JPS5842773A - 給水給湯方法 - Google Patents
給水給湯方法Info
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- JPS5842773A JPS5842773A JP14055681A JP14055681A JPS5842773A JP S5842773 A JPS5842773 A JP S5842773A JP 14055681 A JP14055681 A JP 14055681A JP 14055681 A JP14055681 A JP 14055681A JP S5842773 A JPS5842773 A JP S5842773A
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- water
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- piping
- water supply
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/167—Phosphorus-containing compounds
- C23F11/1673—Esters of phosphoric or thiophosphoric acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/12—Oxygen-containing compounds
- C23F11/124—Carboxylic acids
- C23F11/126—Aliphatic acids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Domestic Hot-Water Supply Systems And Details Of Heating Systems (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホテル、病院、マンνぢン等の給水給湯方法に
関するもので、特（：給水給湯用配管に銅又は銅合金管
を使用した場合の配管の孔食及び青い水の発生を防止し
たものである。
関するもので、特（：給水給湯用配管に銅又は銅合金管
を使用した場合の配管の孔食及び青い水の発生を防止し
たものである。
近年、ホテル、病院、マンンヨン等の建築物の給水給湯
には淡水環境において優れた耐食性を有する銅又は銅合
金管が給水給湯用配管として広く使用されている。一方
、水道水の需要は年々増加し、水不足がｆ！！！刻化す
るなかで、水質の悪化など外的環境が悪くなり、給水給
湯用配管として使用した銅及び銅合金管（二も時折腐食
によるトラブルが発生している。主なトラブルとしては
孔食による漏水と青い水の発生であり。
には淡水環境において優れた耐食性を有する銅又は銅合
金管が給水給湯用配管として広く使用されている。一方
、水道水の需要は年々増加し、水不足がｆ！！！刻化す
るなかで、水質の悪化など外的環境が悪くなり、給水給
湯用配管として使用した銅及び銅合金管（二も時折腐食
によるトラブルが発生している。主なトラブルとしては
孔食による漏水と青い水の発生であり。
孔食は従来よりその原因が明らかでないため過切な防止
法がなく、また肯い水は給水、給湯中に微量の銅イオン
が溶出し、これが石ケンや人間の分泌物であるアカ等と
反応したり、或いは乾燥濃縮により青い色を呈する物質
を生成するもので、金属材料の宿命として使用する水道
水中に倣轍の銅イオンが溶出するのを防止することはで
きない現象であり、適切な防止法が開発されていｆｃい
。
法がなく、また肯い水は給水、給湯中に微量の銅イオン
が溶出し、これが石ケンや人間の分泌物であるアカ等と
反応したり、或いは乾燥濃縮により青い色を呈する物質
を生成するもので、金属材料の宿命として使用する水道
水中に倣轍の銅イオンが溶出するのを防止することはで
きない現象であり、適切な防止法が開発されていｆｃい
。
本発明はこれに鑑み、給水給湯用銅系配管の孔食につい
て、種々の調査研究の結果、給水給湯中に存在する残留
塩素が銅系配管に孔食を発生させる原因となっているこ
とを知見し、更に研究を重ねた結果、このような孔食発
生を防止するためには銅イオンと安定なキレート化合物
を形成する物質を給水給湯中に添加することが極めて効
果的であり、また、この物質は銅系配管から溶出した歓
量銅イオンと安定なキレート化合物を形成するため青い
水の発生を防止し得ることを知り、本発明給水給湯方法
を開発したもので、受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵
し該水槽から銅系配管により給水給湯する方法において
、銅系配管内を流れる給水給湯中に、人体に無害で鏑イ
オンと安定なキレート化合物を形成する物質を添加する
ことを特徴とするものである。
て、種々の調査研究の結果、給水給湯中に存在する残留
塩素が銅系配管に孔食を発生させる原因となっているこ
とを知見し、更に研究を重ねた結果、このような孔食発
生を防止するためには銅イオンと安定なキレート化合物
を形成する物質を給水給湯中に添加することが極めて効
果的であり、また、この物質は銅系配管から溶出した歓
量銅イオンと安定なキレート化合物を形成するため青い
水の発生を防止し得ることを知り、本発明給水給湯方法
を開発したもので、受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵
し該水槽から銅系配管により給水給湯する方法において
、銅系配管内を流れる給水給湯中に、人体に無害で鏑イ
オンと安定なキレート化合物を形成する物質を添加する
ことを特徴とするものである。
即ち、孔食を発生した給水給湯用銅系配管を調査すると
、銅系配管内面に塩基性硫酸銅（Ｃｕ４８０４（ＯＨ）
、 ）を主成分とする緑青色のコブ状スケールが観察さ
れ、その下にＣｕ２Ｏ，Ｃｕ Ｃ１などを含む腐食孔が
存在する。このことは電気化学的見地から給水給湯中の
銅系配管の自然電位が通常の自然電位より責の方向に移
行したことを示唆している。ところで、近年、我が国に
おいては水鉢の水質が悪化する傾向にあり、水質保全の
ために浄水場における塩素の投入量が多くなっている。
、銅系配管内面に塩基性硫酸銅（Ｃｕ４８０４（ＯＨ）
、 ）を主成分とする緑青色のコブ状スケールが観察さ
れ、その下にＣｕ２Ｏ，Ｃｕ Ｃ１などを含む腐食孔が
存在する。このことは電気化学的見地から給水給湯中の
銅系配管の自然電位が通常の自然電位より責の方向に移
行したことを示唆している。ところで、近年、我が国に
おいては水鉢の水質が悪化する傾向にあり、水質保全の
ために浄水場における塩素の投入量が多くなっている。
また、ホテル、病院、マンシランなどの建築物では給水
給湯兼用の受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵し、これ
を各ｓＩ！又は各部所に供給しているが、衛生上の間融
から受水槽又は高架水槽において二次塩素誠−が行なわ
れる傾向にある。このような状況下では給水給湯用銅系
配管が高濃度の残留塩素にさらされる確率が高くなり、
残留塩素は強力な酸化剤であるため、給水給湯中に存在
すると、−系配管から溶出した銅イオンを酸化すること
になる。
給湯兼用の受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵し、これ
を各ｓＩ！又は各部所に供給しているが、衛生上の間融
から受水槽又は高架水槽において二次塩素誠−が行なわ
れる傾向にある。このような状況下では給水給湯用銅系
配管が高濃度の残留塩素にさらされる確率が高くなり、
残留塩素は強力な酸化剤であるため、給水給湯中に存在
すると、−系配管から溶出した銅イオンを酸化すること
になる。
酸化された銅イオンは銅管内面に酸化物とし°、析出し
、鋼管の自然電位を責な方向に移行させる。給水給湯中
にはＣ１−８σト等のアニオンが存在するため、残留塩
素が存在し、Ｍ管の自然電位が賞な方向に移行すると上
記腐食形態の孔食が発生することになる。
、鋼管の自然電位を責な方向に移行させる。給水給湯中
にはＣ１−８σト等のアニオンが存在するため、残留塩
素が存在し、Ｍ管の自然電位が賞な方向に移行すると上
記腐食形態の孔食が発生することになる。
給水給湯中に存在するｃｌ−、５ｏｌ−等のアニオンを
取り除くことは現実に不可能であり、また残留塩素を取
り除くことも衛生上問題がある。従って、上記過程で発
生する孔食な防止するにはｃｔ−。
取り除くことは現実に不可能であり、また残留塩素を取
り除くことも衛生上問題がある。従って、上記過程で発
生する孔食な防止するにはｃｔ−。
８０ｔ、ａ留塩素等が存在する環境において、銅管の自
然電位が賞な方向に移行する現象を抑制する必要がある
。却ち、Ｃド、５ｏｌ−、残留塩素が存在する給水給湯
環境において、溶出した銅イオンが酸化され、鋼管表面
に酸化物として析出するのを抑制すればよい。このよう
な知見に基づき、更に検討を重さねた結果、銅系配管内
を流れる給水給湯中に人体に無害で銅イオンと安定なキ
レート化合物を形・成する物質を添加すること１二より
、溶出した一イオンを安定なキレート化合物として、そ
の後の反応過程を抑制したものである。給水給湯設備内
に銅イオンと安定なキレート化合物を形成する物質を添
加すると給水給湯中にＣＩ−、ｓｏニー、ａ留塩累が存
在してもｓｍｂた銅イオンは安定なキレート化合物を形
成し、その後の反応過程を抑制し、孔食の発生を防止し
たものである。
然電位が賞な方向に移行する現象を抑制する必要がある
。却ち、Ｃド、５ｏｌ−、残留塩素が存在する給水給湯
環境において、溶出した銅イオンが酸化され、鋼管表面
に酸化物として析出するのを抑制すればよい。このよう
な知見に基づき、更に検討を重さねた結果、銅系配管内
を流れる給水給湯中に人体に無害で銅イオンと安定なキ
レート化合物を形・成する物質を添加すること１二より
、溶出した一イオンを安定なキレート化合物として、そ
の後の反応過程を抑制したものである。給水給湯設備内
に銅イオンと安定なキレート化合物を形成する物質を添
加すると給水給湯中にＣＩ−、ｓｏニー、ａ留塩累が存
在してもｓｍｂた銅イオンは安定なキレート化合物を形
成し、その後の反応過程を抑制し、孔食の発生を防止し
たものである。
また、給水給温設備内に銅イオンと安定なキレート化合
物を形成する物質を添加すると、溶出した鏑イオンは安
定なキレート化合物を形成し、その後の化学反応を抑制
するため、銅イオンが石ケンと反応したり、人間の分泌
物であるアカと反応して庄する肯い水の発生を防止する
ことができる。
物を形成する物質を添加すると、溶出した鏑イオンは安
定なキレート化合物を形成し、その後の化学反応を抑制
するため、銅イオンが石ケンと反応したり、人間の分泌
物であるアカと反応して庄する肯い水の発生を防止する
ことができる。
銅イオンと安定なキレート化合物ｔ−杉成する物質とし
ては、例えば、クエン酸、クエン酸塩如、―石鹸、論石
峻塩−、フィチン酸、フィチン酸塩１１１勢の何終か１
Ｍｉ又は２橘以上用いる。
ては、例えば、クエン酸、クエン酸塩如、―石鹸、論石
峻塩−、フィチン酸、フィチン酸塩１１１勢の何終か１
Ｍｉ又は２橘以上用いる。
これ等の物質は水に＃Ｉ解すると無色透明、無味無臭で
人体１＝無害であり、かつ比較的安価であ以下、本発明
を実施例について説明する。
人体１＝無害であり、かつ比較的安価であ以下、本発明
を実施例について説明する。
実施例（１１
加熱ｉ！Ｉｉｍ及び次亜塩素酸ソーダ溶液注入装置を設
けた貯湯タンクに循環ポンプを取付けた配管腐食試験装
置を４台用い、それぞれ直径２２．２３ｍ内厚０．８１
ｍ、長さ５ＱＱｍｓのりん脱酸鋼管を取り付けて腐食試
験を行なった。４台とも循環水は１日１回新向い水道水
に入れ替え、かつ６０℃に加温し、残留塩素濃度を１〜
２ ｐｐｍに保持し、そのうち３台については循環水を
入れ替える毎にそれぞれクエン酸ソーダ５ｐｐｍ、酒石
酸ソーダ５ｐ陣、フィチン酸ソーダ５ｐｐｍを添加した
。このようにして１ケ月間腐食テストを行なった。
けた貯湯タンクに循環ポンプを取付けた配管腐食試験装
置を４台用い、それぞれ直径２２．２３ｍ内厚０．８１
ｍ、長さ５ＱＱｍｓのりん脱酸鋼管を取り付けて腐食試
験を行なった。４台とも循環水は１日１回新向い水道水
に入れ替え、かつ６０℃に加温し、残留塩素濃度を１〜
２ ｐｐｍに保持し、そのうち３台については循環水を
入れ替える毎にそれぞれクエン酸ソーダ５ｐｐｍ、酒石
酸ソーダ５ｐ陣、フィチン酸ソーダ５ｐｐｍを添加した
。このようにして１ケ月間腐食テストを行なった。
その結果、クエン酸ソーダ、酒石酸ソーダ及びフィチン
酸ソーダを添加しない装置のりん肛酸鋼管の内面には塩
基性硫酸−（ＱＪ４８０４（（）’）ＩＩ ）を主成分
とする緑青色のコブ状スケールが多く観察され、その下
には深さ約ｏ、ｉｓｓの腐食孔が存在した。これに対し
てクエン酸ソーダ、酒石酸ソーダ、フィチン酸ソーダを
添加した各装置のりん脱酸鋼管の内面には何れも腐食は
認められなかった・ 尚、飽和せコウ電極を基準として各装置のりん脱酸細管
の自然電位を測定したところ、クエン酸ソーダ、浩石酸
ソーダ、フィチン酸ソーダを添加しない装置では＋２０
０ｆｎｖまで上昇したが、クエン酸ソーダ、酒石酸ソー
ダ、フィチン酸ソーダ添加した装置では、何れの場合も
＋５Ｑｍｖを越えることがなかった。
酸ソーダを添加しない装置のりん肛酸鋼管の内面には塩
基性硫酸−（ＱＪ４８０４（（）’）ＩＩ ）を主成分
とする緑青色のコブ状スケールが多く観察され、その下
には深さ約ｏ、ｉｓｓの腐食孔が存在した。これに対し
てクエン酸ソーダ、酒石酸ソーダ、フィチン酸ソーダを
添加した各装置のりん脱酸鋼管の内面には何れも腐食は
認められなかった・ 尚、飽和せコウ電極を基準として各装置のりん脱酸細管
の自然電位を測定したところ、クエン酸ソーダ、浩石酸
ソーダ、フィチン酸ソーダを添加しない装置では＋２０
０ｆｎｖまで上昇したが、クエン酸ソーダ、酒石酸ソー
ダ、フィチン酸ソーダ添加した装置では、何れの場合も
＋５Ｑｍｖを越えることがなかった。
実施例（２）
水道水１００ｄをビーカーに取り、硫酸銅溶液を用いて
Ｃｕ ４ｐ ２を添加し、苛性ソーダによりＰＨを調整
した後ろ過した。その結果孔を８に調整すると、Ｃｕ”
＋を２ｐｐａｎ以上添加しｆ場合には青い色を呈する物
質がろ紙上に検出され、またＰＨを９及びｌＯに調整す
ると、Ｃｕ を１．５９日目ｍ以上添加した場合には
青い色を呈する物質がろ紙上に検出された。
Ｃｕ ４ｐ ２を添加し、苛性ソーダによりＰＨを調整
した後ろ過した。その結果孔を８に調整すると、Ｃｕ”
＋を２ｐｐａｎ以上添加しｆ場合には青い色を呈する物
質がろ紙上に検出され、またＰＨを９及びｌＯに調整す
ると、Ｃｕ を１．５９日目ｍ以上添加した場合には
青い色を呈する物質がろ紙上に検出された。
これに対し、Ｃｕ”を添加する前にフィチン酸ソーダを
５ｐｐｍ＠加したところ、■を８．９及び１０に調整し
ても添加したＣｕ が５ｐｐｍ以下であれば青い色を
呈する物質は検出されなかった。
５ｐｐｍ＠加したところ、■を８．９及び１０に調整し
ても添加したＣｕ が５ｐｐｍ以下であれば青い色を
呈する物質は検出されなかった。
また、フィチン酸ソーダの代りにクエン酸ソーダ或いは
酒石酸ソーダを用いたところ、全く同軸の結果が得られ
た。
酒石酸ソーダを用いたところ、全く同軸の結果が得られ
た。
実施例（３）
給湯用配管として細管を使用した某ホテルにおいて、使
用後約６ケ目に漏洩事故が発生した。
用後約６ケ目に漏洩事故が発生した。
この漏洩事故を越した銅配管の十数個所より抜管して調
査したところ何れも管内面に孔食が発生しており、腐食
孔の一部は管外面まで貫通ししていた。抜管した部分に
新しい鋼管を取付け、防食対策として受水槽にフィチン
酸ソーダを１２２ｍ７日添加した。１年経過後新しく取
付けた一管の一部を調査したが、孔食の発生は認められ
なかった。また、このホテルでは、その後漏水事故が発
生していない。
査したところ何れも管内面に孔食が発生しており、腐食
孔の一部は管外面まで貫通ししていた。抜管した部分に
新しい鋼管を取付け、防食対策として受水槽にフィチン
酸ソーダを１２２ｍ７日添加した。１年経過後新しく取
付けた一管の一部を調査したが、孔食の発生は認められ
なかった。また、このホテルでは、その後漏水事故が発
生していない。
実施例（４）
給湯用配管として銅管な使用した某ホテルにおいて、使
用後約６ケ月目に浴湯のカーテンが青く着色する現象が
認められた。同ホテルの受水槽の水道水は当時ＰＨ１，
５前後であった。青い水が発生した給湯水５００−を採
取し、苛性ソーダでＰＨを９Ｃ；調整してろ過したとこ
ろ、ろ紙上（二青い色を呈する物質が検出された。そこ
で、青い水の発生防止対策として受水槽にフィチン酸ソ
ーダを１１）Ｉ）ｍ／日添加した。フィチン酸ソーダを
添加し始めてから７日目（−同一浴場の給湯水５００−
を採取し、苛性ソーダでＰＨを９に調整したのちろ過し
たが、青い色を呈する物質は検出されなかった。また、
同ホテルではその後青い水の問題は発生していない。
用後約６ケ月目に浴湯のカーテンが青く着色する現象が
認められた。同ホテルの受水槽の水道水は当時ＰＨ１，
５前後であった。青い水が発生した給湯水５００−を採
取し、苛性ソーダでＰＨを９Ｃ；調整してろ過したとこ
ろ、ろ紙上（二青い色を呈する物質が検出された。そこ
で、青い水の発生防止対策として受水槽にフィチン酸ソ
ーダを１１）Ｉ）ｍ／日添加した。フィチン酸ソーダを
添加し始めてから７日目（−同一浴場の給湯水５００−
を採取し、苛性ソーダでＰＨを９に調整したのちろ過し
たが、青い色を呈する物質は検出されなかった。また、
同ホテルではその後青い水の問題は発生していない。
このように、本発明方法によれは、給水給湯中に残留塩
素が存在しても、銅系配管の自然電位が責な方向に移行
することなく、銅系配管内に発生する孔食を防止し、ま
た溶出した微量の銅イオンを安定なキレート化合物とし
て石ケンや人間の分泌物であるアカなどと反応して青い
色を呈する物質の生成を防止することができる融着な効
果を奏するものである。
素が存在しても、銅系配管の自然電位が責な方向に移行
することなく、銅系配管内に発生する孔食を防止し、ま
た溶出した微量の銅イオンを安定なキレート化合物とし
て石ケンや人間の分泌物であるアカなどと反応して青い
色を呈する物質の生成を防止することができる融着な効
果を奏するものである。
手続補正書（自発）
昭和５７年８月３日
１、 ◆件の表示
昭和５６年特許願第１４０５５６号
２、発明の名称
給水給湯方法
３、補正をする者
串、件との関係 特許出願人
住 所 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号名
称 （５２９） 古河龜気工業株式会社４代理人 住 所 東京都千代田区神田北乗物町１６番地９−
０１ 英 ビ ル ３ 階補正の内容 １、 発明の詳細な説明Ｃおいて、下記事項を訂正する
。
称 （５２９） 古河龜気工業株式会社４代理人 住 所 東京都千代田区神田北乗物町１６番地９−
０１ 英 ビ ル ３ 階補正の内容 １、 発明の詳細な説明Ｃおいて、下記事項を訂正する
。
＋ｌ＋ 明細書第８頁第７行〜第８行に「フィチン酸
ソーダ添加」とあるな［フィチン酸ソーダを添加」と訂
正する。
ソーダ添加」とあるな［フィチン酸ソーダを添加」と訂
正する。
（２）同第９頁第２行に「ｐＨ１，５ＪとあるをｒＰＨ
６，５Ｊと訂正する。
６，５Ｊと訂正する。
Claims (3)
- （１） 受水槽又は高架水槽ζ＝水道水を貯蔵し、該
水槽から銅系配管Ｃ；より給水給湯する方法において、
銅系配管内を流れる給水給湯中に人体に無害で銅イオン
と安定なキレート化合物を形成する物質を添加すること
を特徴とする給水給湯方法。 - （２） 人体に無害で銅イオンと安定なキレート化合
物を形成する物質を受水槽又は高架水槽あるいは貯湯槽
内の水道水中４＝添加する特許請求の範囲第１項記載の
給水給湯方法。 - （３）人体に無害で銅イオンと安定なキレート化合物を
形成する物質としてクエン酸、クエン酸塩類、酒石酸、
酒石酸塩類、フィチン酸、フィチン酸塩類の何れか１種
又は２Ｎ以上を用いる特許請求の範囲１１１項又は１８
２項記載の給水給湯方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055681A JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055681A JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842773A true JPS5842773A (ja) | 1983-03-12 |
| JPH02435B2 JPH02435B2 (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15271421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14055681A Granted JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842773A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58115231A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 給水給湯方法 |
| JPS63180128U (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-21 | ||
| US5211868A (en) * | 1990-08-23 | 1993-05-18 | Cargill, Incorporated | Dihydrogen orthophosphate deicing composition |
| US5302307A (en) * | 1990-08-23 | 1994-04-12 | Cargill, Incorporated | Liquid anticorrosive and antiscaling deicing composition |
| ES2272191A1 (es) * | 2005-10-14 | 2007-04-16 | Universitat De Les Illes Balears | Utilizacion del fitato para el tratamiento del agua. |
| JP2008240073A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラの防食方法 |
| JP2012201969A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | 銅系部材の孔食停止方法及び孔食停止剤 |
Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS52146739A (en) * | 1976-06-02 | 1977-12-06 | Kurita Industrial Co Ltd | Anticorrosive for metals |
-
1981
- 1981-09-07 JP JP14055681A patent/JPS5842773A/ja active Granted
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|---|---|
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