JPS5846507B2 - １α，２４（Ｒ），２５↓−トリヒドロキシコレカルシフエロ−ルの製造法 - Google Patents
１α，２４（Ｒ），２５↓−トリヒドロキシコレカルシフエロ−ルの製造法Info
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- JPS5846507B2 JPS5846507B2 JP53159182A JP15918278A JPS5846507B2 JP S5846507 B2 JPS5846507 B2 JP S5846507B2 JP 53159182 A JP53159182 A JP 53159182A JP 15918278 A JP15918278 A JP 15918278A JP S5846507 B2 JPS5846507 B2 JP S5846507B2
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- Japan
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- group
- derivative
- benzene
- trihydroxycholecalciferol
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ｌα、２４（Ｒ）、２５−４−リヒドロキシ
コレカルシフエロールの製造法に関する。
コレカルシフエロールの製造法に関する。
更に詳しくは、小腸からのカルシウム吸収能を有するｌ
α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカルシフェ
ロールの製造法に関する。
α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカルシフェ
ロールの製造法に関する。
本発明において目的とする１α、２４（Ｒ）、２５−ト
リヒドロキシコレカルシフェロールハ新規す化合物であ
り、その製造°法は従来全く知られていなかった。
リヒドロキシコレカルシフェロールハ新規す化合物であ
り、その製造°法は従来全く知られていなかった。
ビタミンＤ３の生体内代謝産物であり、活性型ビタミン
Ｄ３として知られている１α。
Ｄ３として知られている１α。
２４．２５−）リヒドロキシコレ力ルシフエロール〔ジ
ャーナル０オブＯバイオロジカル・ケミストリイ（Ｊ
、 Ｂｉｏｌ、ｃｈｅｍ ）、２４５，６６９１（１９
７３）参照〕はカルシウム吸収をうながし、血中カルシ
ウム濃度を高める作用を持ち、カルシウム代謝異常によ
り起きる種々の障害に対する効果が期待される。
ャーナル０オブＯバイオロジカル・ケミストリイ（Ｊ
、 Ｂｉｏｌ、ｃｈｅｍ ）、２４５，６６９１（１９
７３）参照〕はカルシウム吸収をうながし、血中カルシ
ウム濃度を高める作用を持ち、カルシウム代謝異常によ
り起きる種々の障害に対する効果が期待される。
本発明方法において製造の目的とするビタミンＤ３誘導
体であるｌα、２４（Ｒ）、２５−）リヒドロキシコレ
力ルシフエロールは、ビタミンＤ３の活性代謝産物であ
る１α、２４，２５−トＩＪヒドロキシコレカルシフェ
ロールと同様あるいは、類似の生理活性を有することが
期待される物質である。
体であるｌα、２４（Ｒ）、２５−）リヒドロキシコレ
力ルシフエロールは、ビタミンＤ３の活性代謝産物であ
る１α、２４，２５−トＩＪヒドロキシコレカルシフェ
ロールと同様あるいは、類似の生理活性を有することが
期待される物質である。
かくして本発明の目的は上述のように医薬品として、動
物用医薬品として有用な生理作用を有する新規な化合物
である１α、 ２４（Ｒ）、 ２５−）−１，Ｊヒドロ
キシコレカルシフェロールを好収率で有利に製造する方
法を提供するものである。
物用医薬品として有用な生理作用を有する新規な化合物
である１α、 ２４（Ｒ）、 ２５−）−１，Ｊヒドロ
キシコレカルシフェロールを好収率で有利に製造する方
法を提供するものである。
本発明によれば、かかる本発明の目的は、下記一般式〔
■〕 〔式中、Ｒ１はアシル基、Ｒ２はアシル基、トリメチル
シリル基又は水素原子〕 で表わされる１α、２４（Ｒ）、２５−１−リヒドロキ
シコレカルシフエロール誘導体を脱ヒドロキシ保護基せ
しめることにより達成される。
■〕 〔式中、Ｒ１はアシル基、Ｒ２はアシル基、トリメチル
シリル基又は水素原子〕 で表わされる１α、２４（Ｒ）、２５−１−リヒドロキ
シコレカルシフエロール誘導体を脱ヒドロキシ保護基せ
しめることにより達成される。
本発明方法において使用される１α、２４（８）。
２５− トＩＪヒドロキシコレカルシフェロール誘導体
は、前記一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物である。
は、前記一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物である。
式中、Ｒ１はアシル基であり、Ｒ２はアシル基、トリメ
チルシリル基又は水素原子である。
チルシリル基又は水素原子である。
分子中に存在する３個のＲｏは同一でも、異っていても
よく、また、Ｒ２がアシル基の場合、Ｒ１とＲ２ハ同一
でモ、異っていてもよい。
よく、また、Ｒ２がアシル基の場合、Ｒ１とＲ２ハ同一
でモ、異っていてもよい。
ここでアシル基としては、例えば、アセチル基、プロパ
ノイル基、ベンゾイル基、Ｐ−７”ロモベンゾイル基、
Ｐ−ニトロベンゾイル基等をあげることができるが、特
にアセチル基、ベンゾイル基又はＰ−ブロモベンゾイル
基が好ましい。
ノイル基、ベンゾイル基、Ｐ−７”ロモベンゾイル基、
Ｐ−ニトロベンゾイル基等をあげることができるが、特
にアセチル基、ベンゾイル基又はＰ−ブロモベンゾイル
基が好ましい。
かかる化合物の具体例としては、例えば、３個のＲｏお
よびＲ２が共にアセチル基のもの、Ｒ２が水素原子で３
個のＲｏが共にベンゾイル基のもの、Ｒ２がトリメチル
シリル基で３個のＲ１が共にアセチル基のもの等が例示
されるが、その他の具体例についても上記Ｒ１゜Ｒ２の
具体的例示から明らかである。
よびＲ２が共にアセチル基のもの、Ｒ２が水素原子で３
個のＲｏが共にベンゾイル基のもの、Ｒ２がトリメチル
シリル基で３個のＲ１が共にアセチル基のもの等が例示
されるが、その他の具体例についても上記Ｒ１゜Ｒ２の
具体的例示から明らかである。
しかして、かかる化合物は、もちろんいかなる製造方法
によるものでも用いつるが、例えば後記式圓で表わされ
るｌα、３β、２４（Ｒ）、２５−テトラヒドロキシコ
レスタ−５，７−シエン誘導体ニ、不活性有機溶媒中、
紫外線を照射して熱異性化せしめることにより、有利に
製造しうる。
によるものでも用いつるが、例えば後記式圓で表わされ
るｌα、３β、２４（Ｒ）、２５−テトラヒドロキシコ
レスタ−５，７−シエン誘導体ニ、不活性有機溶媒中、
紫外線を照射して熱異性化せしめることにより、有利に
製造しうる。
そして、該テトラヒドロキシコレスタ−５，７−ジエン
誘導体は、例えば、本発明者が先に提案した方法、すな
わちフコステロールを出発原料とし、デスモスチロール
、３β、２４．２５−トリヒドロキシコレスト−５−エ
ン、更には１α、２α−エポキシ−２４，２５−ジヒド
ロキシコレスタ−４，６−ノニン−３−オンを経る方法
で製造した１α、３β。
誘導体は、例えば、本発明者が先に提案した方法、すな
わちフコステロールを出発原料とし、デスモスチロール
、３β、２４．２５−トリヒドロキシコレスト−５−エ
ン、更には１α、２α−エポキシ−２４，２５−ジヒド
ロキシコレスタ−４，６−ノニン−３−オンを経る方法
で製造した１α、３β。
２４．２５−テトラヒドロキシコレステロール誘導体を
、同様に先に本発明者が提案した方法によって２４一位
エピマーの分離をし、ｌα、３β。
、同様に先に本発明者が提案した方法によって２４一位
エピマーの分離をし、ｌα、３β。
２４（６）、２５−テトラヒドロキシコレスト−５エン
および１α、３β、 ２４（Ｓ）、 ２５−テトラヒド
ロキシコレスト−５−エンを得、このＲ体を１α、３β
、２４（Ｒ）、２５−テトラヒドロキシコレスタ−５，
７−ジエンとする方法により有利に製造しうる。
および１α、３β、 ２４（Ｓ）、 ２５−テトラヒド
ロキシコレスト−５−エンを得、このＲ体を１α、３β
、２４（Ｒ）、２５−テトラヒドロキシコレスタ−５，
７−ジエンとする方法により有利に製造しうる。
本発明方法は上記の如くして製造された前記犬山で表わ
されるｌα、２４（Ｒ）、２５−）リヒドロキシコレ力
ルシフエロール誘導体のヒドロキシ保護基を脱離せしめ
ることにより行なわれる。
されるｌα、２４（Ｒ）、２５−）リヒドロキシコレ力
ルシフエロール誘導体のヒドロキシ保護基を脱離せしめ
ることにより行なわれる。
その場合、保護基がアシル基の時は、通常、アルカリ性
のメタノール、エタノールの如きアルコール溶液中で分
解する方法、あるいはエーテル等の溶媒中ＬｉＡ／？
Ｈ４等により還元的に分解し脱アシル化せしめる方法等
により行なわれる。
のメタノール、エタノールの如きアルコール溶液中で分
解する方法、あるいはエーテル等の溶媒中ＬｉＡ／？
Ｈ４等により還元的に分解し脱アシル化せしめる方法等
により行なわれる。
脱アシル化反応は一１Ｏ℃〜５０℃の温度で行うのが好
ましい。
ましい。
また、保護基がトリメチルシリル基の場合、その一部は
、還元的に除去するか、酸又はアルカリと接触させるこ
とにより容易に除去することが出来る。
、還元的に除去するか、酸又はアルカリと接触させるこ
とにより容易に除去することが出来る。
本発明方法において用いられる上記式（３）で表わされ
る１α、２４（ＦＱ、２５−）リヒドロキシコレカルシ
フエロール誘導体は、下記式（至）［：、 Ｒ１はアシ
ル基、Ｒ２はアシル基、トリメチルシリル基又は水素原
子］ で表わされるｌα、３β、２４（Ｒ）、２５−テトラヒ
ドロキシコレスタ−５，７−ジエン誘導体に不活性有機
溶媒中で紫外線を照射せしめ、次いで熱異性化せしめる
ことにより製造される。
る１α、２４（ＦＱ、２５−）リヒドロキシコレカルシ
フエロール誘導体は、下記式（至）［：、 Ｒ１はアシ
ル基、Ｒ２はアシル基、トリメチルシリル基又は水素原
子］ で表わされるｌα、３β、２４（Ｒ）、２５−テトラヒ
ドロキシコレスタ−５，７−ジエン誘導体に不活性有機
溶媒中で紫外線を照射せしめ、次いで熱異性化せしめる
ことにより製造される。
その際、紫外線とは約２００〜３６０ｎｍの波長範囲の
ものとして知られているものであり、特に２６０〜３１
０ｎｍの範囲の波長のものが好ましく用いられる。
ものとして知られているものであり、特に２６０〜３１
０ｎｍの範囲の波長のものが好ましく用いられる。
また、不活性有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、フロムベンゼン、クロルベンゼン、ニ
トロベンゼン、四酸化炭素、１、２− ジクロルエタン
、１，２−ジクロルエタン等の炭化水素、ハロゲン化炭
化水素更には、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、メチルセロンルプ、フェニルセロソルブ等のエー
テル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパツール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶
媒等が好適なものとしてよく用いられる。
プタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、フロムベンゼン、クロルベンゼン、ニ
トロベンゼン、四酸化炭素、１、２− ジクロルエタン
、１，２−ジクロルエタン等の炭化水素、ハロゲン化炭
化水素更には、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、メチルセロンルプ、フェニルセロソルブ等のエー
テル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパツール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶
媒等が好適なものとしてよく用いられる。
紫外線照射の際の温度は一２００〜８０℃、特に−１０
０〜２０℃の範囲が好適である。
０〜２０℃の範囲が好適である。
また、アルゴンあるいは窒素雰囲気等の酸素の存在しな
い不活性雰囲気で行うのが好ましい。
い不活性雰囲気で行うのが好ましい。
かくして紫外線照射によれば、１α、３β。
２４（Ｒ）、２５−テトラヒドロキシコレスタ−５，７
−ジエン誘導体の９，１０位が開裂してｌα、２４（Ｒ
）。
−ジエン誘導体の９，１０位が開裂してｌα、２４（Ｒ
）。
２５−トリヒドロキシプレコレカルシフェロール誘導体
が主として生成するものと考えられる。
が主として生成するものと考えられる。
次いで、かくして得られたプレコレカルシフェロール誘
導体より１α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレ
カルシフェロールを製造する方法トシて、該プレコレカ
ルシフェロール誘導体を、次いで熱異性化せしめる方法
により行なわれる。
導体より１α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレ
カルシフェロールを製造する方法トシて、該プレコレカ
ルシフェロール誘導体を、次いで熱異性化せしめる方法
により行なわれる。
かかる熱異性化の際の温度は、反応自体の進行には本質
的には重要ではない。
的には重要ではない。
それ故、この明細書において熱異性化とは、必ずしも加
熱異性化を意味するものではない。
熱異性化を意味するものではない。
すなわち、１α、 ２４（Ｉ（）、 ２５−トリヒドロ
キシプレコレカルシフェロール誘導体と１α。
キシプレコレカルシフェロール誘導体と１α。
２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカルシフェロー
ル誘導体とは、温度により異なる一定の平衡値を示し、
温度の低い方が後者の割合が増加する傾向を示す。
ル誘導体とは、温度により異なる一定の平衡値を示し、
温度の低い方が後者の割合が増加する傾向を示す。
一方では温度が低い方法が、後者への変換する速度がゆ
るやかとなる傾向を示す。
るやかとなる傾向を示す。
従って、平衡値および変換速度を考慮して、温度を定め
ることができ、かかる意味において温度は反応自体の進
行には本質的に重要なものではない。
ることができ、かかる意味において温度は反応自体の進
行には本質的に重要なものではない。
実際的にはこのような点を考慮して、通常異性化温度と
して１０’〜１２０℃が採用される。
して１０’〜１２０℃が採用される。
その際異性化は、通常不活性有機溶媒中で行うことが望
ましく、その例としては、前記紫外線照射の際使用され
る溶媒と同様のものを挙げることができる。
ましく、その例としては、前記紫外線照射の際使用され
る溶媒と同様のものを挙げることができる。
かかる反応により得られる１α、２４（Ｒ）、２５トリ
ヒドロキシコレ力ルシフエロール誘導体ノ分離、精製は
必ずしも必要ではなく、そのままヒドロキシ保護基を除
去して１α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカ
ルシフェロールを取得する際に分離、精製することが可
能である。
ヒドロキシコレ力ルシフエロール誘導体ノ分離、精製は
必ずしも必要ではなく、そのままヒドロキシ保護基を除
去して１α、２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカ
ルシフェロールを取得する際に分離、精製することが可
能である。
しかし、１α、 ２４（Ｒ）、 ２５−１−リヒドロキ
シコレ力ルシフエロール誘導体の分離、精製が必要な場
合には、薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラ
フィー、高速液体クロマトグラフィー等により有利に行
うことができる。
シコレ力ルシフエロール誘導体の分離、精製が必要な場
合には、薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラ
フィー、高速液体クロマトグラフィー等により有利に行
うことができる。
以下、実施例をあげて本発明を詳述するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
実施例 １
（１）７０■の１α、３β、２４（Ｒ）、２５−テトラ
アセトキシコレスタ−５，７−ジエンを含む５００ｒｎ
ｌのジエチルエーテル溶液をアルゴンガスを通じて脱酸
素し、アルゴン雰囲気中５℃で５分間紫外線（装置はＨ
ａｎｏｖｉａ社製、２００Ｗ。
アセトキシコレスタ−５，７−ジエンを含む５００ｒｎ
ｌのジエチルエーテル溶液をアルゴンガスを通じて脱酸
素し、アルゴン雰囲気中５℃で５分間紫外線（装置はＨ
ａｎｏｖｉａ社製、２００Ｗ。
ｈｉｇｈ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＨＥ ｌａｍｐ 、
６５４ Ａ−３６を使用）を照射した。
６５４ Ａ−３６を使用）を照射した。
溶液の一部を用いてＵＶスペクトルを測定したところ、
１α、２４（Ｒ）。
１α、２４（Ｒ）。
２５−トリアセトキシプレコレカルシフェロールに基く
と考えられる２６２ｎｍの吸収の増加が認められた。
と考えられる２６２ｎｍの吸収の増加が認められた。
室温下溶媒を減圧留去し、残渣にベンゼン１００−を加
え、アルゴン雰囲気下、ベンゼンを２時間沸騰還流して
異性化反応を行った。
え、アルゴン雰囲気下、ベンゼンを２時間沸騰還流して
異性化反応を行った。
（２）反応終了後、大部分のベンゼンを減圧下に留去し
、残渣に５％水酸化カリウム／メタノール２−メタノー
ル２ｒｒｌＩ！及びベンゼン２−を加え、室温中に一昼
夜放置した。
、残渣に５％水酸化カリウム／メタノール２−メタノー
ル２ｒｒｌＩ！及びベンゼン２−を加え、室温中に一昼
夜放置した。
反応生成物に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチルで抽
出した。
出した。
酢酸エチル層を水洗し乾燥後、室温中域圧下に酢酸エチ
ルを留去し、残渣４２■を得た。
ルを留去し、残渣４２■を得た。
この物をシリカゲル−硝酸銀のプレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィーを用い、クロロホルム−メタノール系で
展開し、注意深く分離すると、１α、２４（Ｒ）、２５
−１リヒドロキシコレカルシフエロール６．Ｏｍ’ｉが
得られた。
マトグラフィーを用い、クロロホルム−メタノール系で
展開し、注意深く分離すると、１α、２４（Ｒ）、２５
−１リヒドロキシコレカルシフエロール６．Ｏｍ’ｉが
得られた。
すなわち、このものの各種スペクトルは以下の通りであ
った。
った。
しかして、本発明者らの研究によれば、上記ＵＶスペク
トルにおけるλｍａｘとλｍｉｎにおける吸光度の比、
すなわち、（λｍａ ｘにおける吸光度／λｍｉｎにお
ける吸光度）の値が約１．２〜２．５の間を示す比較的
高純度の１α、２４（Ｒ）。
トルにおけるλｍａｘとλｍｉｎにおける吸光度の比、
すなわち、（λｍａ ｘにおける吸光度／λｍｉｎにお
ける吸光度）の値が約１．２〜２．５の間を示す比較的
高純度の１α、２４（Ｒ）。
２５−Ｈヒドロキシコレカルシフェロールはすぐれた薬
理効果を発現するものであることがわかった。
理効果を発現するものであることがわかった。
ここで吸光度の測定は、エタノール溶媒中、１ＣｒｒＬ
セルを用いて行ったものである。
セルを用いて行ったものである。
実施例 ２
（１） ５０Ｔｌｆ！の１α、３β、２４（Ｒ）−１
−リベンゾイルオキシー２５−ヒドロキシコレスタ−５
，７−ジエンを含む５００７！のジエチルエーテル溶液
をアルゴンガスを通じて脱酸素し、アルゴン雰囲気中５
℃で５分間紫外線（装置は実施例１で用いたものに同じ
）を照射した。
−リベンゾイルオキシー２５−ヒドロキシコレスタ−５
，７−ジエンを含む５００７！のジエチルエーテル溶液
をアルゴンガスを通じて脱酸素し、アルゴン雰囲気中５
℃で５分間紫外線（装置は実施例１で用いたものに同じ
）を照射した。
溶液の一部を用いてＵＶスペクトルを測定したところ、
１α。
１α。
２４（Ｒ）−ジベンゾイルオキシ、２５−ヒドロキシプ
レコレカルシフェロールに基くと考えられる２６２ｎｍ
の吸収の増加が認められた。
レコレカルシフェロールに基くと考えられる２６２ｎｍ
の吸収の増加が認められた。
室温下溶媒を減圧留去し残渣にベンゼン１００−を加え
、アルゴン雰囲気下、ベンゼンを２時間沸騰還流して異
性化反応を行った。
、アルゴン雰囲気下、ベンゼンを２時間沸騰還流して異
性化反応を行った。
（２）反応終了後、大部分のベンゼンを減圧下に留去し
、残渣に５％水酸化カリウム／メタノール２−、メタノ
ール２−及びベンゼン２−を加え、室温中に一昼夜放置
した。
、残渣に５％水酸化カリウム／メタノール２−、メタノ
ール２−及びベンゼン２−を加え、室温中に一昼夜放置
した。
反応生成物に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチルで抽
出した。
出した。
酢酸エチル層を水洗し、乾燥後、室温中域圧下に溶媒を
留去し、残渣１６ηを得た。
留去し、残渣１６ηを得た。
この物をシリカゲル−硝酸銀のプレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィーを用い、クロロホルム−メタノール系で
展開し、注意深く分離すると、１α。
マトグラフィーを用い、クロロホルム−メタノール系で
展開し、注意深く分離すると、１α。
２４（Ｒ）、２５−１−リヒドロキシコレ力ルシフエロ
ール２５ηが得られた。
ール２５ηが得られた。
すなわち、物理データーは実施例１の方法で得られたも
ののそれと同じ値を示した。
ののそれと同じ値を示した。
実施例 ３
（１）１α、３β、２４（Ｒ）、−トリアセトキシ−２
５−トリメチルシリルオキシコレスタ、５．７−ジエン
５０■を含む５００ｍ７１！のジエチルエーテル溶液に
アルゴン気流を通じて脱酸素し、アルゴン雰囲気中５℃
で２分間紫外線（装置は、Ｈａｎｏｖｉａ社製２００Ｗ
ｈｉｇｈ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＨＥｌａｍｐ ６５４
Ａ−３６）を照射した。
５−トリメチルシリルオキシコレスタ、５．７−ジエン
５０■を含む５００ｍ７１！のジエチルエーテル溶液に
アルゴン気流を通じて脱酸素し、アルゴン雰囲気中５℃
で２分間紫外線（装置は、Ｈａｎｏｖｉａ社製２００Ｗ
ｈｉｇｈ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＨＥｌａｍｐ ６５４
Ａ−３６）を照射した。
溶液の一部を取りｕｖスペクトルを測定したところ、２
６２ｎｍの吸収が増大したところから、ｌα。
６２ｎｍの吸収が増大したところから、ｌα。
２４（Ｒ）−ジアセトキシ、２５−トリメチルシリルオ
キシプレコレカルシフェロールの生成を認めた。
キシプレコレカルシフェロールの生成を認めた。
（２）室温でエーテルを減圧下に留去し、残渣をメタノ
ール−ベンゼン（ｌｒｎｌずつ）の混合溶媒に溶解し、
５％ＫＯＨ／メタノール（１ｍｌ）を加え１５℃に一夜
放置した。
ール−ベンゼン（ｌｒｎｌずつ）の混合溶媒に溶解し、
５％ＫＯＨ／メタノール（１ｍｌ）を加え１５℃に一夜
放置した。
酢酸エチル及び水で希釈し、酢酸エチルで抽出し、抽出
液を水洗した。
液を水洗した。
乾燥後、溶媒を減圧留去すると、３４ηの残渣を得た。
残渣をベンゼン１０ｒｒｌｌに溶解し、アルゴン気流下
に２時間沸騰還流を行った。
に２時間沸騰還流を行った。
ベンゼンを室温中減圧留去し、得られた残渣をシリカゲ
ル−硝酸銀のプレパラテイブ薄層クロマトグラフィーを
用い、クロロホルム−メタノール系で展開し、注意深く
分離すると、１α。
ル−硝酸銀のプレパラテイブ薄層クロマトグラフィーを
用い、クロロホルム−メタノール系で展開し、注意深く
分離すると、１α。
２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカルシフェロー
ル４．７■が得られた。
ル４．７■が得られた。
物理データーは実施例１の方法で得たものと同じ値を示
した。
した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式〔０ 〔式中、Ｒ１はアシル基、Ｒ２はアシル基、トリメチル
シリル基又は水素原子〕 で表わされる１α、２４（Ｒ）、２５−１−リヒドロキ
シコレカルシフエロール誘導体を、脱ヒドロキシ保護基
せしめることを特徴とする下記式叩で表わされる１α、
２４（Ｒ）、２５−トリヒドロキシコレカルシフェロー
ルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53159182A JPS5846507B2 (ja) | 1978-12-26 | 1978-12-26 | １α，２４（Ｒ），２５↓−トリヒドロキシコレカルシフエロ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53159182A JPS5846507B2 (ja) | 1978-12-26 | 1978-12-26 | １α，２４（Ｒ），２５↓−トリヒドロキシコレカルシフエロ−ルの製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3107575A Division JPS51108047A (en) | 1975-03-17 | 1975-03-17 | 1 arufua * 24 * r * *255 torihidorokishikorekarushifuerooruno seizoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5522655A JPS5522655A (en) | 1980-02-18 |
| JPS5846507B2 true JPS5846507B2 (ja) | 1983-10-17 |
Family
ID=15688091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53159182A Expired JPS5846507B2 (ja) | 1978-12-26 | 1978-12-26 | １α，２４（Ｒ），２５↓−トリヒドロキシコレカルシフエロ−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846507B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061070B1 (en) * | 1998-02-24 | 2008-07-16 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Process for the preparation of ED-71 |
-
1978
- 1978-12-26 JP JP53159182A patent/JPS5846507B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5522655A (en) | 1980-02-18 |
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