JPS5836074B2 - 磁気ディスク基板の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気ディスク基板の製造方法に関する。

高記録密度化される磁気ディスク基板用下地基板は表面
あらさ０．０３μｍ以下の高精度加工が要求され、かつ
微小くぼみ、微小突起の出来るだけ少ないものがのぞま
れる。

本発明の加工法は砥ね加工前の陽極酸化処理をアルカリ
性液で行い、微小くぼみを出来るだけ減少させ、あわせ
て表面あらさを減少させ、その後、アルミナ系砥粒で砥
粒力ロエを行うものである。

磁気ディスク基板力日工における陽極酸化処理はアルミ
合金の素地を傷つけないために硬度を上げる中間工程で
あり、一般の陽極酸化処理における着色、耐食祥などを
目的とするものでなく、従って封孔処理は行わない。

また陽極酸化処理後の表面あらさは前工程のあらさより
粗くなるので処理後に砥粒加工で仕上げを行っている。

このため、陽極酸化処理の表面平坦度は出来る限り良好
であることが望まれる。

磁気ディスク基板の特性のうち、エラー特性の主な原因
となるのは微小くぼみである。

この微小くぼみは従来の酸性陽極酸化処理中に増加し、
表面あらさにも影響を与える。

また陽極酸化処理後の表面あらさは砥粒加工後のあらさ
にも影響する。

従来の酸性陽極酸化処理条件は液組成として、硫酸１５
％を主成分とし、添加剤として蓚酸１％を加えたもので
ある。

この場合の電流密度は０．５〜１．０Ａ／ｄ−であり、
温度は１０℃前後である。

前述の表面あらさに影響を与える微小くぼみは陽極酸化
処理中において、素材中に含まれる金属間化合物、非金
属介在物などが酸性液のため、より多く溶解すると考え
られる。

その多くは円形状であり、径は１０μｍ前後のものが多
い。

このため、微小くぼみの減少を含め、砥粒７７０工前の
表面あらさの向上のため、陽極酸化処理の改善が要求さ
れる。

本発明は磁気ディスク基板の下地卯工法としてアルカリ
性陽極酸化処理により、アルミ合金中に含まれる金属間
化合物、非金属介在物などの溶解を抑制し、微小くぼみ
の減少と表面あらさの改善を目的としたものである。

第１図は従来の製造方法を示すもので、アルミニウム合
金素材を旋削加工し、次に酸性溶液を用いて陽極酸化処
理を行った後、表面に砥粒加工を行い、磁性膜スパツタ
を行うものである。

第２図は本発明の製造方法を示すもので、第１図に示し
た従来の製造方法に比較して、陽極酸化処理において、
酸性陽極酸化処理からアルカリ性陽極酸化処理に変え、
アルミ合金中に含まれる金属間化合物、非金属介在物を
電解液中に溶解させないようにする点に特徴がある。

以下に２〜３の実験例で本発明の効果を示す。

第３図は短冊形アルミ合金（Ｍｇ５％を含有する）試験
片３個を用いた酸性およびアルカリ性液を用いた陽極酸
化処理後の表面あらさを比較したものである。

この場合のアルカリ性液の浴組成は苛性ソーダ（ＮａＯ
Ｈ）５ｇ／Ｌ，添加剤としてグリセリン５１１／ｔが含
まれている。

硫酸３０％の水溶液を用い酸性陽極酸化処理後に触針式
方法で測定した表面あらさは０．１２〜０．４４μｍで
あるのに対し、アルカリ性陽極酸化処理後の表面あらさ
は０．０８〜０．１２μｍであり良好である。

また添加剤としてグリセリンの代りにヘデリン（ Ｃ１
４Ｈ６６０１２）又はクリスタルバイオレット（Ｃ２，
Ｈ３６ＣｔＮ３）、又はアラビット（Ｃ５Ｈ１２０５）
をｏ．ｉ〜１．０％加えた場合の陽極酸化処理後の表面
あらさは０．０７〜０．１５μｍと良好である。

第４図は磁気ディスク基板のエラー特性の主因となる微
小くぼみ径（目盛入りの顕微鏡による）について陽極酸
化処理後の比較を行ったものであり、本発明の処理方法
が良好な特性を示している。

また第５図は陽極酸化処理後に（精製アルミナ？粒を用
い、粒径１μｍのものを用い）砥粒加工を実施した場合
の表面あらさを比較したものである。

酸性陽極酸化処理においては、金属間化合物などが表面
近くで溶出しているため、砥粒加工ではアルカリ性陽極
酸化処理に比較し、表面あらさは悪くなることがわかる
。

以上示したように従来の酸性陽極酸化処理に比較して、
本発明の処理方法は表面あらさおよび微小くぼみが改善
される。

本発明の処理方法において苛性ソーダは１〜３０Ｆ１／
ｔを主浴とするものであり、この範囲外では表面あらさ
、微小くぼみの改善は少ない。

また添加剤としてグリセリン又はヘデリン （Ｃ，４Ｈ６６０１）、又はクリスタルバイオレット（
Ｃ２，Ｈ３６ＣｔＮ３）又はアラビット（Ｃ，Ｈ１０，
）を０．１〜１．０％添加することは活性化の効果によ
り、良好な皮膜が得られるが、この範囲外ではその効果
は少かった。

本発明は、磁気ディスク基板のように薄いアルマイト皮
膜の高精度力ロエにおいて、アルカリ性アルマイト処理
は微小くぼみの減少を含めた表面あらさが良好であり、
その後の砥粒加工により、さらに精度を向上させる利点
がある。

これらは磁気ディスク基板のみならず通信機器用部品、
各種機械の精密な部品に多く利用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の工程図、第２図は本発明の工程図、第３
図は従来の方法と本発明の表面あらさの比較図、第４図
は従来の方法と本発明の微小くぼみの比較図、第５図は
従来の方法と本発明の砥粒加工後の表面あらさの比較図
を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ アルミ合金よりなる金属基板上に陽極酸化処理およ
   び磁性膜処理を行う磁気ディスク基板において、前記の
   陽極酸化処理として水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）１〜
   ３０ ｇ１ ｔを主浴とし、これに添加物として、グリ
   セリン又はヘデリン（Ｃ１４Ｎ｛６６０１）又はクリス
   タルバイオレット（Ｃ２，Ｈ３６ＣｔＮ３）又はアラビ
   ット（Ｃ５Ｈ１０５）を加えた電解液を用いてアルカリ
   性陽極酸化処理を行うことを特徴とする磁気ディスク基
   板の製造方法。