JPS5843518A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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Publication number
JPS5843518A
JPS5843518A JP56141891A JP14189181A JPS5843518A JP S5843518 A JPS5843518 A JP S5843518A JP 56141891 A JP56141891 A JP 56141891A JP 14189181 A JP14189181 A JP 14189181A JP S5843518 A JPS5843518 A JP S5843518A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
shielding plate
shielding
opaque pattern
reticle
Prior art date
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Pending
Application number
JP56141891A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kato
宏 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP56141891A priority Critical patent/JPS5843518A/ja
Publication of JPS5843518A publication Critical patent/JPS5843518A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体集積回路の製造に用いる投影露光装置
に係り、特に遮光板の位置を自動的に設定することが可
能な投影露光装置に関する。
先ず、従来の投影露光装置を、第1図に示す。
同図にお−で、光源1により照明されたレティクル2上
の明暗像10は、レンズ3によって基板4上に投影され
る。ここで、レティクル2上には、第2図に示す様に、
明暗像10の周囲に、遮光用不透明パタン11が描画し
てある。第1図において、光源1の光が明暗像10の外
側から基板4上へ漏れない様に、 遮光用不透パタン1
1に一部分重なる位置に遮光板21を手動で設定する。
さて、明暗像の大きさは、半導体チップ毎に異り、また
、一枚の基板の上に大きさの異る明暗像を描画する場合
もある。従って、従来の投影露光装置においては、明暗
像の大きさの異るレティクルを交換する度に、前記遮光
板の位置を手動で合わせる必要があり、遮光板の位置が
少々ずれるためにわずかな光が前記不透明パタンの外部
と遮光板の間から漏れ、基板上に余分な露光がされる欠
点があつた。基板上には、本来露光されるべき像の光と
漏洩光が混在するため、露光前に漏洩光を確実に検出す
るのは困難であった。
本発明の目的は、このような従来の欠点のない投影露光
装置を提供することにある。
本発明の特徴は、レティクル上の明暗像の周囲に設けた
遮光用不透明パタンの位置を検出する手段と、この不透
明パタンの外部を遮光する遮光板と、遮光板を移動させ
る駆動手段とを備え、この駆動手段により遮光板を移動
させ、その不透明パタンを検出した位置でこの駆動手段
を停止することにより、遮光板により、この不透明パタ
ンの外部を遮光し、かつこの不透明パタンの内部を遮光
しない位置に遮光板の位置を自動的に設定する投影露光
装置にある。
以下1本発明の一実施例について、図面を用いて説明す
る。
本発明による投影露光装置の一実施例を第3図に示す。
本実施例においで、遮光板21は、駆動装置22によっ
て光軸との距離を調節可能である。
さらに、フォトセンサー23が前記駆動装置に設置され
、フォトセンサー23は、遮光板21同時に移動し、光
学的に前記遮光用不透明パタンを検出する。投影露光装
置に用いられるレティクル2は、通常ガラス基板上にク
ロム薄膜を付着してあり、遮光用不透明パタン11の巾
は通常数mmあるので、遮光用不透明パタン11をレテ
ィクル裏面から光学的に検出することは可能である。こ
こで、駆動装置22により遮光板21を光軸から離れた
位置から光源に近づく方向に移動させ、フォトセンサー
23が遮光用不透明パターン11を検出した位置で駆動
装置22を停止する。従って遮光板21とフォトセンサ
ー23の光軸からの距離の関係を一度適切に設定してお
けば、レティクル2を交換して明暗像10の大きさが変
っても、常に適正な位置に遮光板21を自動的に設定す
ることができる。なお、明暗像を基板上に投影露光する
場合には、フォトセンサー23は、光軸から離しておけ
ば、露光のじゃまにならない。
以上説明した様に、本発明によれば、レティクル2を交
換しても、遮光用不透明パタン11の外部からの漏洩光
が基板4に露光される事故を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の投影露光装置の構造を示す原理図、第
2図は、レティクルを示す平面図、第3は、本発明の一
実施例の投影露光装置の構造を示す原理図、である。 なお図において、1……光源、2……レティクル、3…
…レンズ、4……基板、10……明暗像、11……遮光
用不透明パターン、21……遮光板、22……駆動装置
、23……フォトセンサー、である。 代理人 弁理士 内原 晋

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レティクル上の明暗像の周囲に設けた遮光用不透明パタ
    ンの位置を検出する手段と、該遮光用不透明パタンの外
    部を遮光する遮光板と、遮光板を移動させる駆動手段と
    を備え、該駆動手段により前記遮光板を移動させ、前記
    不透明パタンを検出した位置で前記駆動手段を停止する
    ことにより、前記遮光板により、前記不透明パタンの外
    部を遮光し、かつ該不透明パタンの内部を遮光しない位
    置に前記遮光板の位置を自動的に設定することを特徴と
    した投影露光装置。
JP56141891A 1981-09-09 1981-09-09 投影露光装置 Pending JPS5843518A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61151U (ja) * 1984-06-06 1986-01-06 日本電信電話株式会社 縮小投影露光装置
JPS6323318A (ja) * 1987-04-13 1988-01-30 Canon Inc 投影露光装置
JPS6333834A (ja) * 1986-07-28 1988-02-13 Canon Inc 表面状態検査装置

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JPH0142130B2 (ja) * 1987-04-13 1989-09-11 Canon Kk

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