JPS5836343B2 - コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ - Google Patents

コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ

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JPS5836343B2
JPS5836343B2 JP10171674A JP10171674A JPS5836343B2 JP S5836343 B2 JPS5836343 B2 JP S5836343B2 JP 10171674 A JP10171674 A JP 10171674A JP 10171674 A JP10171674 A JP 10171674A JP S5836343 B2 JPS5836343 B2 JP S5836343B2
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JP
Japan
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value
hologram
quantization
intensity
computer
Prior art date
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Expired
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JP10171674A
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JPS5129150A (en
Inventor
慎治 高橋
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS5129150A publication Critical patent/JPS5129150A/ja
Publication of JPS5836343B2 publication Critical patent/JPS5836343B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、コンピュータホログラム作製の際の量子化の
方法に関するものである。
コンピュータホログラムは、コヒーレントナ光束を実際
に干渉させて作る光学的なホログラムに比べて、ホログ
ラム作成の際の制約(吟味した光学系や除震装置の必要
性)がないことや、任意の波面が作れること、パイナリ
ブロックを用いて表現すれば記録材料の非直線的な感度
特性の影響を受けないなどの利点を持っているが、再生
像の像質が悪いという欠点を有していた。
しかし、物体光の他に、参照光をも含めてホログラム面
の強度分布を計算して作ったコンピュータホログラムを
使用することにより、良質な再生像を得ることができる
ようになった(特願昭49−15641号;一次元コン
ピュータホログラム)。
本発明は、このような物体光と参照光の干渉縞を記録す
るホログラムにおいて、ホログラム表現手段に要求され
る総分解点数を少なくし、良質の再生像を得るために、
干渉結果の強度を能率良く量子化する方法に関するもの
である。
干渉縞を記録するタイプのコンピュータホログラムは、
次のようにして作られる。
記録すべき物体光をO、参照光をRとすれば、両者の干
渉の結果は となる。
ここで*は複素共役を表わす。上記各項のうち必要な情
報は、of+of:であるが、ホログラムに記録する情
報は、バイアス項を加えて正または、0になるようにし
てある。
つまり記録される情報はバイアス項をCとして である。
物体光0のホログラム面上の最大値をOmaXとする。
参照光RとバイアスCと畝福。と等しくとり、この値を
簡単のために1とすれば■は1を中心に、0から2まで
の値をとる。
以下簡単のために、物体面とホログラム面相互の関係に
おいて、■次元方向について結像関係がある1次元ホロ
グラムで説明を行なう。
1次元ホログラムではホログラム面をサンプリングして
強度を求め、その値に応じて開口の幅を変えてホログラ
ムとする。
このようなコンピュータホログラムについては、前述の
特許昭4915641号に詳しい記述がある。
コンピュータホログラムを表現する際に一次元方向に必
要な分解点の数は、開口の幅の量子化のレベル数×開口
の数であるが、ホログラムが作製できるためには、表現
手段の総分解点数が、上記の必要な分解点数よりも大き
くなくてはならない。
また開口の数は、ホログラム面上での強度を求めるサン
プル点の数に等しい。
計算された強度分布をできるだけ忠実にホログラムとし
て記録するためには、ホログラム面をできるだけ細かく
サンプルして強度を求めること、つまり、開口の数を多
くすることと、強度の値を量子化する場合に、量子化レ
ベルの数を多くして量子化雑音を減らすことが必要であ
る。
つまり、表現手段に要求される分解点数が多い方が、ホ
ログラムとして忠実な記録ができ、それだけ良質の再生
像が得られる。
コンピュータホログラムを表現する手段としては、デイ
ジタルブロック、電子ビーム露光機などがあるが、開口
の幅の量子化レベル数は少ないほうが、要求される分解
点数が少なくて済み、また書込みに要する時間も少ない
本発明は、干渉縞を記録するコンピュータホログラムに
おいて、量子化レベルの数が決まっている場合に、最適
な量子化の範囲を決めることにより、表現手段に要求さ
れる分解点数が同一のままで、良質の再生像を得るため
のものである。
以下、本発明を図面を用いて説明する。
第1図は、本発明の量子化の特性を示すグラフである。
横軸はサンプル点の強度で、縦軸は量子化された結果で
、開口の幅に対応する。
図中11は量子化を行なわないで、線型に対応する場合
を、12は本発明の量子化の特性を示す。
13は量子化の最高値、14は量子化の最低値で、それ
ぞれの値は1+L、1−Lである。
最高値と最低値の間を等間隔に階段状に量子化し、最高
値と最低値の外側では同一の値をとる。
量子化レベルの数を一定にしておき、Lの値をlに近づ
けると、1段の高さ、幅とも大きくなり、1つの区間で
表わす値の幅が大きくなり、強度の値が相当に異っても
同一の値となる。
一方Lの値が小さくなり、Oに近くなると、強度の大き
い部分と小さい部分とが忠実に表現できなくなる。
従って、Lには最適値L。
が存在することが予想されるが、この最適値は記憶すべ
きパターンによって多少の相違がある。
Loは簡単に求めることができないから、多くのパター
ンを記録する場合にそれぞれのパターンについてのL。
を求めて量子化を行なうよりは、どのパターンについて
も妥当な量子化を行なうL。
の値をあらかじめ決めておくほうが良い。
入力パターンのうちで、ホログラム面の強度のピーク値
が大きなもの(フーリエ変換ホログラムでは入力パター
ンに規則性のあるもの)は、記録すべき信号の変化の範
囲が大きく、同一の量子化レベル数で量子化した場合に
は、再生像の像質が悪い。
第3図に示すようなlとOとから成る規則性のあるパタ
ーンについて1次元フーリエ変換ホログラムを作り、量
子化の範囲を表わすパラメータLの値を変えて再生像の
像質を調べた結果は、第2図の如くなる(入力パターン
中振幅Oの点での位相の値は不要)。
図中縦軸のl/0の値とは、入力パターン中の1の値に
相当する位置にくる出力の値と、0の値に相当する位置
にくる出力の値のそれぞれの平均値の比である。
入力パターンの大きさをXとすると、第2図の値を出す
場合に、ホログラム面のサンプル間隔は、1/(6X)
であり量子化レベルの数は10である。
第2図から判断すると、Lの値は0.4〜0.7では、
Lが1.0の場合よりも、I/Oの値が30%以上大き
くなっている。
入力が32ビットである他のいくつかのパターンについ
て、量子化レベル数が6〜10、サンプリング間隔が1
7(4X)〜1/(6X)のそれぞれの範囲で1/0の
値を調べた結果、I/Oの値が最も大きくなるのはLが
0.5〜0.6の場合である。
従って、Lの最適値L。
は0.5〜0.6である。つまり量子化レベル数が一定
の場合にはホログラム面上で、極端に強度の太きすぎた
り、小さすぎる部分は、飽和した形で量子化すると、良
質の再生像が得られる。
1次元ホログラムについて量子化の方法を述べたが、本
発明は通常の2次元のコンピュータホログラムについて
も、もちろん適用できるものである。
以上述べてきたように、本発明に従って、干渉縞を記録
するコンピュータホログラムの量子化を行なえば、少な
い分解点数の表現手段で、高いS/Nの再生像を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、強度の量子化の特性を示すグラフで横軸はサ
ンプル点での強度、縦軸は量子化されたレベルで、コン
ピュータホログラムの開口の幅に比例する。 11は線型の対応を示すグラフで、12は本発明による
量子化の特性を示すグラフである。 13,14はそれぞれ量子化の最高点、最低点である。 第2図は、量子化の範囲の変化によって、再生像の像質
がどのように変わるかを示すグラフで、横軸は量子化の
範囲を示すパラメータLであり、縦軸は、再生像中の1
の値の平均値と00値の平均値の比である。 第3図は、第2図を得たときに用いた入力パターンであ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 物体光と参照光との干渉パターンを記録するコンピ
    ュータホログラムにおいてホログラム面上の各サンプル
    点について計算された強度の値を最高値を該強度の最大
    値よりも小さ《とり最低値を該強度の最小値よりも大き
    くとり、最高値と最低値との間を各段の高さと幅とが実
    質的に等しい階段状に量子化することを特徴とするコン
    ピュータホログラムの量子化方法。
JP10171674A 1974-09-03 1974-09-03 コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ Expired JPS5836343B2 (ja)

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JP10171674A JPS5836343B2 (ja) 1974-09-03 1974-09-03 コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ

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JP10171674A JPS5836343B2 (ja) 1974-09-03 1974-09-03 コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5129150A JPS5129150A (en) 1976-03-12
JPS5836343B2 true JPS5836343B2 (ja) 1983-08-09

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JP10171674A Expired JPS5836343B2 (ja) 1974-09-03 1974-09-03 コンピユ−タホログラム ノ リヨウシカホウホウ

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6043A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
JPS6042A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
JPS6045A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
US10757270B2 (en) 2018-02-23 2020-08-25 Ricoh Company, Ltd. Ink estimation mechanism

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6043A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
JPS6042A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
JPS6045A (ja) * 1983-06-15 1985-01-05 Shimadzu Corp 表面分析装置
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