JPS584563B2 - キタイノシヨリソウチ - Google Patents
キタイノシヨリソウチInfo
- Publication number
- JPS584563B2 JPS584563B2 JP50127759A JP12775975A JPS584563B2 JP S584563 B2 JPS584563 B2 JP S584563B2 JP 50127759 A JP50127759 A JP 50127759A JP 12775975 A JP12775975 A JP 12775975A JP S584563 B2 JPS584563 B2 JP S584563B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- fine particles
- magnetic field
- contact
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は人体等成体に有害な気体または蒸気生分、即ち
ＮＯｘ，ＳＯｘ，ＣＯｘを含有する気体の処理即ち無害
化分解、化合、あるいは吸着捕集等の処理をする期待の
処理装置に関するものである。
ＮＯｘ，ＳＯｘ，ＣＯｘを含有する気体の処理即ち無害
化分解、化合、あるいは吸着捕集等の処理をする期待の
処理装置に関するものである。
従来気体処理に排ガス処理装置としてアンモニア等を加
え貴金属触媒を利用したもの等各種の処理装置が提案さ
れているが、反応雰囲気の温度条件とかアンモニアの添
加量の制御等がむずかしく充分な処理能力をもったもの
が安価に提供できるところに至ってはいない。
え貴金属触媒を利用したもの等各種の処理装置が提案さ
れているが、反応雰囲気の温度条件とかアンモニアの添
加量の制御等がむずかしく充分な処理能力をもったもの
が安価に提供できるところに至ってはいない。
このため本発明者等は金属を放電爆発させたときに得ら
れる一粒子を利用して処理することを試みた。
れる一粒子を利用して処理することを試みた。
それは金属材を放電爆発させると、爆発雰囲気によって
純金属，合金，金属酸化物，金属窒化物等の微粒子がで
き、且つこの微粒子は高活性であり、これと処理すべき
気体を接触させることにより気体中の有害成分を吸着し
たり、触媒として作用し、酸化，還元、分解等の無害化
反応を促進せしめる、この放電生成金属微粒予の作用を
利用したものである。
純金属，合金，金属酸化物，金属窒化物等の微粒子がで
き、且つこの微粒子は高活性であり、これと処理すべき
気体を接触させることにより気体中の有害成分を吸着し
たり、触媒として作用し、酸化，還元、分解等の無害化
反応を促進せしめる、この放電生成金属微粒予の作用を
利用したものである。
ところでこの放電爆発による微粒子の生成は処理ガス中
で行なうか、別個の爆発容器中で生成した微粒子を供給
して処絢気体と接触させるかであるが、処理気体は通常
流動させながら微粒子との接触を行なわせるため両者の
接触時間を所要以上長くすることができず、また微粒子
も気流に伴なって放出してしまい効率のよい経済的な利
用ができなかった。
で行なうか、別個の爆発容器中で生成した微粒子を供給
して処絢気体と接触させるかであるが、処理気体は通常
流動させながら微粒子との接触を行なわせるため両者の
接触時間を所要以上長くすることができず、また微粒子
も気流に伴なって放出してしまい効率のよい経済的な利
用ができなかった。
本発明はこの点を楓善するために蝉案された装置であり
、以下図面の一実施例によって説明する。
、以下図面の一実施例によって説明する。
第１図において、１は接触処理をする処理室で、１ａが
処理すべき気体流入口、１ｂが処理された気体排気口、
１ｃは集塵された塵埃の排出口である。
処理すべき気体流入口、１ｂが処理された気体排気口、
１ｃは集塵された塵埃の排出口である。
そしてこの実施例では粒子生成装置を別個に設けること
なく処理室内の気体流入口１ａ側に設けてある。
なく処理室内の気体流入口１ａ側に設けてある。
２が生成微粒子原料の金属線材で、巻恰チーズからガイ
ドローラ３によって適宜処理室１内に繰り出し挿入され
る。
ドローラ３によって適宜処理室１内に繰り出し挿入され
る。
４は挿入金属線２の外端が対向する固定電極、５はガイ
ドローラ３によって繰り出される側の金属線２部分に対
向する可動電極で、これはマグネット６により駆動され
先端を金属線２に近接させる。
ドローラ３によって繰り出される側の金属線２部分に対
向する可動電極で、これはマグネット６により駆動され
先端を金属線２に近接させる。
７は衝撃電圧を印加する電源接続端子、８は集塵用の廊
電界を形成する電極、９が高電圧電源の接続端子、１０
は集塵電極８に向う処理室１の流路に静磁界または流通
方向に逆向きの移動磁界を形成し作用させるコイルで、
処理室外壁に沿って複数コイルを配列し、これを定励磁
して静磁界をまたは位相差励磁を行って移動磁界を形成
する。
電界を形成する電極、９が高電圧電源の接続端子、１０
は集塵電極８に向う処理室１の流路に静磁界または流通
方向に逆向きの移動磁界を形成し作用させるコイルで、
処理室外壁に沿って複数コイルを配列し、これを定励磁
して静磁界をまたは位相差励磁を行って移動磁界を形成
する。
移動磁界は集塵電極８に向う気流に対して逆向きの移動
磁界を形成する。
磁界を形成する。
以上において粒子生成装置は次のように作動する。
先づ金属線２をガイドローラ３によって送り先端を対向
電極４に接触または近接させ、端子７より電極４及び５
間に図示しない衝撃電源、例えば衝撃コンデンサに充電
した電圧を印加する。
電極４に接触または近接させ、端子７より電極４及び５
間に図示しない衝撃電源、例えば衝撃コンデンサに充電
した電圧を印加する。
そこでマグネット６を作動して可動電極５を駆動し金属
線２に近接させると、途中電極５の先端と金属線２間が
絶縁破壊して放電鼻通し、電極５から金属線２、そして
対向電極４へと衝撃的に大電流が流れ、電極４，５間の
金属線は衝撃的に溶断放電を起し爆発的に金属材は気化
、微粒子化して周囲に飛散する。
線２に近接させると、途中電極５の先端と金属線２間が
絶縁破壊して放電鼻通し、電極５から金属線２、そして
対向電極４へと衝撃的に大電流が流れ、電極４，５間の
金属線は衝撃的に溶断放電を起し爆発的に金属材は気化
、微粒子化して周囲に飛散する。
このとき処理壺１には気体流入口１ａから処理すべき気
体が導入されてあり、こゝにおいて飛散生成された金属
微粒子はガス中に拡散して接触衝突する。
体が導入されてあり、こゝにおいて飛散生成された金属
微粒子はガス中に拡散して接触衝突する。
接触によって導入気体中に含有する有害成分ＮＯｘ，Ｓ
Ｏｘ，ＣＯｘ等が金属微粒子と吸着結合したり、微粒子
の触媒作用により酸化，還元，分解等の化学反応を起し
無害化物に変化させられる。
Ｏｘ，ＣＯｘ等が金属微粒子と吸着結合したり、微粒子
の触媒作用により酸化，還元，分解等の化学反応を起し
無害化物に変化させられる。
しかして金属線の放電爆発によって生成する微粒子は材
質によりそれが磁性を有することによってコイル１０に
よる形成磁界の作用を受ける。
質によりそれが磁性を有することによってコイル１０に
よる形成磁界の作用を受ける。
形成磁界が静磁界であれば微粒子は磁界中に拘束され、
この拘束された状態に浮遊する微粒子に流入口１ａから
導入流通する処理気体が混合接触し衝突等を繰返すので
生成微粒子の気体との接触時間が長く保たれるようにな
る。
この拘束された状態に浮遊する微粒子に流入口１ａから
導入流通する処理気体が混合接触し衝突等を繰返すので
生成微粒子の気体との接触時間が長く保たれるようにな
る。
また形成磁界が気体の流通方向に逆らって逆向きに移動
する移動磁界であれば微粒子は流通する気体に強く衝突
し衝撃回数を増加し、また気体の流速を弱めて微粒子と
の接触時間を増大する。
する移動磁界であれば微粒子は流通する気体に強く衝突
し衝撃回数を増加し、また気体の流速を弱めて微粒子と
の接触時間を増大する。
高圧静電界を形成する電極８は前記の如くして気中の有
害物と接触吸着した微粒子を集塵し、また活性化状態の
し微粒子を集め、気体通路に一種の触媒層の如きを形成
し、こゝを流通々過する気体と接触衝突を繰返して有害
物の吸着除去，無害化反応を促進せしめる。
害物と接触吸着した微粒子を集塵し、また活性化状態の
し微粒子を集め、気体通路に一種の触媒層の如きを形成
し、こゝを流通々過する気体と接触衝突を繰返して有害
物の吸着除去，無害化反応を促進せしめる。
このようにして放電爆発によって生成された金属微粒を
集塵電極に向う処理室内において磁界の作用により捕捉
した状態で流通する気体との接触時間を長く触媒的接触
効果を高め、また混合効果による衝突回数を増大させる
等の制御をすることにより生成微粒子をより有効的に利
用でき、一定量の生成微粒子による処理効果を増大させ
ることができる。
集塵電極に向う処理室内において磁界の作用により捕捉
した状態で流通する気体との接触時間を長く触媒的接触
効果を高め、また混合効果による衝突回数を増大させる
等の制御をすることにより生成微粒子をより有効的に利
用でき、一定量の生成微粒子による処理効果を増大させ
ることができる。
静電界電極８部分を通過して集塵浄化された無害化気体
は排気口１ｂから排出され、集塵捕集された粒子は排出
口１ｃから回収される。
は排気口１ｂから排出され、集塵捕集された粒子は排出
口１ｃから回収される。
微粒子の生成は金属線２をガイドローラ３を駆動して送
り、マグネット６により電極５を近接させる作動を繰り
返すことにより所要の微粒子生成が連続してでき、流入
口１ａに流入する気体流量に応じて最適量を繰返し間隔
の制御によって容易に生成供給することができる。
り、マグネット６により電極５を近接させる作動を繰り
返すことにより所要の微粒子生成が連続してでき、流入
口１ａに流入する気体流量に応じて最適量を繰返し間隔
の制御によって容易に生成供給することができる。
なお、放電爆発によって純金属，金属酸化物等の粒子は
通常数μφ前後、またはそれ以下の微粉であり、見かけ
の容積比はもとの線材の２０００倍にもなる。
通常数μφ前後、またはそれ以下の微粉であり、見かけ
の容積比はもとの線材の２０００倍にもなる。
またその触媒能は処理すべき気体中のＮＯｘ等の濃度や
温度、及び金属材質によって異なるが、Ｆｅの場合通常
数分以上、場合によっては１００分前後の寿命を有する
ものであり、前記捕捉作用による触媒効果，混合効果の
増加による処理効果微粒子の利用効率は充分目的を達成
できるものである。
温度、及び金属材質によって異なるが、Ｆｅの場合通常
数分以上、場合によっては１００分前後の寿命を有する
ものであり、前記捕捉作用による触媒効果，混合効果の
増加による処理効果微粒子の利用効率は充分目的を達成
できるものである。
また微粒子生成原料としてはＦｅ以外に比較的経済使用
できるＷ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｍｎ
等が処理ガスの種類等に応じて適宜選択利用さねる。
できるＷ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｍｎ
等が処理ガスの種類等に応じて適宜選択利用さねる。
勿論必要に応じて貴金属等、前記例以外の金属，合金の
利用を除去するものではない。
利用を除去するものではない。
次に第２図は接触処理室をサイクロン集塵器１１で構成
した例であり、１１ａが処理気体の流入口，１１ｂが排
気口，１１Ｃが集塵排出口である。
した例であり、１１ａが処理気体の流入口，１１ｂが排
気口，１１Ｃが集塵排出口である。
１２は接触処理室１１とは別個に設けた微粒子生成装置
で、気体流入口１１ａ部分に生成微粒子を供給するよう
にしてある。
で、気体流入口１１ａ部分に生成微粒子を供給するよう
にしてある。
１３はサイクロン傾斜壁の上部に設けた磁界形成用コイ
ルである。
ルである。
サイクロン集塵作用は周知のように流入口１１ａより処
理すべき気体を加速流入させると傾斜壁を回転しながら
流下し、このうち浮力をつけた気体は反転して上昇し上
部排気口１１ｂから排出され、分離された粒子が更に流
下を続けて排出口１１ｃから排出されるわけであるが、
前記流入口１１ａから流入する気体に対して装置１２で
生成した微粒子を混合してサイクロン処理室１１に流入
させる。
理すべき気体を加速流入させると傾斜壁を回転しながら
流下し、このうち浮力をつけた気体は反転して上昇し上
部排気口１１ｂから排出され、分離された粒子が更に流
下を続けて排出口１１ｃから排出されるわけであるが、
前記流入口１１ａから流入する気体に対して装置１２で
生成した微粒子を混合してサイクロン処理室１１に流入
させる。
そしてサイクロン容器中を回転流動する間微粒子と気体
との接触，衝突が繰り返されることによって気体中の有
害物が微粒子に吸着され、また微粒子触媒作用により化
学反応を起して無害化処理されることは前記と同様であ
る。
との接触，衝突が繰り返されることによって気体中の有
害物が微粒子に吸着され、また微粒子触媒作用により化
学反応を起して無害化処理されることは前記と同様であ
る。
しかして供給微粒子は気体流と共に回転流下中、コイル
１３によって形成された磁界によってサイクロン室上部
に拘束され、容易に流下することなく、そこに微粒子雲
をつくり、こ５を通過する気体と長い接触衝突の時間を
もちながら接触処理が行なわれるようになり、生成微粒
子の有効利用を計り、処理効果を増大させることができ
る。
１３によって形成された磁界によってサイクロン室上部
に拘束され、容易に流下することなく、そこに微粒子雲
をつくり、こ５を通過する気体と長い接触衝突の時間を
もちながら接触処理が行なわれるようになり、生成微粒
子の有効利用を計り、処理効果を増大させることができ
る。
そしてこの第２図実施例のように微粒子生成装置を接触
処理室と別個に設けたことにより目的とする微粒子の生
成が容易にできる。
処理室と別個に設けたことにより目的とする微粒子の生
成が容易にできる。
即ち放電によって生成される微粒子は金属，合金の種類
により純金属，合金，金属酸化物、その他の形形態とし
て生成する必要があり、この場合、生成雰囲気を任意に
選択することができ、処理する気体と９接触等により還
元、酸化、または分解等の触媒その他の作用を生成微粒
子によって高効率に行なわせることができる。
により純金属，合金，金属酸化物、その他の形形態とし
て生成する必要があり、この場合、生成雰囲気を任意に
選択することができ、処理する気体と９接触等により還
元、酸化、または分解等の触媒その他の作用を生成微粒
子によって高効率に行なわせることができる。
例えば金属酸化物の微粒子を必要とし相
ときは雰囲気に酸素の存在が不可欠であ
によっては酸素リンチや気薄雰囲気，加圧とする必要が
あり、例えばＦｅ３０４の如く酸化度の進んでいない酸
化物粒子として利用することが有効な場合があるが、こ
のような場合には雰囲気を約１５％酸素−残アルゴンの
如く大気中より酸素の少ない状態にするとか適宜雰囲気
制御を必要とし、このような目的に応じた放電雰囲気の
選択、制御を容易に可能ならしめるものである。
あり、例えばＦｅ３０４の如く酸化度の進んでいない酸
化物粒子として利用することが有効な場合があるが、こ
のような場合には雰囲気を約１５％酸素−残アルゴンの
如く大気中より酸素の少ない状態にするとか適宜雰囲気
制御を必要とし、このような目的に応じた放電雰囲気の
選択、制御を容易に可能ならしめるものである。
なお、微粒子の生成装置は原料金属線の放電爆発だけに
限られるものではなく、金属粉末を充填した部分に衝撃
電流を通電して放電爆発させてもよく、また金属電極を
対向した間隙に放電させて電極先端部を溶解飛散させて
微粒子生成を行ってもよい。
限られるものではなく、金属粉末を充填した部分に衝撃
電流を通電して放電爆発させてもよく、また金属電極を
対向した間隙に放電させて電極先端部を溶解飛散させて
微粒子生成を行ってもよい。
また静磁界，移動磁界を形成する装置は任意の構成装置
が利用できるものである。
が利用できるものである。
以上の如く本発明は放電爆発により生成した微粒子と排
気ガス等処理気体とを接触させて処理するに当り、その
接触処理装置に静磁界または流通方向に逆向きの移動磁
界を形成する装置を設けて流通する微粒子等を流速を低
下させ捕捉し、捕捉状態の微粒子と処理すべき気体とを
接触処理するようにしたので微粒子の有効利用が計かれ
、経済的な浄化処理ができ、また微粒子との接触衝突の
繰返回数，時間の増大等触媒的接触効果混合効果によっ
て処理効果，能率等も著しく向上する効果がある。
気ガス等処理気体とを接触させて処理するに当り、その
接触処理装置に静磁界または流通方向に逆向きの移動磁
界を形成する装置を設けて流通する微粒子等を流速を低
下させ捕捉し、捕捉状態の微粒子と処理すべき気体とを
接触処理するようにしたので微粒子の有効利用が計かれ
、経済的な浄化処理ができ、また微粒子との接触衝突の
繰返回数，時間の増大等触媒的接触効果混合効果によっ
て処理効果，能率等も著しく向上する効果がある。
第１図は本発明の一実施例図、第２図は他の実施例であ
る。
る。
Claims (1)
- １ 対向電極間の放電、または金属線材、粉末等に通電
して放電爆発させて微粒子を男成する微粒子生成装置と
、被処理気体を流入せしめ、排気口に向けて流通させな
がら前記生成微粒子と接触させて処理する処理室を設け
た気体の処理装置において、前記処理室に静磁界または
流通方向に逆向きの移動磁界を形成する装置を設けたこ
とを特徴とする気体の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50127759A JPS584563B2 (ja) | 1975-10-23 | 1975-10-23 | キタイノシヨリソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50127759A JPS584563B2 (ja) | 1975-10-23 | 1975-10-23 | キタイノシヨリソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5250971A JPS5250971A (en) | 1977-04-23 |
| JPS584563B2 true JPS584563B2 (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=14967974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50127759A Expired JPS584563B2 (ja) | 1975-10-23 | 1975-10-23 | キタイノシヨリソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584563B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5266874A (en) * | 1975-12-02 | 1977-06-02 | Inoue Japax Res Inc | Equipment for treating gas |
| JP7109311B2 (ja) * | 2018-08-27 | 2022-07-29 | 国立大学法人埼玉大学 | 磁場発生による有害性排ガス処理装置の燃焼炉 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49109261A (ja) * | 1973-02-21 | 1974-10-17 | ||
| AR205883A1 (es) * | 1973-07-05 | 1976-06-15 | Lucero R | Procedimiento y aparato para separar iones presentes en fluidos |
| JPS5615938B2 (ja) * | 1974-03-22 | 1981-04-13 |
-
1975
- 1975-10-23 JP JP50127759A patent/JPS584563B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5250971A (en) | 1977-04-23 |
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