JPS5839634A - 殺ダニ性化合物 - Google Patents
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- C07C67/14—Preparation of carboxylic acid esters from carboxylic acid halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/12—Acetic acid esters
- C07C69/14—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds
- C07C69/145—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds of unsaturated alcohols
- C07C69/157—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds of unsaturated alcohols containing six-membered aromatic rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な殺ダニ性化合物に関し、さらに1FIl
ニは4−ヒトルキシーベンジルアルコールの新規なジエ
ーテル、これらジエーテルの製造方法、ダニ駆除剤とし
てのその使用及びそれを含有するダニ駆除剤に関するも
のである。
ニは4−ヒトルキシーベンジルアルコールの新規なジエ
ーテル、これらジエーテルの製造方法、ダニ駆除剤とし
てのその使用及びそれを含有するダニ駆除剤に関するも
のである。
稜ダニ活性を有する幾つかの化合物が知られており、そ
゛のうも成るものはダニの卵に対して活性である一方1
他の、ものは幼虫着しくは成虫のダニに財して活性であ
る。
゛のうも成るものはダニの卵に対して活性である一方1
他の、ものは幼虫着しくは成虫のダニに財して活性であ
る。
これら公知のダニ駆除剤はたとえば有機燐化合物、ハル
芳香族化合物、カルバミン酸化合物、金属−有機化合物
など種々員なる化合動程I[K属している。
芳香族化合物、カルバミン酸化合物、金属−有機化合物
など種々員なる化合動程I[K属している。
主要な公知の殺ダニ性化合物は、ジエー・シー・ストリ
ートにより、「ダニ駆除剤の選択性に関する基礎」、第
1章、、II 155頁「殺央剤選択艷、デツカ−社、
ニューヨーク(1975)K集約されている。
ートにより、「ダニ駆除剤の選択性に関する基礎」、第
1章、、II 155頁「殺央剤選択艷、デツカ−社、
ニューヨーク(1975)K集約されている。
最近、アルコキシ−ジフェニル−エーテル(米国特許1
114,061,6113号、チバガイギー社)、シタ
pプロパンーカルlン酸化合物(米国特許第3.995
,054号、ゼオコン社)及び8〜12個の炭素原子を
有するグリコールのジープ四パルギルーエーテル(英国
特許第1,472,83ie号、本7マン・う・ロツン
ユ社)の種IIに属する殺ダニ性化合物が記載されてい
る。
114,061,6113号、チバガイギー社)、シタ
pプロパンーカルlン酸化合物(米国特許第3.995
,054号、ゼオコン社)及び8〜12個の炭素原子を
有するグリコールのジープ四パルギルーエーテル(英国
特許第1,472,83ie号、本7マン・う・ロツン
ユ社)の種IIに属する殺ダニ性化合物が記載されてい
る。
多くの種類の公知殺ダニ性化合物が存在するkも拘らず
、ダニは植物に与える被害のためいまだ腫大な問題であ
る。何故なら、ダニはlシーズンの間に多くの世代で繁
殖し、使用する酸ダニ性化合物に対する耐性現象の発生
を起こし易いからである。
、ダニは植物に与える被害のためいまだ腫大な問題であ
る。何故なら、ダニはlシーズンの間に多くの世代で繁
殖し、使用する酸ダニ性化合物に対する耐性現象の発生
を起こし易いからである。
今回、本発明の目的である、一般式
〔式中、R及びR1から選択される一方の置換基はC7
〜Cttアルキルを示し、他方は基−(CH*)n −
C−C−R” を示し、ここで nは1〜4の整数であり、 R″Lt水素原子又は基−CH,−0−R”であり、a
mは水素原子、C,〜C番アルキル% C,〜C4アル
ケ1ル又は基 −C−R’であり、 1 Ru C,〜C4アルキル% Cs〜C,シクロアルキ
ル、ベンジル又はフェニルである〕 を有する新規な化合物が見出された。
〜Cttアルキルを示し、他方は基−(CH*)n −
C−C−R” を示し、ここで nは1〜4の整数であり、 R″Lt水素原子又は基−CH,−0−R”であり、a
mは水素原子、C,〜C番アルキル% C,〜C4アル
ケ1ル又は基 −C−R’であり、 1 Ru C,〜C4アルキル% Cs〜C,シクロアルキ
ル、ベンジル又はフェニルである〕 を有する新規な化合物が見出された。
式Iの化合物は、ダニの卵に対して特に発揮される高殺
ダニ活性を有する。
ダニ活性を有する。
式■の化合物の合成け、有機化学の透電の慣行において
それ自体公知の反応に従って行なわれる0以丁の合成法
の説明において使用する記号R1R5、it!、 am
%R4及びnは、特記しない限り一般式■で特定したと
同じ意味を有する。
それ自体公知の反応に従って行なわれる0以丁の合成法
の説明において使用する記号R1R5、it!、 am
%R4及びnは、特記しない限り一般式■で特定したと
同じ意味を有する。
合成のための適する出発物質は、4−ヒドロキシメチル
−石炭酸カリウム囚又はその他任意のアルカリ金属の4
−ヒト−午ジメチルー石炭酸塩であり、これらは4−ヒ
ドロキシ−ベンジルアルコールからアルカッ化合物又は
アルカリ炭酸塩での処理により容易に製造することがで
きるORがC7〜C1mアルキルでありかつRが基−(
ctit)n−C■C−R”である式Iの化合物・2、
下記の反応式lに示した反応順序に従って得られ、これ
について後記するO v 。
−石炭酸カリウム囚又はその他任意のアルカリ金属の4
−ヒト−午ジメチルー石炭酸塩であり、これらは4−ヒ
ドロキシ−ベンジルアルコールからアルカッ化合物又は
アルカリ炭酸塩での処理により容易に製造することがで
きるORがC7〜C1mアルキルでありかつRが基−(
ctit)n−C■C−R”である式Iの化合物・2、
下記の反応式lに示した反応順序に従って得られ、これ
について後記するO v 。
工
東
・−反応式1における反応lは、ア
ルカリ塩囚を慣用技術に従ってハ胃ゲン化アルキル(R
−X)と縮合させることにより行なわれる。
・−反応式1における反応lは、ア
ルカリ塩囚を慣用技術に従ってハ胃ゲン化アルキル(R
−X)と縮合させることにより行なわれる。
中間体向がかくして得られ、これを強埴基(水素化ナシ
リウ^、アルカリ水酸化物%を一酪酸カリウム)の存在
下で式HC■C’ −(cut)n−Xのハpゲン化物
と反応させて(反応2 ) 、R1IXCy〜C1、ア
ルキルでありかつRがHである式■の化合物(化合物1
−a)を生成さぜる。
リウ^、アルカリ水酸化物%を一酪酸カリウム)の存在
下で式HC■C’ −(cut)n−Xのハpゲン化物
と反応させて(反応2 ) 、R1IXCy〜C1、ア
ルキルでありかつRがHである式■の化合物(化合物1
−a)を生成さぜる。
RがC1〜C11アル午ルである他の式Iの化合物は、
化合物1−aを臭化アル中ルマダネシウム又はリチウム
ブチルでの処理により末端三重結合において塩化させる
ことKより製造される。
化合物1−aを臭化アル中ルマダネシウム又はリチウム
ブチルでの処理により末端三重結合において塩化させる
ことKより製造される。
かく得られた塩は、りpルメチルーアルキルーエーテル
又はタロルメチルーアルナニルーエーテルとの反応(反
応3)Kより、RがC1〜C11アルキルであり、vが
一〇〇、OR″でありかつR1がアルキル着しくはアル
ケニルである式1の化合物(1−b)を生成する。
又はタロルメチルーアルナニルーエーテルとの反応(反
応3)Kより、RがC1〜C11アルキルであり、vが
一〇〇、OR″でありかつR1がアルキル着しくはアル
ケニルである式1の化合物(1−b)を生成する。
上記の塩と本ルムアルデヒFとの反応(反応4)は、R
がC7〜C1lアルキルでありSR1が−OH,−OR
”でありかつR3がHである式Iの化合物(1−c)を
生成する@ この化合物は、適当な塩化アシルとの反応(反応5)に
より、RがC!〜C1lアルキルであり、RrRが基−
(cHm)n−C■C−R”でありかつR1がC1〜C
ロアルキルである式Iの化合物の合成は、同様な方法で
行なわれる。
がC7〜C1lアルキルでありSR1が−OH,−OR
”でありかつR3がHである式Iの化合物(1−c)を
生成する@ この化合物は、適当な塩化アシルとの反応(反応5)に
より、RがC!〜C1lアルキルであり、RrRが基−
(cHm)n−C■C−R”でありかつR1がC1〜C
ロアルキルである式Iの化合物の合成は、同様な方法で
行なわれる。
石炭酸jll (A)を式HC=C−(CH,)n−X
のハロゲン化アル午ルと纏会さ曽、かく得られたベンジ
ルアルコール(B’)を式 〔式中、R1はC,−wc1mアルキルであり、XLt
Cl。
のハロゲン化アル午ルと纏会さ曽、かく得られたベンジ
ルアルコール(B’)を式 〔式中、R1はC,−wc1mアルキルであり、XLt
Cl。
Brである〕
のハ田ゲン化アル中ルと縮合させる。
これらの反応から、式
の化合物が得られる◎
化合物1−eから出発し1反応式lの反応3.4及びb
と同様な反応な用いることにより、R1がC丁〜ell
である式Iの他の誘導体の合成を行なう。
と同様な反応な用いることにより、R1がC丁〜ell
である式Iの他の誘導体の合成を行なう。
これらの反応を次の反応式2に示す。
上記したように、式Iの化合物は高役ダニ活性を有する
。
。
前記化合物は主としてダニの卵に対し活性であり、同時
にダニの運動性形態に対しても成る程度の活性を発揮す
る。式!の化合物はさらにダニの冬眠卵に対しても殺卵
活性を有し、したがって他種の9ダニ性化合物には見出
し難いような特性を有する。
にダニの運動性形態に対しても成る程度の活性を発揮す
る。式!の化合物はさらにダニの冬眠卵に対しても殺卵
活性を有し、したがって他種の9ダニ性化合物には見出
し難いような特性を有する。
式Iの化合物はざらに高作用持続性を有し、これは殺卵
性化合物にとって極めて一要な特性であり、ざらに温麿
動物及び魚m1ll極めて低い毒性を特徴とし、たとえ
ば峰のような共食に対し全く無害である。
性化合物にとって極めて一要な特性であり、ざらに温麿
動物及び魚m1ll極めて低い毒性を特徴とし、たとえ
ば峰のような共食に対し全く無害である。
植物に及ぼされる被害及びあらゆる耕作地に極度に蔓延
する観点から特に経済上同心のある主要なダニ類は、主
として袷のものに属する:へダニ科、ハダニ属〔テトラ
ニクス・ウルチカエ(T。
する観点から特に経済上同心のある主要なダニ類は、主
として袷のものに属する:へダニ科、ハダニ属〔テトラ
ニクス・ウルチカエ(T。
urticae )、クモダニ(T、 telariu
a )、テFラニタス・バシフィクス(T、 paci
ficus )など〕、赤ダニ属〔ヨーロッパ赤ダニ(
P、 ulmi )、it IIハl二(P、 cit
ri )など〕、ククロバーハダニ〔赤グモ(B、 p
raetiosa ) )及びスギツバダニ属。
a )、テFラニタス・バシフィクス(T、 paci
ficus )など〕、赤ダニ属〔ヨーロッパ赤ダニ(
P、 ulmi )、it IIハl二(P、 cit
ri )など〕、ククロバーハダニ〔赤グモ(B、 p
raetiosa ) )及びスギツバダニ属。
耕作物に対するその他の有害な種類は、たとえばフシダ
ニ科〔アセリア(Acerim )属、フシダニ属、フ
ィ田コプテス属(Phyllocoptea )、フィ
ロコプトルタ属(Phyllocoptruta )、
パサテス属(vagatea )など〕、本コリダニ科
〔ヘミタルソネムス属(Hemitarsonemus
) )及びテヌイパルピデー科(T enuipal
pidae )に存在する。
ニ科〔アセリア(Acerim )属、フシダニ属、フ
ィ田コプテス属(Phyllocoptea )、フィ
ロコプトルタ属(Phyllocoptruta )、
パサテス属(vagatea )など〕、本コリダニ科
〔ヘミタルソネムス属(Hemitarsonemus
) )及びテヌイパルピデー科(T enuipal
pidae )に存在する。
一般式1 F)@ダニ性化合物は、そのままで或いは適
切な組成−若しくは調合物としてダニの撲滅に有用[’
用することができる。
切な組成−若しくは調合物としてダニの撲滅に有用[’
用することができる。
組成物若しくは調合物においては、一般式Iの化合物の
1種若しくはそれ以上を活性成分とする他に、固体若し
くは液体の適当なペヒタル、並びkたとえば表面活性剤
、濃憫剤、付着促進剤及び分散剤のような添加剤を存在
させることができる。
1種若しくはそれ以上を活性成分とする他に、固体若し
くは液体の適当なペヒタル、並びkたとえば表面活性剤
、濃憫剤、付着促進剤及び分散剤のような添加剤を存在
させることができる。
本化合物は粒剤、粉剤、水和性粉末、ペースト、乳剤、
乳化性濃厚物、溶液などとして、通常の調合慣行で周知
された技術に従って容J!に調合することができる。
乳化性濃厚物、溶液などとして、通常の調合慣行で周知
された技術に従って容J!に調合することができる。
たとえば組成物の活性範囲を拡大させる必要性のような
特別の目的により、或いは特別の環境条件により要求さ
れる場合は、たとえば蒙央剤及び(又は)他のダニ駆除
剤のようなその他の活性物質を組成物及び調合物に添加
することができる。
特別の目的により、或いは特別の環境条件により要求さ
れる場合は、たとえば蒙央剤及び(又は)他のダニ駆除
剤のようなその他の活性物質を組成物及び調合物に添加
することができる。
共存させるのに適した活性物質は燐−有機化合物、ピレ
ス胃イド、二)ロフェノール、ホルムアミジン、尿素誘
導体、カルバミン酸化合物1塩素化炭化水素、有−一金
属化合物及び鉱油を包含する。
ス胃イド、二)ロフェノール、ホルムアミジン、尿素誘
導体、カルバミン酸化合物1塩素化炭化水素、有−一金
属化合物及び鉱油を包含する。
上記組成物中には、活性物質を組成物の種類及び使用す
る特定処理に応じて0.5〜90重量−の量で含有させ
ることができる。
る特定処理に応じて0.5〜90重量−の量で含有させ
ることができる。
ダニの横行から保護すべき領域に散布する組成物の量は
、たとえば組成物若しくは調合物の種類、適用の種類、
横行の性質及び程度、保護すべき耕作物の種類、気候及
び環境条件など種々の因子に依存する。
、たとえば組成物若しくは調合物の種類、適用の種類、
横行の性質及び程度、保護すべき耕作物の種類、気候及
び環境条件など種々の因子に依存する。
以下の例により本発明をさらに説明する。
一般的注意:例中に示した被磁気共鳴スペクトル(’H
−8H翼)は1溶剤としてCDC15を使用しかつ内部
標準としてTMSを使用してILIIIした。スペクト
ルの記IEilCおいては、次の記号を使用した二Sニ
シングレツ)Sd=ダブレツ)、t=シリプレツ)、m
=:yルチプレット若しくは非分解複合シグナル。
−8H翼)は1溶剤としてCDC15を使用しかつ内部
標準としてTMSを使用してILIIIした。スペクト
ルの記IEilCおいては、次の記号を使用した二Sニ
シングレツ)Sd=ダブレツ)、t=シリプレツ)、m
=:yルチプレット若しくは非分解複合シグナル。
例 1
4−デシルキシ−ベンジルアルコール(中間体(反応1
、反応式1) ジメチルスルホキシド(DMSO)60id中の4−ヒ
F襲キシ−ベンジルアルコール12Fの溶液へ、粉砕K
OH7Fを加えた。この混合物を室温で30分間攪拌し
、次いで10℃まで冷却し、これに1−プp^−デカン
229を加えた。反応混合物を攪拌下に室温で6時間保
ち、次いで水中に注ぎ込みそしてエチルエーテル(Ei
、0 )で抽出した。エーテル相を合し、次いで5襲ソ
ーダ水溶波で洗浄し、さらに中性pHが得られるまで水
洗した。かくして、所望生成物18fが得られた(白色
固体、融点=55℃、NMRは標記構造に一致した)0
」−1 4−デシロキシ−ベンジルーズ四パルギルエーテル〔化
合物層1〕の製造。
、反応式1) ジメチルスルホキシド(DMSO)60id中の4−ヒ
F襲キシ−ベンジルアルコール12Fの溶液へ、粉砕K
OH7Fを加えた。この混合物を室温で30分間攪拌し
、次いで10℃まで冷却し、これに1−プp^−デカン
229を加えた。反応混合物を攪拌下に室温で6時間保
ち、次いで水中に注ぎ込みそしてエチルエーテル(Ei
、0 )で抽出した。エーテル相を合し、次いで5襲ソ
ーダ水溶波で洗浄し、さらに中性pHが得られるまで水
洗した。かくして、所望生成物18fが得られた(白色
固体、融点=55℃、NMRは標記構造に一致した)0
」−1 4−デシロキシ−ベンジルーズ四パルギルエーテル〔化
合物層1〕の製造。
(反応2、反応式1)
粉砕KOHQ、7fを含有するジメチルホルムアミド(
DMF)4G−へ、中間体1(例1参m[)λ6tを加
えた。この混合物を室温で30分間攪拌し、次いで0℃
まで冷却し、これにDMF S m中の臭化グロパルギ
ル2fの溶液を加えた。反応混合物を室温にて6時間攪
拌し、次いで水中に注ぎ込み、Et、Oで抽出した。エ
ーテル相を合し、中性pHになるまで水洗し、脱水しそ
して溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲル上
でのクリ!トダラフィーにかけた(II出剤:ヘキ堂ン
/Et、Os:lの比)。かくして、所望の生成物Lt
tが得られた。
DMF)4G−へ、中間体1(例1参m[)λ6tを加
えた。この混合物を室温で30分間攪拌し、次いで0℃
まで冷却し、これにDMF S m中の臭化グロパルギ
ル2fの溶液を加えた。反応混合物を室温にて6時間攪
拌し、次いで水中に注ぎ込み、Et、Oで抽出した。エ
ーテル相を合し、中性pHになるまで水洗し、脱水しそ
して溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲル上
でのクリ!トダラフィーにかけた(II出剤:ヘキ堂ン
/Et、Os:lの比)。かくして、所望の生成物Lt
tが得られた。
NMR(δ、ppm )
0.85 (t、3H)
1〜2 (mJ17H)
3.85 (t、2H)
41 (t、2N)
4.44 (8%2H)
6.75〜7.15 (dlas 4H)例 3
4−デシロ午シーベンジル−(ヘキサ−5−オキす−2
−イニル)−エーテル〔化合物層2〕の(反応31反反
応式) 窒素雰WgIL中に保たれた無水テトラヒドロフラン(
THP) 10g11中のC,H,MgBr9.5+ル
の溶液へ、化合物層1(例2参!71’) 1 fを滴
加した。添加終了後、混合物を徐々[6G℃までJIg
熱し、次いで室温にて冷却さ曽た。−5〜o′cまで冷
却したこの溶液へ、無水THF 5−中のクロルメチル
−メチル−エーテル(ctisocti、 C1) 5
X 10 モルの溶液を滴加した。温度を室温まで
上昇させ、1時間の攪拌後に混合物をNH4Clの飽和
溶液中に注ぎ込んだ0次いで、これをEt、Oで抽出し
、エーテル抽出物を合して脱水しそして溶媒を減圧下で
蒸発させた。粗生成物をシリカゲルカラム上でりpマク
トゲラフイーにかけて精製した(溶出剤:ヘキサン/
EttO95: 5の比)0かくして、所望の生成物0
.5tを得た。
−イニル)−エーテル〔化合物層2〕の(反応31反反
応式) 窒素雰WgIL中に保たれた無水テトラヒドロフラン(
THP) 10g11中のC,H,MgBr9.5+ル
の溶液へ、化合物層1(例2参!71’) 1 fを滴
加した。添加終了後、混合物を徐々[6G℃までJIg
熱し、次いで室温にて冷却さ曽た。−5〜o′cまで冷
却したこの溶液へ、無水THF 5−中のクロルメチル
−メチル−エーテル(ctisocti、 C1) 5
X 10 モルの溶液を滴加した。温度を室温まで
上昇させ、1時間の攪拌後に混合物をNH4Clの飽和
溶液中に注ぎ込んだ0次いで、これをEt、Oで抽出し
、エーテル抽出物を合して脱水しそして溶媒を減圧下で
蒸発させた。粗生成物をシリカゲルカラム上でりpマク
トゲラフイーにかけて精製した(溶出剤:ヘキサン/
EttO95: 5の比)0かくして、所望の生成物0
.5tを得た。
、NMR(J、ppm)
0.85 (t、3H)
1〜2 (mS16H)
3.4 (l1%3H)
175 (t、 2H)
4.1 (II、4H)
4.4 (a、2H)
6.75〜7.15 (dsd14H)。
例 4
4−デシロキシ−ベンジル−ベン>−4−4ニル−エー
テル〔化合物43)の製造。
テル〔化合物43)の製造。
(反応2−反応式1)
DMSO4II7中に溶解した中間体1(例1参照)3
tを、DMSO20−中のパテフィン中50%NaHO
,55fの分散物へ滴加した。この混合物を攪拌下に室
温で30分間保った。次いで、これに4−ペンチニル−
タルティド(HC■C−CH,−C)[、−CH,C1
) 1.2 tを滴加した。反応混合物を攪拌下に60
″CKて3時間加熱した。次いで1冷却後、これを水中
に注ぎ込み、Et、O″tl′ll1llH5シた。エ
ーテル抽出物を合し、脱水しそして溶媒を減圧下で蒸発
除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのクロマトグ
ラフィーにかけた(溶出剤:ヘキサン/Et、09 :
1の比)。かくして、所望の生成物2.32が得られ
たO NMR(J%ppm ) 0.85 (t、3H) 1〜1.2! (m、 19H) 2.25 (m、2H) 3.5 (t、2M) 3.9 (t、2)1) 4.45 (a、2H) 6.7〜7.15 (d、a、4H)1、IL:3
300及び2xsoaw)て有意なバンド。
tを、DMSO20−中のパテフィン中50%NaHO
,55fの分散物へ滴加した。この混合物を攪拌下に室
温で30分間保った。次いで、これに4−ペンチニル−
タルティド(HC■C−CH,−C)[、−CH,C1
) 1.2 tを滴加した。反応混合物を攪拌下に60
″CKて3時間加熱した。次いで1冷却後、これを水中
に注ぎ込み、Et、O″tl′ll1llH5シた。エ
ーテル抽出物を合し、脱水しそして溶媒を減圧下で蒸発
除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのクロマトグ
ラフィーにかけた(溶出剤:ヘキサン/Et、09 :
1の比)。かくして、所望の生成物2.32が得られ
たO NMR(J%ppm ) 0.85 (t、3H) 1〜1.2! (m、 19H) 2.25 (m、2H) 3.5 (t、2M) 3.9 (t、2)1) 4.45 (a、2H) 6.7〜7.15 (d、a、4H)1、IL:3
300及び2xsoaw)て有意なバンド。
例 5
4−デフ0キシ−ベンジル−(6−ヒドロキ、シーへキ
シ−4−イニル)−エーテルc 化合s雇4〕の製造。
シ−4−イニル)−エーテルc 化合s雇4〕の製造。
(反応4、反応式1)
ヘキサン中15弧のブチルリチウムの溶液4wiを、−
10’ClIC保たれた無水T)(F 50−中の化合
物、43(例4参g)2.2Fの溶液へ加えた。この混
合物を30分間攪拌した後、これにパラホルムアルデヒ
ド0.2Fを添加した。次いで、反応混合物を40℃に
て1時間攪拌した。冷却後、これを水中に注ぎ込み、E
t、、Oで抽出した。エーテル相を合して脱水し1そし
て溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をシリカゲルカ
ラム上でのクロマトグラフィーにより精製した(溶出剤
:ヘキサン/at、o t : iの比)。かくして、
所望の生成物2tが得られたO NMiL (J〜ppm ) o、gs (i、3H) 1〜2 (m、18H) 2.3 (m、3H) a、s (t、2l−1) L9 (t、2H) 4.6 (a、2H) 4.45 (s、2H) 6.7〜7.15 (d、d14H)例 6 11−(4−デシルキシフェニル)−7−オキサ−2−
オクチニルアセテート〔化合物層5〕の製造O (反応5、反応式l) 化合物層4(例5i1jll)Ifを、ピリジン1−を
含有するベンぞン2Od中wcll!解させた0次し蔦
で、塩化Tセチル0.5ft’攪拌下に加えた。室温に
て1時間攪拌後、反応混合物を水中に注ぎ込み、K t
、、0で抽出した。エーテル相を合して脱水し1そして
溶媒を減圧下で蒸発除去した。かくして、所望の生成物
1fが得られたO NMR(J、ppm) 0.85 (t、3H) 1〜2 (m、1g)1) 2(8,3H) 2−3 (m、 2H) 3.5 (t12H) 3.9 (t、2H) 4.6 (s12H) 4.45 (a、2H) 6.7〜7.15 (dSd、 4H)。
10’ClIC保たれた無水T)(F 50−中の化合
物、43(例4参g)2.2Fの溶液へ加えた。この混
合物を30分間攪拌した後、これにパラホルムアルデヒ
ド0.2Fを添加した。次いで、反応混合物を40℃に
て1時間攪拌した。冷却後、これを水中に注ぎ込み、E
t、、Oで抽出した。エーテル相を合して脱水し1そし
て溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をシリカゲルカ
ラム上でのクロマトグラフィーにより精製した(溶出剤
:ヘキサン/at、o t : iの比)。かくして、
所望の生成物2tが得られたO NMiL (J〜ppm ) o、gs (i、3H) 1〜2 (m、18H) 2.3 (m、3H) a、s (t、2l−1) L9 (t、2H) 4.6 (a、2H) 4.45 (s、2H) 6.7〜7.15 (d、d14H)例 6 11−(4−デシルキシフェニル)−7−オキサ−2−
オクチニルアセテート〔化合物層5〕の製造O (反応5、反応式l) 化合物層4(例5i1jll)Ifを、ピリジン1−を
含有するベンぞン2Od中wcll!解させた0次し蔦
で、塩化Tセチル0.5ft’攪拌下に加えた。室温に
て1時間攪拌後、反応混合物を水中に注ぎ込み、K t
、、0で抽出した。エーテル相を合して脱水し1そして
溶媒を減圧下で蒸発除去した。かくして、所望の生成物
1fが得られたO NMR(J、ppm) 0.85 (t、3H) 1〜2 (m、1g)1) 2(8,3H) 2−3 (m、 2H) 3.5 (t12H) 3.9 (t、2H) 4.6 (s12H) 4.45 (a、2H) 6.7〜7.15 (dSd、 4H)。
例 7
4−デンロ午ンーベンジル−(7−オキサ−4−オクテ
ニル)−エーテル〔化合物ムロ〕の製造。
ニル)−エーテル〔化合物ムロ〕の製造。
(反応3、反応式1)
ヘキサン中のブチルリチウム15%の溶液4Mlを、窒
素雰囲気中−10’CK保たれた無水THF20−中の
化合物層3(例4参照)2fの溶液へ滴加した。混合物
を一40℃まで冷却した後、無水THF 6−中に溶解
されたCH,OCH,CI O,s dをこれに滴加し
た。温度な徐々KG℃まで上昇させた。
素雰囲気中−10’CK保たれた無水THF20−中の
化合物層3(例4参照)2fの溶液へ滴加した。混合物
を一40℃まで冷却した後、無水THF 6−中に溶解
されたCH,OCH,CI O,s dをこれに滴加し
た。温度な徐々KG℃まで上昇させた。
次いで、反応混合物を飽和NH4“C1溶液中に注ぎ込
んだ0有機層を分離し、水溶液なEt、0で抽出した。
んだ0有機層を分離し、水溶液なEt、0で抽出した。
有@相を合して脱水しそして溶媒を減圧下で除去した。
この粗生成物をンツ力ゲル上でのクロマ)グラフィーに
より着製した(溶出剤:ヘキサン/Ei鵞095:5の
比)。かくして、所望の生成物1.Sfが得られた。
より着製した(溶出剤:ヘキサン/Ei鵞095:5の
比)。かくして、所望の生成物1.Sfが得られた。
NMjl (a N ppm )0.85
(t、3H) 1〜! (m、IIH) 2.25 (m、2H) 3.3 (”、3H) 3−5 (t12H) 3.85 (t、2H) 4(8,2H) 4.35 (g、2H) 6.75〜7.15 (as dx 4H)。
(t、3H) 1〜! (m、IIH) 2.25 (m、2H) 3.3 (”、3H) 3−5 (t12H) 3.85 (t、2H) 4(8,2H) 4.35 (g、2H) 6.75〜7.15 (as dx 4H)。
例 8
4−プロパルギルオキシ−ベンジルアル・コール(反応
1、反応式2) %式% ルコール6fの溶液中に炭酸カリウム7tを分散させた
。この混合物に臭化プロパルギル6tを滴加した。反応
混合物を室温で6時間攪拌し、次psで水中に注ぎ込み
、Et、Oで抽出した。エーテル相を合して脱水し、そ
して溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をクリカゲル
上でのクロマトグラフィーにかけた(溶出剤:ヘキすン
/Et、03 : 1の比)。かくして、所望の生成物
8tを得たONMR(1% pm)m ) 13 (d、 IH) 2.5 (a、 IH) 4−4 (a、2H) 4.5 (a、2H) 6.8〜7 (dSd、 4H)。
1、反応式2) %式% ルコール6fの溶液中に炭酸カリウム7tを分散させた
。この混合物に臭化プロパルギル6tを滴加した。反応
混合物を室温で6時間攪拌し、次psで水中に注ぎ込み
、Et、Oで抽出した。エーテル相を合して脱水し、そ
して溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をクリカゲル
上でのクロマトグラフィーにかけた(溶出剤:ヘキすン
/Et、03 : 1の比)。かくして、所望の生成物
8tを得たONMR(1% pm)m ) 13 (d、 IH) 2.5 (a、 IH) 4−4 (a、2H) 4.5 (a、2H) 6.8〜7 (dSd、 4H)。
例 9
4−プ0パルギルオキシ−ベンジル−デシル−エーテル
〔化合−物ム7〕の製造。
〔化合−物ム7〕の製造。
(反応2、反応式2)
DMSO5−中の中間体層2(例8参照)3.2fの溶
液を、パテフィン中501NaH10f及び0MSO2
5W11の分散物に滴加した。この混合物を攪拌下に3
0分間保ち、その後この混合物へDMSO5−中の1−
ブロム−デカンL4fの溶液を加えた。反応混合物を攪
拌下に4S℃で3時間加熱した。冷却後、温金物を水中
に注ぎ込み、gi、0で抽出した0エーテル相を合して
脱水し、そして溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物5
tをシリカゲルカラム上でのタレマドグツフィーによっ
て精製した(+1Hfl剤: ヘ’P t ン/ E
tl 09 : 1 f) It )。
液を、パテフィン中501NaH10f及び0MSO2
5W11の分散物に滴加した。この混合物を攪拌下に3
0分間保ち、その後この混合物へDMSO5−中の1−
ブロム−デカンL4fの溶液を加えた。反応混合物を攪
拌下に4S℃で3時間加熱した。冷却後、温金物を水中
に注ぎ込み、gi、0で抽出した0エーテル相を合して
脱水し、そして溶媒を減圧下で蒸発除去した。残留物5
tをシリカゲルカラム上でのタレマドグツフィーによっ
て精製した(+1Hfl剤: ヘ’P t ン/ E
tl 09 : 1 f) It )。
かくして1所望の生成物4.3tを得た。
NMR(a s ppm )
o、ss (t、13H)
1〜2 (m、16H)
2.3 (d、IH)
3.4 (tSzH)
4.4 (g、2H)
4.5 (d、2H)
668〜7.2 (l a、 4H)例 10
4−〔(ヘキシ−5−オキサ−2−イニル)−オキシ〕
−ベンジルーデシルーエーテル(化合’lll、48〕
の製造。
−ベンジルーデシルーエーテル(化合’lll、48〕
の製造。
(反応3、反応式2)
ヘキすン中の155gブチル−リチウムの溶液6B−を
、−10℃に保たれた無水THF 30−中の化合物層
7(例9参照)3Fの溶液べ一加えた。次いで、この混
合物を一40℃まで冷却し、次いで無水THFxoMI
中のCH,OCH,CI O−s tの溶液を前記混合
物に滴加した。温度な0℃まで除々に上昇させ、その閤
攪拌を続け、次いで混合物を飽和NH4Cl5液中に注
ぎ込んだ0有機層を分離しそして水相をRi、0で抽出
した。有機相を合して脱水し、そして溶媒を減圧下で蒸
発除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのタレマド
グツフィーにかけた(溶出剤:へ中ナン/ Et冨09
5 : 5の比)0かくして、所望の生成物2.2fを
得た。
、−10℃に保たれた無水THF 30−中の化合物層
7(例9参照)3Fの溶液べ一加えた。次いで、この混
合物を一40℃まで冷却し、次いで無水THFxoMI
中のCH,OCH,CI O−s tの溶液を前記混合
物に滴加した。温度な0℃まで除々に上昇させ、その閤
攪拌を続け、次いで混合物を飽和NH4Cl5液中に注
ぎ込んだ0有機層を分離しそして水相をRi、0で抽出
した。有機相を合して脱水し、そして溶媒を減圧下で蒸
発除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのタレマド
グツフィーにかけた(溶出剤:へ中ナン/ Et冨09
5 : 5の比)0かくして、所望の生成物2.2fを
得た。
J麓R(J、ppm)
0.11!S (t、3H)
1〜2 (m、l6H)
3.35 (a、3H)
3L4 (s、2H)
4.1 (g、4)()
4.45 (8,2H)
6.65〜7.15 (d−d−= 48)例 1
1 4−(ベン)−4−イニルオキシ)ベンジルアルコール
〔中間体層3〕の製造〇 (反応1、反応式2) 粉砕NaOHO,li fをDMSO25−中の4−と
ドをキシ−ベンジルアルコール1112の溶液へ加えた
。
1 4−(ベン)−4−イニルオキシ)ベンジルアルコール
〔中間体層3〕の製造〇 (反応1、反応式2) 粉砕NaOHO,li fをDMSO25−中の4−と
ドをキシ−ベンジルアルコール1112の溶液へ加えた
。
30 分@後、DMSO531/ tpf) 4− ヘ
ンf= ルl *ライド2.3tの溶液を前記混合物へ
IH見た。この混合物を60℃にて3時間攪拌した。冷
却後、これを水中に注ぎ込みそしてIh、Oを抽出した
。エーテル棺を合して脱水し、そしてS媒を減圧下で蒸
発除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのクロマ)
グラフィーによって精製した(溶出剤:ヘキサン/gi
、03 : 1の比)。かくして、所望の生成物2.3
ft−得た。
ンf= ルl *ライド2.3tの溶液を前記混合物へ
IH見た。この混合物を60℃にて3時間攪拌した。冷
却後、これを水中に注ぎ込みそしてIh、Oを抽出した
。エーテル棺を合して脱水し、そしてS媒を減圧下で蒸
発除去した。残留物をシリカゲルカラム上でのクロマ)
グラフィーによって精製した(溶出剤:ヘキサン/gi
、03 : 1の比)。かくして、所望の生成物2.3
ft−得た。
NMR(δ、pp□)
1.8〜16 (1% 5H)
4.0 (t、2M)
’−’ (51%2H)
6.65〜7.15 (as ds 4H)。
例 12
(4−(ベント−4−イニルオキシ)−ベンジル)−デ
シル−エーテル〔化合4!y雇9〕の製造。
シル−エーテル〔化合4!y雇9〕の製造。
(反応2S反応式2)
DMSOS m中の中間体層3(何11を参照)1.9
1の溶液を、室温にて窒素雰I!気中で攪拌下に保たれ
たDM305d中のパラフィン中50 % NaHO,
5fの分散物へ加えた。1時R*、I−プ田ムーデカン
1.8dを滴加した。発熱のlI!!始後、反応混合物
を50℃にて3時間攪拌した。冷却後、混合物を水中に
注ぎ込み、Etloで抽出した。エーテル栢を合して脱
水し、そして溶媒を減圧下で蒸発除去した。!IAfl
物をシリカゲルカラム上でのり四マドグラフィーkかけ
た(溶出剤:ヘキサン/Et、09 : 1の比)。か
くして、所望の生成物2.41を得た。
1の溶液を、室温にて窒素雰I!気中で攪拌下に保たれ
たDM305d中のパラフィン中50 % NaHO,
5fの分散物へ加えた。1時R*、I−プ田ムーデカン
1.8dを滴加した。発熱のlI!!始後、反応混合物
を50℃にて3時間攪拌した。冷却後、混合物を水中に
注ぎ込み、Etloで抽出した。エーテル栢を合して脱
水し、そして溶媒を減圧下で蒸発除去した。!IAfl
物をシリカゲルカラム上でのり四マドグラフィーkかけ
た(溶出剤:ヘキサン/Et、09 : 1の比)。か
くして、所望の生成物2.41を得た。
NMR(as ppm )
0.85 (t、3H)
1〜2.6 (m、21H)
3.35 (t、2H)
4.0 (t、2H)
4.4 (8% 2H)
6.65〜7.15 (a、 ds 4H)。
例 13
4−〔(オフ)−7−オ午サー4−イニル)−オキシ〕
−ベンジルーデシルーエーテル((1物41G)の製造
。
−ベンジルーデシルーエーテル((1物41G)の製造
。
(反応3、反応式2)
一10℃にて窒素雰囲気中で攪拌下に保たれた無水T)
II’ 2 G−の化合物層9(例12参照)3.32
の溶液へ、ヘキサン中の15%ブチル−リチウムの溶液
6.5−を加えた。30分間後、混合物を一40℃亥で
冷却し、これに無水THFIO−中に溶解されたCH,
−〇 −CH,C1o、 8 fの溶液を加えた。
II’ 2 G−の化合物層9(例12参照)3.32
の溶液へ、ヘキサン中の15%ブチル−リチウムの溶液
6.5−を加えた。30分間後、混合物を一40℃亥で
冷却し、これに無水THFIO−中に溶解されたCH,
−〇 −CH,C1o、 8 fの溶液を加えた。
温度な0℃まで徐々に上昇させ、混合物を飽和NH,C
1@液中に注ぎ込んだ。有機相を分離しそして水相をg
t、O″C′C′抽出有機相を合して脱水し、そして溶
媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をシリカゲルカラム
上でクロマ[グラフィーKかけた(溶出剤:ヘキサン/
Et、O95: 5の比)。
1@液中に注ぎ込んだ。有機相を分離しそして水相をg
t、O″C′C′抽出有機相を合して脱水し、そして溶
媒を減圧下で蒸発除去した。残留物をシリカゲルカラム
上でクロマ[グラフィーKかけた(溶出剤:ヘキサン/
Et、O95: 5の比)。
かくして、所望の生成物2.8tを得た。
NMR(J 、 ppm )
o、ss (i、aH)
1〜2.6 (m120H)
3L! (at、3H)
3J5 (t、2H)
4.0 (S、2H)
405 (a、2H)
4.35 (a、2H)
6.65〜7.15 (4,d、4H)。
例 14
酸ダニ活性の測定。
曽ダニ活性を測定するため、ハダニ科に属するダニを特
に考慮し、この種のダニは耕作物に及ぼす被害の腫要性
及びそれらの蔓延により代表的かつ皺要と見なされる。
に考慮し、この種のダニは耕作物に及ぼす被害の腫要性
及びそれらの蔓延により代表的かつ皺要と見なされる。
テトラニタス・ウルチカエ(Jl)k対する活性の測定
。
。
豆の葉から切り取った小さな円板に前記ダニの卵を接種
し、次いで試験化合物のヒドロアセトン溶液を噴霧した
◇死滅率に対応する未詳化の卵の割合を処理後7日目に
、ヒトロア七トン混合物のみで処理した卵と比較するこ
とにより評価した。
し、次いで試験化合物のヒドロアセトン溶液を噴霧した
◇死滅率に対応する未詳化の卵の割合を処理後7日目に
、ヒトロア七トン混合物のみで処理した卵と比較するこ
とにより評価した。
テトラニクス・ウルチカエ(成虫)K対する活性の測定
。
。
豆の葉から切り取った小さな円板にダニの成虫を接種し
、次いでこれに試験化合物のヒドロアセトン分散物を噴
霧することにより処理した。処理の24時間後に死滅率
を、とドルアセトン混合物のみで処理したダニの死滅率
と比較することにより評価した。
、次いでこれに試験化合物のヒドロアセトン分散物を噴
霧することにより処理した。処理の24時間後に死滅率
を、とドルアセトン混合物のみで処理したダニの死滅率
と比較することにより評価した。
冒−ロツバ赤ダニ(卵)K対する活性の測定。
リンゴ樹の葉から切り取った小円析に前記ダニの卵を接
種し、次いでこれに試験化合物のヒトロア七)ン溶液を
噴霧して処理した。朱卿化卵の割合ヲ処理の10日後に
、ヒト胃アセトン混合物のみで処理された卵のそれと比
較することにより評価した。下記第1表には、本発明に
よる化合物の指示投与量における殺ダニ活性に関するデ
ータを記脅し、数値は次の尺度に一歓する: 4:完全な活性、90≦を越える死滅率、 。
種し、次いでこれに試験化合物のヒトロア七)ン溶液を
噴霧して処理した。朱卿化卵の割合ヲ処理の10日後に
、ヒト胃アセトン混合物のみで処理された卵のそれと比
較することにより評価した。下記第1表には、本発明に
よる化合物の指示投与量における殺ダニ活性に関するデ
ータを記脅し、数値は次の尺度に一歓する: 4:完全な活性、90≦を越える死滅率、 。
3:高活性、60〜90%の範囲の死滅率、2:充分な
活性、40〜60%の範囲の死滅率11:低活性、10
〜40%の範囲の死滅率10:無視しうる活性又は活性
なし、0〜10%の範囲の死滅率。
活性、40〜60%の範囲の死滅率11:低活性、10
〜40%の範囲の死滅率10:無視しうる活性又は活性
なし、0〜10%の範囲の死滅率。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) −毅式 〔式中、R及びR1から選択される一方の置換基はC嘗
〜C11アル午ルを示しかつ他方は基−(CH,)n−
C■c −i” を示し、ここで nは1〜4の整数であり、 Vは水素原子又は基−CI!−〇−Rであり・R8は水
素原子、C3〜C,アルキル、C鵞〜C4アルケニル又
は基 −C−R’であり、 1 R4はC8〜C4アルキル、cm〜C,シクロアルキル
、ベンジル又はフェニルである〕 の化合物。 ta Ris C,〜ellアルキルを示しかつRが
基−(CHs温−C−C−R”を示す特許請求C)mE
llx項記載の化合物。 (3)nが1又は3である特許請求の範囲第2項記載の
化合物。 +4) R”がHである特許請求の範囲第3項記載の
化合物。 (51R”が−CH,−0−R”でありかつitlがH
,CHs。 −C0CH,である特許請求の範11113項記載の化
合物。 鵞 1■ Rが基−
(CHハニーc、、c−Rを示しかつRがC1〜C□ア
ルキルを示す特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (7) ntlll又は3である特許請求の範囲#1
6項記載の化合物。 (811”がHである特許請求の範囲JI7項記載の化
合物。 (sTh1R2が−CH,−0−R″でありかツR”が
H、CH,、−C0CH,である特許請求の範囲第7項
記載の化合物〇 −4−とドロキシ−ベンジルアルコールのアルカリ石炭
酸塩を7〜1149の炭素原子を有するハリゲン化アル
キルと反応させ、得られる生成物を強塩基で処理し、さ
らに式 %式%) 〔式中、XはCI、 Brである〕 の化合物と縮合させることを特徴とする、RがC1〜C
■アル中ルであり、R1が−(CH,)n−C−C−R
”でありかつR3がHである式■の化合物の製造方法。 R4−とドルキシ−ベンジルアルコールのアルカリ石炭
酸塩を式 %式%) 〔式中、XはC1s Brである〕 の化合物と反応させ、得られる生成物を強塩基で処理し
、ざらに7〜11個の炭素原子を有するハロゲン化アル
中ルと縮合させることを特徴とする、Rが−(C)i、
)n−C=C−R,であり、R2がHでありかつR’
i/IC,〜C□アルキルである式■の化合物の製造方
法。 特開昭58− 39634(2) 11 R”がHである式■の化合物な強塩基で処理し
て、末端三重結合の炭素原子を塩化させ、得られる埴を
夕勘ルメチルーアルキルエーテル又はクロルメチル−ア
ルケニルエーテルと反応させてRmがアルキル又はアル
ケニルである式Iの化合物な得1ホルムアルデヒドと反
応させてR1がHである化合物を得、これら化合物を式 %式% の塩化アシルと反応させてR1が−C−R’テあル式1 ■の化合物を生成させることを特徴とする、R”が−C
)I、 −OR”である式■の化合物の製造方法。 −特許請求の範8111項記載の化合物の1種着しくは
それ以上の有効量をそのままで又は適当な組成物として
植物上に散布することを特徴とする、有用植物に対する
ダニの横行の撲滅方法。 ■ 特許請求の範8第1項記載の化合物の1種若しくは
それ以上を活性成分とし、これを不活性ベヒクル及び必
要に応じ他の添加剤と共に含有するダニ駆除剤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT23518A/81 | 1981-08-14 | ||
IT8123518A IT1211092B (it) | 1981-08-14 | 1981-08-14 | Dieteri dell'alcool 4-idrossi-benzi lico |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5839634A true JPS5839634A (ja) | 1983-03-08 |
JPH0211572B2 JPH0211572B2 (ja) | 1990-03-14 |
Family
ID=11207798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57138656A Granted JPS5839634A (ja) | 1981-08-14 | 1982-08-11 | 殺ダニ性化合物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0072556B1 (ja) |
JP (1) | JPS5839634A (ja) |
CA (1) | CA1205815A (ja) |
DE (1) | DE3268818D1 (ja) |
IT (1) | IT1211092B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522815A (ja) * | 2003-04-08 | 2006-10-05 | アルゴルクス ファーマスーティカルズ,インク | 合成カプサイシンの製造および精製 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3332505A1 (de) * | 1983-09-09 | 1985-03-28 | Henkel Kgaa | Sebosuppressive kosmetische mittel, enthaltend alkoxyarylalkanole |
CN107108385B (zh) * | 2014-11-14 | 2021-09-24 | 巴斯夫欧洲公司 | 作为硝化抑制剂的苄基炔丙基醚 |
WO2018158675A1 (en) * | 2017-03-03 | 2018-09-07 | Basf Se | Mixture comprising 2-(3,4-dimethyl-1h-pyrazol-1-yl) succinic acid and/or its 4,5-isomer and a compound comprising an ether group, an alkynyl group and a benzyl group as well as the use thereof as nitrification inhibitor |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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