JPS5840521Y2 - ビ−ム直進形マイクロ波管装置 - Google Patents
ビ−ム直進形マイクロ波管装置Info
- Publication number
- JPS5840521Y2 JPS5840521Y2 JP12102577U JP12102577U JPS5840521Y2 JP S5840521 Y2 JPS5840521 Y2 JP S5840521Y2 JP 12102577 U JP12102577 U JP 12102577U JP 12102577 U JP12102577 U JP 12102577U JP S5840521 Y2 JPS5840521 Y2 JP S5840521Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annular
- tube device
- microwave tube
- shim
- envelope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Microwave Tubes (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案はビーム直進形マイクロ波管装置の改良に関す
る。
る。
一般にビーム直進形マイクロ波管装置例えば進行波管装
置においては、電子銃から放射された電子ビームを集束
するために磁界を用いているが、主として中出力以下の
螺旋形進行波管には極性の異る環状磁石を重ね合わせる
ことによって生ずる周期的磁界を用いている。
置においては、電子銃から放射された電子ビームを集束
するために磁界を用いているが、主として中出力以下の
螺旋形進行波管には極性の異る環状磁石を重ね合わせる
ことによって生ずる周期的磁界を用いている。
これはコイルによる磁界に比べ、小形にして消費電力を
要しない利点があり、一種の短焦点磁気レンズを形成し
、電子ビームの発散を防いでいる。
要しない利点があり、一種の短焦点磁気レンズを形成し
、電子ビームの発散を防いでいる。
このような進行波管装置の要部を示すと、従来、第１図
のようになり、進行波管の外囲器１の外周には複数の環
状シム２が軸方向に所定間隔で並設され、この各環状シ
ム２間に環状磁石３が配設されている。
のようになり、進行波管の外囲器１の外周には複数の環
状シム２が軸方向に所定間隔で並設され、この各環状シ
ム２間に環状磁石３が配設されている。
この場合、両端の環状シム（図示せず）は断面り字形に
形成され、両端以外の環状シム２は図からも明らかなよ
うに断面丁字形に形成されており、約２０個使用してい
る。
形成され、両端以外の環状シム２は図からも明らかなよ
うに断面丁字形に形成されており、約２０個使用してい
る。
ところで上記のような従来の進行波管装置においては環
状シム２と環状磁石３の機械製作上の精度で軸上中心磁
界分布が固定され、精度誤差による磁界分布の修正が困
難である。
状シム２と環状磁石３の機械製作上の精度で軸上中心磁
界分布が固定され、精度誤差による磁界分布の修正が困
難である。
そして環状シム２及び環状磁石３の磁気抵抗を変化させ
ることによる軸上中心磁界を可変することができず、こ
れにより、電子ビーム透過・集束は進行波管の軸上機械
精度に左右される。
ることによる軸上中心磁界を可変することができず、こ
れにより、電子ビーム透過・集束は進行波管の軸上機械
精度に左右される。
又、環状シム２と環状磁石３を組み合せる際、環状磁石
３が同極のため反発作用を起して外れたり、環状シム２
の位置が不安定となって外囲器１への環状磁石３の組込
みが困難という欠点がある。
３が同極のため反発作用を起して外れたり、環状シム２
の位置が不安定となって外囲器１への環状磁石３の組込
みが困難という欠点がある。
この考案は上記従来の欠点を除去したもので、環状シム
及び電子ビーム集束用環状磁石を遅波回路外囲器の軸上
任意の位置に可変固定し、磁気抵抗の変化によって生じ
る電子ビーム集束と、電子ビームと電磁波の相互作用を
良好にするビーム直進形マイクロ波管装置を提供するこ
とを目的とする。
及び電子ビーム集束用環状磁石を遅波回路外囲器の軸上
任意の位置に可変固定し、磁気抵抗の変化によって生じ
る電子ビーム集束と、電子ビームと電磁波の相互作用を
良好にするビーム直進形マイクロ波管装置を提供するこ
とを目的とする。
以下、図面を参照してこの考案の一実施゛例を詳細に説
明する。
明する。
ビーム直進形マイクｂ波管装置として進行波管装置を例
にとれば、この考案は第２図及び第３図に示すように構
成される。
にとれば、この考案は第２図及び第３図に示すように構
成される。
即ち、従来例と同一個所は同一符号を付すことにすると
、進行波管の遅波回路外囲器１の外周には複数の環状シ
ム２が軸方向に所定間隔で並設され、この各環状シム２
間にはそれぞれ環状磁石３が配設されている。
、進行波管の遅波回路外囲器１の外周には複数の環状シ
ム２が軸方向に所定間隔で並設され、この各環状シム２
間にはそれぞれ環状磁石３が配設されている。
この場合、外囲器１の外周及び環状シム２の内周にはそ
れぞれねじ溝４，５が刻設されており、環状シム２を回
転させることにより、環状シム２は軸方向に移動自在と
なっている。
れぞれねじ溝４，５が刻設されており、環状シム２を回
転させることにより、環状シム２は軸方向に移動自在と
なっている。
環状シム２が移動自在ということは、勿論、環状磁石３
も軸方向に移動自在ということである。
も軸方向に移動自在ということである。
更に、この考案では環状シム２に管軸にほぼ垂直な面で
且つ円周方向に切込み６を設け、スプリング作用を生じ
させている。
且つ円周方向に切込み６を設け、スプリング作用を生じ
させている。
この考案のビーム直進形マイクロ波管装置（進行波管装
置）は、上記説明及び図示のように構成され、外囲器１
の外周及び環状シム２の内周にそれぞれねじ溝４，５を
設けているので外囲器１の任意の位置に環状シム２を固
定することができる。
置）は、上記説明及び図示のように構成され、外囲器１
の外周及び環状シム２の内周にそれぞれねじ溝４，５を
設けているので外囲器１の任意の位置に環状シム２を固
定することができる。
即ち、環状シム２を環状磁石３と良く密着した状態で円
周方向に回転させ、軸方向に外囲器１外周上を任意に位
置を変えると集束磁界分布も変えることができる。
周方向に回転させ、軸方向に外囲器１外周上を任意に位
置を変えると集束磁界分布も変えることができる。
更に環状シム２を円周方向に回転させ、環状磁石３との
間に間隙を設け、この間隙を環状シム２で調整すると磁
気抵抗を可変することができ、軸上中心磁界をも変える
ことができる。
間に間隙を設け、この間隙を環状シム２で調整すると磁
気抵抗を可変することができ、軸上中心磁界をも変える
ことができる。
このようにこの考案では、簡単な方法で磁気抵抗をも微
調整可能とし、部品精度誤差による磁界強度のバラツキ
をなくして良好な電子ビーム集束、電磁波と電子ビーム
との相互作用が得られるという利点がある。
調整可能とし、部品精度誤差による磁界強度のバラツキ
をなくして良好な電子ビーム集束、電磁波と電子ビーム
との相互作用が得られるという利点がある。
更に、この考案では、環状シム２に切込み６を設けてス
プリング作用を生じさせている。
プリング作用を生じさせている。
従って、磁気抵抗の可変の場合は環状シム２を回転させ
、又、切込み６のスプリング作用により、磁気抵抗の微
調整も可能である。
、又、切込み６のスプリング作用により、磁気抵抗の微
調整も可能である。
即ち、シム２を回転して軸方向に移動すれば、シム２に
設けた切込み６の間隙寸法が変化し、このシム２を通っ
て管軸方向に導かれる磁力線に対する磁気抵抗を変える
ことができ、従って、管軸上の周期磁界の周期幅及び磁
界強度の値を微細に調整することができる。
設けた切込み６の間隙寸法が変化し、このシム２を通っ
て管軸方向に導かれる磁力線に対する磁気抵抗を変える
ことができ、従って、管軸上の周期磁界の周期幅及び磁
界強度の値を微細に調整することができる。
ちなみに進行波管においては、切込み６の間隙寸法がＱ
、０５ｍｍ以上の微調整が実用上必要な値であり、シム
２の板厚に対して極めて僅かの寸法の可変範囲で十分で
ある。
、０５ｍｍ以上の微調整が実用上必要な値であり、シム
２の板厚に対して極めて僅かの寸法の可変範囲で十分で
ある。
以上説明したようにこの考案によれば、実用的価値大な
るビーム直進形マイクロ波管装置を提供することができ
る。
るビーム直進形マイクロ波管装置を提供することができ
る。
第１図ａ、ｌ）は従来のビーム直進形マイクロ波管装置
（進行波管装置）の要部を示す断面図と側面図、第２図
はこの考案の一実施例に係るビーム直進形マイクロ波管
装置（進行波管装置）の要部を示す断面図、第３図はそ
の要部拡大図である。 １・・・・・・外囲器、２・・・・・・環状シム、３・
・・・・・環状磁石、４゜５・・・・・・ねじ溝、７・
・・・・・支持筒。
（進行波管装置）の要部を示す断面図と側面図、第２図
はこの考案の一実施例に係るビーム直進形マイクロ波管
装置（進行波管装置）の要部を示す断面図、第３図はそ
の要部拡大図である。 １・・・・・・外囲器、２・・・・・・環状シム、３・
・・・・・環状磁石、４゜５・・・・・・ねじ溝、７・
・・・・・支持筒。
Claims (1)
- ビーム直進形マイクロ波管の外囲器の外周に直接又は支
持筒を介して軸方向に所定間隔で複数の環状シムを並設
し且つ環状シム間に環状磁石を配設してなるビーム直進
形マイクロ波管装置において、前記環状シム内周にねし
溝を設けると共に前記外囲器外周又は前記支持筒外周に
もねし溝を設け、更に上記環状シムに管軸にほぼ垂直な
面で且つ円周方向に切込みを設けたことを特徴とするビ
ーム直進形マイクロ波管装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12102577U JPS5840521Y2 (ja) | 1977-09-08 | 1977-09-08 | ビ−ム直進形マイクロ波管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12102577U JPS5840521Y2 (ja) | 1977-09-08 | 1977-09-08 | ビ−ム直進形マイクロ波管装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5447356U JPS5447356U (ja) | 1979-04-02 |
| JPS5840521Y2 true JPS5840521Y2 (ja) | 1983-09-12 |
Family
ID=29077781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12102577U Expired JPS5840521Y2 (ja) | 1977-09-08 | 1977-09-08 | ビ−ム直進形マイクロ波管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840521Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58109145U (ja) * | 1982-01-20 | 1983-07-25 | 日本電気株式会社 | 進行波管装置 |
-
1977
- 1977-09-08 JP JP12102577U patent/JPS5840521Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5447356U (ja) | 1979-04-02 |
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