JPH02435B2 - - Google Patents
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- JPH02435B2 JPH02435B2 JP56140556A JP14055681A JPH02435B2 JP H02435 B2 JPH02435 B2 JP H02435B2 JP 56140556 A JP56140556 A JP 56140556A JP 14055681 A JP14055681 A JP 14055681A JP H02435 B2 JPH02435 B2 JP H02435B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/167—Phosphorus-containing compounds
- C23F11/1673—Esters of phosphoric or thiophosphoric acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/12—Oxygen-containing compounds
- C23F11/124—Carboxylic acids
- C23F11/126—Aliphatic acids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Domestic Hot-Water Supply Systems And Details Of Heating Systems (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はホテル、病院、マンシヨン等の給水給
湯方法に関するもので、特に給水給湯用配管に銅
又は銅合金管を使用した場合の配管の孔食及び青
い水の発生を防止したものである。
湯方法に関するもので、特に給水給湯用配管に銅
又は銅合金管を使用した場合の配管の孔食及び青
い水の発生を防止したものである。
近年、ホテル、病院、マンシヨン等の建築物の
給水給湯には淡水環境において優れた耐食性を有
する銅又は銅合金管が給水給湯用配管として広く
使用されている。一方、水道水の需要は年々増加
し、水不足が深刻化するなかで、水質の悪化など
外的還境が悪くなり、給水給湯用配管として使用
した銅又は銅合金管にも時折腐食によるトラブル
が発生している。主なトラブルとしては孔食によ
る漏水と青い水の発生であり、孔食は従来よりそ
の原因が明らかでないため適切な防止法がなく、
また青い水は給水給湯中に微量の銅イオンが溶出
し、これが石ケンや人間の分泌物であるアカ等と
反応したり、或いは乾燥濃縮により青い色を呈す
る物質を生成するもので、金属材料の宿命として
使用する水道水中に微量の銅イオンが溶出するの
を防止することができない現象であり、適切な防
止法が開発されていない。
給水給湯には淡水環境において優れた耐食性を有
する銅又は銅合金管が給水給湯用配管として広く
使用されている。一方、水道水の需要は年々増加
し、水不足が深刻化するなかで、水質の悪化など
外的還境が悪くなり、給水給湯用配管として使用
した銅又は銅合金管にも時折腐食によるトラブル
が発生している。主なトラブルとしては孔食によ
る漏水と青い水の発生であり、孔食は従来よりそ
の原因が明らかでないため適切な防止法がなく、
また青い水は給水給湯中に微量の銅イオンが溶出
し、これが石ケンや人間の分泌物であるアカ等と
反応したり、或いは乾燥濃縮により青い色を呈す
る物質を生成するもので、金属材料の宿命として
使用する水道水中に微量の銅イオンが溶出するの
を防止することができない現象であり、適切な防
止法が開発されていない。
本発明はこれに鑑み、給水給湯用銅系配管の孔
食について、種々の調査研究の結果、給水給湯中
に存在する残留塩素が銅系配管に孔食を発生させ
る原因となつていることを知見し、更に研究を重
ねた結果、このような孔食発生を防止するために
はフイチン酸を給水給湯中に添加することが極め
て効果的であり、また、この物質は銅系配管から
溶出した微量銅イオンと安定なキレート化合物を
形成するため青い水の発生を防止し得ることを知
り、本発明給水給湯方法を開発したもので、受水
槽又は高架水槽に水道水を貯蔵し、該水槽から銅
系配管により給水給湯する方法において、銅系配
管内を流れる給水給湯中に、フイチン酸を1.0〜
10ppm添加することを特徴とするものである。
食について、種々の調査研究の結果、給水給湯中
に存在する残留塩素が銅系配管に孔食を発生させ
る原因となつていることを知見し、更に研究を重
ねた結果、このような孔食発生を防止するために
はフイチン酸を給水給湯中に添加することが極め
て効果的であり、また、この物質は銅系配管から
溶出した微量銅イオンと安定なキレート化合物を
形成するため青い水の発生を防止し得ることを知
り、本発明給水給湯方法を開発したもので、受水
槽又は高架水槽に水道水を貯蔵し、該水槽から銅
系配管により給水給湯する方法において、銅系配
管内を流れる給水給湯中に、フイチン酸を1.0〜
10ppm添加することを特徴とするものである。
即ち、孔食を発生した給水給湯用銅系配管を調
査すると、銅系配管内面に塩基性硫酸銅〔Cu4
SO4（OH）6〕を主成分とする緑青色のコブ状スケ
ールが観察され、その下にCu2O、CuClなどを含
む腐食孔が存在する。このことは電気化学的見地
から給水給湯中の銅系配管の自然電位が通常の自
然電位より貴の方向に移行したことを示唆してい
る。
査すると、銅系配管内面に塩基性硫酸銅〔Cu4
SO4（OH）6〕を主成分とする緑青色のコブ状スケ
ールが観察され、その下にCu2O、CuClなどを含
む腐食孔が存在する。このことは電気化学的見地
から給水給湯中の銅系配管の自然電位が通常の自
然電位より貴の方向に移行したことを示唆してい
る。
ところで、近年、我が国においては水源の水質
が悪化する傾向にあり、水質保全のために浄水場
における塩素の投入量が多くなつている。また、
ホテル、病院、マンシヨンなどの建築物では給水
給湯兼用の受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵
し、これを各部屋又は各部所に供給しているが、
衛生上の問題から受水槽又は高架水槽において二
次塩素滅菌が行なわれる傾向にある。このような
状況下では給水給湯用銅系配管が高濃度の残留塩
素にさらされる確率が高くなり、残留塩素は強力
な酸化剤であるため、給水給湯中に存在すると、
銅系配管から溶出した銅イオンを酸化することに
なる。酸化された銅イオンは銅管内面に酸化物と
して析出し、銅管の自然電位を貴の方向に移行さ
せる。給水給湯中にはCl-、SO2- 4等のアニオンが
存在するため、残留塩素が存在し、銅管の自然電
位が貴な方向に移行すると上記腐食形態の孔食が
発生することになる。
が悪化する傾向にあり、水質保全のために浄水場
における塩素の投入量が多くなつている。また、
ホテル、病院、マンシヨンなどの建築物では給水
給湯兼用の受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵
し、これを各部屋又は各部所に供給しているが、
衛生上の問題から受水槽又は高架水槽において二
次塩素滅菌が行なわれる傾向にある。このような
状況下では給水給湯用銅系配管が高濃度の残留塩
素にさらされる確率が高くなり、残留塩素は強力
な酸化剤であるため、給水給湯中に存在すると、
銅系配管から溶出した銅イオンを酸化することに
なる。酸化された銅イオンは銅管内面に酸化物と
して析出し、銅管の自然電位を貴の方向に移行さ
せる。給水給湯中にはCl-、SO2- 4等のアニオンが
存在するため、残留塩素が存在し、銅管の自然電
位が貴な方向に移行すると上記腐食形態の孔食が
発生することになる。
給水給湯中に存在するCl-、SO2- 4等のアニオン
を取り除くことは現実に不可能であり、また残留
塩素を取り除くことも衛生上問題がある。従つ
て、上記過程で発生する孔食を防止するにはCl-、
SO2- 4、残留塩素が存在する還境において、銅管
の自然電位が貴な方向に移行するる現象を抑制す
る必要がある。即ち、Cl-、SO2- 4、残留塩素が存
在する給水給湯環境において、溶出した銅イオン
が酸化され、銅管表面に酸化物として析出するの
を抑制すればよい。このような知見に基づき、更
に検討を重さねた結果、銅系配管内を流れる給水
給湯中に人体に無害で銅系イオンと安定なキレー
ト化合物を形成するフイチン酸を1.0〜10ppm添
加することにより、溶出した銅イオンを安定なキ
レート化合物として、その後の反応過程を抑制し
たものである。給水給湯設備内にフイチン酸を添
加すると給水給湯中にCl-、SO2- 4、残留塩素が存
在しても溶出した銅イオンは安定なキレート化合
物を形成し、その後の反応過程を抑制し、孔食の
発生を防止したものである。
を取り除くことは現実に不可能であり、また残留
塩素を取り除くことも衛生上問題がある。従つ
て、上記過程で発生する孔食を防止するにはCl-、
SO2- 4、残留塩素が存在する還境において、銅管
の自然電位が貴な方向に移行するる現象を抑制す
る必要がある。即ち、Cl-、SO2- 4、残留塩素が存
在する給水給湯環境において、溶出した銅イオン
が酸化され、銅管表面に酸化物として析出するの
を抑制すればよい。このような知見に基づき、更
に検討を重さねた結果、銅系配管内を流れる給水
給湯中に人体に無害で銅系イオンと安定なキレー
ト化合物を形成するフイチン酸を1.0〜10ppm添
加することにより、溶出した銅イオンを安定なキ
レート化合物として、その後の反応過程を抑制し
たものである。給水給湯設備内にフイチン酸を添
加すると給水給湯中にCl-、SO2- 4、残留塩素が存
在しても溶出した銅イオンは安定なキレート化合
物を形成し、その後の反応過程を抑制し、孔食の
発生を防止したものである。
また、給水給湯設備内にフイチン酸を添加する
と、溶出した銅イオンは安定なキレート化合物を
形成し、その後の化学反応を抑制するため、銅イ
オンが石ケンと反応したり、人間の分泌物である
アカと反応して生ずる青い水の発生を防止するこ
とができる。フイチン酸は水に溶解すると無色透
明、無味無臭で人体に無害であり、かつ比較的安
価である。
と、溶出した銅イオンは安定なキレート化合物を
形成し、その後の化学反応を抑制するため、銅イ
オンが石ケンと反応したり、人間の分泌物である
アカと反応して生ずる青い水の発生を防止するこ
とができる。フイチン酸は水に溶解すると無色透
明、無味無臭で人体に無害であり、かつ比較的安
価である。
しかしてフイチン酸の添加量を1.0〜10ppmと
限定したのは、添加量が1.0ppm未満では十分な
効果が得られず、10ppmを越えると給水給湯のPH
が6.0以下となる可能性があり、銅管の耐食性の
面から好ましくないためである。
限定したのは、添加量が1.0ppm未満では十分な
効果が得られず、10ppmを越えると給水給湯のPH
が6.0以下となる可能性があり、銅管の耐食性の
面から好ましくないためである。
以下本発明を実施例について説明する。
実施例 １
加熱装置及び次亜塩素酸ソーダ溶液注入装置を
設けた貯湯タンクに循環ポンプを取付けた配管腐
食試験装置を２台用い、それぞれ直径22.23mm、
肉厚0.81mm、長さ500mmのりん脱酸銅管を取り付
けて腐食試験を行なつた。２台とも循環水は１日
１回新しい水道水に入れ替え、かつ60℃に加温
し、残留塩素濃度を１〜2ppmに保持し、そのう
ち１台については循環水を入れ替える毎にフイチ
ン酸5ppmを添加した。このようにして１ケ月間
腐食テストを行なつた。
設けた貯湯タンクに循環ポンプを取付けた配管腐
食試験装置を２台用い、それぞれ直径22.23mm、
肉厚0.81mm、長さ500mmのりん脱酸銅管を取り付
けて腐食試験を行なつた。２台とも循環水は１日
１回新しい水道水に入れ替え、かつ60℃に加温
し、残留塩素濃度を１〜2ppmに保持し、そのう
ち１台については循環水を入れ替える毎にフイチ
ン酸5ppmを添加した。このようにして１ケ月間
腐食テストを行なつた。
その結果、フイチン酸を添加しない装置のりん
脱酸銅管の内面には塩基性硫酸銅〔Cu4SO4
（OH）6〕を主成分とする緑青色のコブ状スケー
ルが多く観察され、その下には深さ約0.1mmの腐
食孔が存在した。これに対してフイチン酸を添加
した装置のりん脱酸銅管の内面には腐食は認めら
れなかつた。
脱酸銅管の内面には塩基性硫酸銅〔Cu4SO4
（OH）6〕を主成分とする緑青色のコブ状スケー
ルが多く観察され、その下には深さ約0.1mmの腐
食孔が存在した。これに対してフイチン酸を添加
した装置のりん脱酸銅管の内面には腐食は認めら
れなかつた。
尚、飽和甘コウ電極を基準として各装置のりん
脱酸銅管の自然電位を測定したところ、フイチン
酸を添加しない装置では＋200ｍｖまで上昇した
が、フイチン酸を添加した装置では、何れの場合
も＋50ｍｖを越えることがなかつた。
脱酸銅管の自然電位を測定したところ、フイチン
酸を添加しない装置では＋200ｍｖまで上昇した
が、フイチン酸を添加した装置では、何れの場合
も＋50ｍｖを越えることがなかつた。
実施例 ２
水道水100mlをビーカーに取り、硫酸銅溶液を
用いてCu2+を添加し、苛性ソーダによりPHを調
整した後ろ過した。その結果PHを８に調整する
と、Cu2 +を2ppm以上添加した場合には青い色を
呈する物質がろ紙上に検出され、またPHを９及び
10に調整すると、Cu2+を1.5ppm以上添加した場
合には青い色を呈する物質がろ紙上に検出され
た。
用いてCu2+を添加し、苛性ソーダによりPHを調
整した後ろ過した。その結果PHを８に調整する
と、Cu2 +を2ppm以上添加した場合には青い色を
呈する物質がろ紙上に検出され、またPHを９及び
10に調整すると、Cu2+を1.5ppm以上添加した場
合には青い色を呈する物質がろ紙上に検出され
た。
これに対し、Cu2 +を添加する前にフイチン酸
を5ppm添加したところ、PHを８、９及び10に調
整しても添加したCu2 +が5ppm以下であれば青い
色を呈する物質は検出されなかつた。
を5ppm添加したところ、PHを８、９及び10に調
整しても添加したCu2 +が5ppm以下であれば青い
色を呈する物質は検出されなかつた。
実施例 ３
給湯用配管として銅管を使用した某ホテルにお
いて、使用後約４年目に漏洩事故が発生した。こ
の漏洩事故を起した銅配管の十数個より抜管して
調査したところ何れも管内面に孔食が発生してお
り、腐触孔の一部は管外面まで貫通していた。抜
管した部分に新しい銅管を取付け、防食対策とし
て受水槽にフイチン酸を1ppm／日添加した。１
年経過後新しく取付けた銅管の一部を調査した
が、孔食の発生は認められなかつた。また、この
ホテルでは、その後漏水事故が発生していない。
いて、使用後約４年目に漏洩事故が発生した。こ
の漏洩事故を起した銅配管の十数個より抜管して
調査したところ何れも管内面に孔食が発生してお
り、腐触孔の一部は管外面まで貫通していた。抜
管した部分に新しい銅管を取付け、防食対策とし
て受水槽にフイチン酸を1ppm／日添加した。１
年経過後新しく取付けた銅管の一部を調査した
が、孔食の発生は認められなかつた。また、この
ホテルでは、その後漏水事故が発生していない。
実施例 ４
給湯用配管として銅管を使用した某ホテルにお
いて、使用後約６ケ月目に浴場のカーテンが青く
着色する現象が認められた。同ホテルの受水槽の
水道水は当時PH6.5前後であつた。青い水が発生
した給湯水500mlを採取し、塔性ソーダでPHを９
に調整してろ過したところ、ろ紙上に青い色を呈
する物質が検出された。そこで、青い水の発生防
止対策として受水槽にフイチン酸を1ppm／日添
加した。フイチン酸を添加し始めてから７日目に
同一浴場の給湯水500mlを採取し、苛性ソーダで
PHを９に調整したのちろ過したが、青い色を呈す
る物質は検出されなかつた。また、同ホテルでは
その後青い水の問題は発生していない。
いて、使用後約６ケ月目に浴場のカーテンが青く
着色する現象が認められた。同ホテルの受水槽の
水道水は当時PH6.5前後であつた。青い水が発生
した給湯水500mlを採取し、塔性ソーダでPHを９
に調整してろ過したところ、ろ紙上に青い色を呈
する物質が検出された。そこで、青い水の発生防
止対策として受水槽にフイチン酸を1ppm／日添
加した。フイチン酸を添加し始めてから７日目に
同一浴場の給湯水500mlを採取し、苛性ソーダで
PHを９に調整したのちろ過したが、青い色を呈す
る物質は検出されなかつた。また、同ホテルでは
その後青い水の問題は発生していない。
このように、本発明方法によれば、給水給湯中
に残留塩素が存在しても、銅系配管の自然電位が
貴な方向に移行することなく、銅系配管内に発生
する孔食を防止し、また溶出した微量の銅イオン
を安定なキレート化合物として石ケンや人間の分
泌物であるアカなどと反応して青い色を呈する物
質の生成を防止することができる顕著な効果を奏
するものである。
に残留塩素が存在しても、銅系配管の自然電位が
貴な方向に移行することなく、銅系配管内に発生
する孔食を防止し、また溶出した微量の銅イオン
を安定なキレート化合物として石ケンや人間の分
泌物であるアカなどと反応して青い色を呈する物
質の生成を防止することができる顕著な効果を奏
するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 受水槽又は高架水槽に水道水を貯蔵し、該水
槽から銅系配管により給水給湯する方法におい
て、銅系配管内を流れる給水給湯中にフイチン酸
を1.0〜10ppm添加することを特徴とする給水給
湯方法。 ２ フイチン酸を受水槽又は高架水槽あるいは貯
湯槽内の水道水に添加する特許請求の範囲第１項
記載の給水給湯方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055681A JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055681A JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842773A JPS5842773A (ja) | 1983-03-12 |
| JPH02435B2 true JPH02435B2 (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15271421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14055681A Granted JPS5842773A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | 給水給湯方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842773A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58115231A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 給水給湯方法 |
| JPH0421619Y2 (ja) * | 1987-05-07 | 1992-05-18 | ||
| US5211868A (en) * | 1990-08-23 | 1993-05-18 | Cargill, Incorporated | Dihydrogen orthophosphate deicing composition |
| CA2049723C (en) * | 1990-08-23 | 2003-08-19 | Donald T. Ireland | Liquid anticorrosive and antiscaling deicing composition |
| ES2272191B1 (es) * | 2005-10-14 | 2008-04-01 | Universitat De Les Illes Balears | Utilizacion del fitato para el tratamiento del agua. |
| JP5066972B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2012-11-07 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法 |
| JP5849417B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2016-01-27 | 栗田工業株式会社 | 銅系部材の孔食停止方法及び孔食停止剤 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52146739A (en) * | 1976-06-02 | 1977-12-06 | Kurita Industrial Co Ltd | Anticorrosive for metals |
-
1981
- 1981-09-07 JP JP14055681A patent/JPS5842773A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52146739A (en) * | 1976-06-02 | 1977-12-06 | Kurita Industrial Co Ltd | Anticorrosive for metals |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5842773A (ja) | 1983-03-12 |
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