増加した。また化合物溶液の粘度Ｖｉ（１
５〜１０ Ｄ Ｏｃｐｓと低く、直接的にバターニング
するためには、従来のスクナーン印刷、オフセット印刷
などは高粘度１０００口ｃｐｓ〜２００００Ｃｐ８溶液
のものは可能であるが、このように低粘度溶液では不可
能でめった。
発明者は、直接的に所定のパターンを持った薄膜を形成
する方法として、先に「電子ディバイス基板への薄膜形
成方法Ｊとして山軸した。
する方法として、先に「電子ディバイス基板への薄膜形
成方法Ｊとして山軸した。
発明者は、この方法を具体化するために、一般に使用さ
れるインクジェット方式によるプリンターに注目し、電
子ディバイス基板へ低粘度溶液の塗膜を形成するために
、本発８Ａを実施した。
れるインクジェット方式によるプリンターに注目し、電
子ディバイス基板へ低粘度溶液の塗膜を形成するために
、本発８Ａを実施した。
以下、本発明の一実施例について１ｉ５２明すると第１
図、第２図において、６＃−Ｊ化合物溶液７會噴射する
ノズルである。これは２枚のガラス１．２に化合物溶液
７を装入させる。これはガラス２の内面に凹部５を形成
し、２枚のガラス１．２１に接着し四部５が細管となる
よう処する。凹部分が化合物溶液の管路となる。管路の
一部の凹部５の面積を広げ溶液溜４を設置する。この溶
液溜４に対応するガラス外面に圧電素子５″Ｉｋ固着す
る。この圧電素子５は１０ ＫＨ２〜２０ＫＨ２まで振
動が可能である。圧電素子５の縦蛋勧がガラス１に伝わ
り。
図、第２図において、６＃−Ｊ化合物溶液７會噴射する
ノズルである。これは２枚のガラス１．２に化合物溶液
７を装入させる。これはガラス２の内面に凹部５を形成
し、２枚のガラス１．２１に接着し四部５が細管となる
よう処する。凹部分が化合物溶液の管路となる。管路の
一部の凹部５の面積を広げ溶液溜４を設置する。この溶
液溜４に対応するガラス外面に圧電素子５″Ｉｋ固着す
る。この圧電素子５は１０ ＫＨ２〜２０ＫＨ２まで振
動が可能である。圧電素子５の縦蛋勧がガラス１に伝わ
り。
溶液溜４の室内を圧縮、膨張を繰り返す。圧縮時に溶液
溜４内に装入された化合物溶液７けノズル噴射口１０よ
の噴射し、膨張時にタンク１１より吸入し溶１溜４内に
装入される。噴射量は、化合物溶液の粘度、比重などと
蛋動数に相関が多る。
溜４内に装入された化合物溶液７けノズル噴射口１０よ
の噴射し、膨張時にタンク１１より吸入し溶１溜４内に
装入される。噴射量は、化合物溶液の粘度、比重などと
蛋動数に相関が多る。
本＠明の＠ｆｔｔｉａ５〜１０００ｃｐｓ Ｉ−低粘度
溶液を噴射することが可能でるる。このノズルは、Ｘ軸
１２Ｙ軸１３により駆動可能な駆動体１４に固定ざぜる
。たとえばＸ軸１２、Ｙ軸１３にポールネジを用いパル
スモータ−１５に直結してそれを回転することにより駆
瞬体１４が所定の位置に移動する。この駆動体１４Ｆｉ
最高４００禦／ ｅｚｏｃで移動可能でるる、１６は塗
膜を形成すべき基板で例えばガラス基板である。このガ
ラス基板１６ＩＩ′ｉ基板搭歌台１７に真空吸着され所
定の位置に設置される。基板搭載台１７にはガラス基板
を４０〜５０℃に加熱する念めヒーターが埋設される。
溶液を噴射することが可能でるる。このノズルは、Ｘ軸
１２Ｙ軸１３により駆動可能な駆動体１４に固定ざぜる
。たとえばＸ軸１２、Ｙ軸１３にポールネジを用いパル
スモータ−１５に直結してそれを回転することにより駆
瞬体１４が所定の位置に移動する。この駆動体１４Ｆｉ
最高４００禦／ ｅｚｏｃで移動可能でるる、１６は塗
膜を形成すべき基板で例えばガラス基板である。このガ
ラス基板１６ＩＩ′ｉ基板搭歌台１７に真空吸着され所
定の位置に設置される。基板搭載台１７にはガラス基板
を４０〜５０℃に加熱する念めヒーターが埋設される。
これはノズルより出ｆＣ船液の広がり金よくするため−
でろだ。ノズル噴射口１０と基板１６との距離はα５〜
ｂ鰯にセツティングする。化合物溶液７けタンク１１中
に入れ何物空気との接触・機会をおさえる。これは化合
物溶液は空気中の水分を吸入し。
でろだ。ノズル噴射口１０と基板１６との距離はα５〜
ｂ鰯にセツティングする。化合物溶液７けタンク１１中
に入れ何物空気との接触・機会をおさえる。これは化合
物溶液は空気中の水分を吸入し。
加水分解をおこす場合があるためである。また粘度は（
１５〜１０００戸と低粘度の化合物溶液にするのが最も
よい、溶液は噴霧状の溶液が噴射口１０より直進する、
噴く状溶液球の一つ一つの径Ｆｉ１〜５μで振動飲が一
定とするとその径も一定する。
１５〜１０００戸と低粘度の化合物溶液にするのが最も
よい、溶液は噴霧状の溶液が噴射口１０より直進する、
噴く状溶液球の一つ一つの径Ｆｉ１〜５μで振動飲が一
定とするとその径も一定する。
噴射口１０より出た溶液は、基板１６に到達して広がり
を示す、噴射「１１０より出た１秒間に数十から数十五
個の溶液球は、順次基板１６に達して塗膜１８を形成す
る。
を示す、噴射「１１０より出た１秒間に数十から数十五
個の溶液球は、順次基板１６に達して塗膜１８を形成す
る。
第５図においてＸ軸１２、Ｙ軸１３のパルスモータ１５
の駆動部２１、ノズルの圧電素子制御部２０の制御は同
期側＠ｍ１９例えばコンピュータで行う、従って所望の
パターン１ｓｔ−得るＫはＸ軸１２、Ｙ軸１３を適当に
駆動させ、ノズル６の固定された駆動体１４を移動させ
、それをプログラムミングし、ノズルより溶１１Ｉ！を
それと同期させて噴射させる。このようＫして所望のパ
ターンの塗膜１８を得ることができる。
の駆動部２１、ノズルの圧電素子制御部２０の制御は同
期側＠ｍ１９例えばコンピュータで行う、従って所望の
パターン１ｓｔ−得るＫはＸ軸１２、Ｙ軸１３を適当に
駆動させ、ノズル６の固定された駆動体１４を移動させ
、それをプログラムミングし、ノズルより溶１１Ｉ！を
それと同期させて噴射させる。このようＫして所望のパ
ターンの塗膜１８を得ることができる。
本発明の装ｆＩｔＫよれば、粘度が［Ｌ５〜１００（！
ＰＥＩと著しく低い化合物溶液を用いても面内の寸法精
度良好一の範囲でα５〜２μｍの厚さの塗膜を±１６・ １０チの膜厚精度で形成することができる。これは所定
の元素と有機または無機の化合物管形成し、その化合物
が適当な溶媒に対して相客性を有する場合に適用が可能
であることがわかった。
ＰＥＩと著しく低い化合物溶液を用いても面内の寸法精
度良好一の範囲でα５〜２μｍの厚さの塗膜を±１６・ １０チの膜厚精度で形成することができる。これは所定
の元素と有機または無機の化合物管形成し、その化合物
が適当な溶媒に対して相客性を有する場合に適用が可能
であることがわかった。
本装置による塗膜形成の実施例として、特にＩＰＺ型液
晶表示素子の配向制御膜の材料としてエポキシ系シラン
材と有機チタンをメタノール、あるいけエチルヤロソル
ブなどの混合溶液（粘度［Ｌ５〜５ ｃｐｓ ）を使用
する。この混合溶液をノズルより間欠的に噴射すること
Ｋより、端子等以外の基板面へ塗膜形成し所定のパ□タ
ーンにする。しかるのち、赤外線炉にて２００℃５■焼
成し薄膜を形成乾燥する。この結果膜厚４０００Ａ±２
０００以上の如く本発明による、電子ディバイス基板へ
の薄膜形成方法によれば、粘度１０００ ｃｐｓ以下の
低粘度の有機″！ｌたは無機化合物を含む溶液で寸法精
度良好な、また任意のノ；ターンを直接的に薄膜するこ
とが可能になったことで煩雑な工程を必要としなくなっ
たこと、コンピューターで制御可能な皮めパターン変更
が容易になつ九。また透明電極付ガラス基板の透明電極
薄膜（ＩＴｏ、８ｎＯ１゜ｅｔｃ ）を有機溶媒に溶解
したｆｆ４ｉｌｉｌを同様な薄膜形成力法を用いれば、
１自接パターン化した透明電極薄膜は作成可能である。
晶表示素子の配向制御膜の材料としてエポキシ系シラン
材と有機チタンをメタノール、あるいけエチルヤロソル
ブなどの混合溶液（粘度［Ｌ５〜５ ｃｐｓ ）を使用
する。この混合溶液をノズルより間欠的に噴射すること
Ｋより、端子等以外の基板面へ塗膜形成し所定のパ□タ
ーンにする。しかるのち、赤外線炉にて２００℃５■焼
成し薄膜を形成乾燥する。この結果膜厚４０００Ａ±２
０００以上の如く本発明による、電子ディバイス基板へ
の薄膜形成方法によれば、粘度１０００ ｃｐｓ以下の
低粘度の有機″！ｌたは無機化合物を含む溶液で寸法精
度良好な、また任意のノ；ターンを直接的に薄膜するこ
とが可能になったことで煩雑な工程を必要としなくなっ
たこと、コンピューターで制御可能な皮めパターン変更
が容易になつ九。また透明電極付ガラス基板の透明電極
薄膜（ＩＴｏ、８ｎＯ１゜ｅｔｃ ）を有機溶媒に溶解
したｆｆ４ｉｌｉｌを同様な薄膜形成力法を用いれば、
１自接パターン化した透明電極薄膜は作成可能である。
ｔ：第１５＃ｉ杢・実施例に用い良化合物溶液の噴射ノ
ズル駆動部の棚、企図、 第２図は、ノズルの詳細−１ 第３図は、ノズル発掘回路とノズル駆動部の制御概念図
、 １・・・・・・ガラス ２・・・・・・ガラス５
・・・・・・凹ｗＡ ４・・・・・・溶液溜５
・・・・・・圧電素子 ６・・・・・・ノズル７・
・・・・・化合物溶液 １０・・・噴射口１１・・・
タンク １２・・・Ｘ軸１４・・・駆動体
１５・・・ノ（ルスモータ１６・・・ガラス基板
１７・・・搭載台１８・・・塗膜 １９・・・
コンピュータ２０・・・ノズル圧電素子２１・・・ｘ、
ｘ軸）（ルスモーク駆動部 以 上 出願人 株式会社 −訪精工会 代理人 弁理士 最 上 務 ＋ １ 図 ゛ 矛 Ｚ 図 才 ろ 図 手続補正書（自発） １、 １４９件の友小 昭和５６年 特旧願第１３８０２５ ＋３２、発明の
名称 低粘度ｉＩ液のｔｓｉ形成装置 ３ 補ＩＬをずろパ ４代理人 ６ 袖Ｗにより増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 明細書第５１Ｘ下行 「１０ ＫＨ２〜２０ ＫＨ２Ｊとあるを、ｌ’−ｔｏ
ＭＨｚ〜２５ＭＨｚＪに補正する。 ２− 明細書第５１Ｘ下から５行目 「４００■／５ｏｃＪとあるを、「４００１１１１／
ｓｅａ ＪＫ補正する。 五 明細書第６ｖＩ第３行 「であだ、」とあるを、「である、ＪＫ補正する。 瓜 明細書第６ｊｊ第１０行〜１１行 「１〜５μ」とあるを、「１０〜１００μ」に補正する
。 ４ 明細書第７頁第１行〜２行 「プログラムミンク」とあるを、「プログラミング」Ｋ
補正する。 直 明細書第７真下から２行目〜１行目「５１ａｌ焼成
し°°°・・・±２０００４とあるを、「５分間焼成、
乾燥し、薄ｌｌＩを形成する。この結果、膜厚ａｏｏｏ
５！±２００」に補正する。 ２ 明細書第８頁第１２行 「薄膜は」とあるを、「薄膜が」に補正する。 以 上
ズル駆動部の棚、企図、 第２図は、ノズルの詳細−１ 第３図は、ノズル発掘回路とノズル駆動部の制御概念図
、 １・・・・・・ガラス ２・・・・・・ガラス５
・・・・・・凹ｗＡ ４・・・・・・溶液溜５
・・・・・・圧電素子 ６・・・・・・ノズル７・
・・・・・化合物溶液 １０・・・噴射口１１・・・
タンク １２・・・Ｘ軸１４・・・駆動体
１５・・・ノ（ルスモータ１６・・・ガラス基板
１７・・・搭載台１８・・・塗膜 １９・・・
コンピュータ２０・・・ノズル圧電素子２１・・・ｘ、
ｘ軸）（ルスモーク駆動部 以 上 出願人 株式会社 −訪精工会 代理人 弁理士 最 上 務 ＋ １ 図 ゛ 矛 Ｚ 図 才 ろ 図 手続補正書（自発） １、 １４９件の友小 昭和５６年 特旧願第１３８０２５ ＋３２、発明の
名称 低粘度ｉＩ液のｔｓｉ形成装置 ３ 補ＩＬをずろパ ４代理人 ６ 袖Ｗにより増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 明細書第５１Ｘ下行 「１０ ＫＨ２〜２０ ＫＨ２Ｊとあるを、ｌ’−ｔｏ
ＭＨｚ〜２５ＭＨｚＪに補正する。 ２− 明細書第５１Ｘ下から５行目 「４００■／５ｏｃＪとあるを、「４００１１１１／
ｓｅａ ＪＫ補正する。 五 明細書第６ｖＩ第３行 「であだ、」とあるを、「である、ＪＫ補正する。 瓜 明細書第６ｊｊ第１０行〜１１行 「１〜５μ」とあるを、「１０〜１００μ」に補正する
。 ４ 明細書第７頁第１行〜２行 「プログラムミンク」とあるを、「プログラミング」Ｋ
補正する。 直 明細書第７真下から２行目〜１行目「５１ａｌ焼成
し°°°・・・±２０００４とあるを、「５分間焼成、
乾燥し、薄ｌｌＩを形成する。この結果、膜厚ａｏｏｏ
５！±２００」に補正する。 ２ 明細書第８頁第１２行 「薄膜は」とあるを、「薄膜が」に補正する。 以 上
Claims (1)
- （１）ガラス、セラミック、金楓又はプラスチック、又
はこれらの２つ以上からな今電子ディバイス基板面に、
粘度１０００ ｃｐｓ以下で、有機ないし無機化合物を
含む溶液の塗膜形成装置において、真空吸着穴を有する
基板搭載台と前記基板搭載台上面と平行に設けられ九直
交する２つの軌道と前記軌道に案内された駆動台と、管
路の外面に圧電素子が固着されかつ駆動台に固定され基
板搭載台と任倉の距離を保つノズルと、さらに圧電素子
は電動の圧電素子制御部會有し、ま要部動台は動力源と
その駆動部を有し、前記圧電素子制御部と駆動部の（ロ
）期制御部から構成されたこと′ｔ−特徴とする低粘度
溶液の塗膜形成装置。 （２、特許請求の範囲第１項に於ける基板搭載台に発熱
体を配設したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の低粘度溶液の塗膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56138025A JPS5849914A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 低粘度溶液の塗膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56138025A JPS5849914A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 低粘度溶液の塗膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849914A true JPS5849914A (ja) | 1983-03-24 |
Family
ID=15212284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56138025A Pending JPS5849914A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 低粘度溶液の塗膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5849914A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108367307A (zh) * | 2016-01-22 | 2018-08-03 | 庄田德古透隆股份有限公司 | 端面涂布装置 |
-
1981
- 1981-09-02 JP JP56138025A patent/JPS5849914A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108367307A (zh) * | 2016-01-22 | 2018-08-03 | 庄田德古透隆股份有限公司 | 端面涂布装置 |
| CN108367307B (zh) * | 2016-01-22 | 2021-03-23 | 庄田德古透隆股份有限公司 | 端面涂布装置 |
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