JPS5833188B2 - Alumina-based porcelain composition - Google Patents

Alumina-based porcelain composition

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JPS5833188B2
JPS5833188B2 JP53008795A JP879578A JPS5833188B2 JP S5833188 B2 JPS5833188 B2 JP S5833188B2 JP 53008795 A JP53008795 A JP 53008795A JP 879578 A JP879578 A JP 879578A JP S5833188 B2 JPS5833188 B2 JP S5833188B2
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alumina
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smoothness
porcelain
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安男 松下
浩介 中村
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、セラミック焼成基板例えばハイブリットlC
用基板や薄膜・厚膜用基板などのように高精度の表面平
滑性が要求されるセラミック基板に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides ceramic fired substrates such as hybrid IC
The present invention relates to ceramic substrates that require highly accurate surface smoothness, such as substrates for industrial use and substrates for thin films and thick films.

一般に、前記のセラミック基板には機械的強度及び熱伝
導率が大きく、かつ電気的絶縁性や耐熱性などが優秀で
あることが要求される。
Generally, the ceramic substrate is required to have high mechanical strength and thermal conductivity, as well as excellent electrical insulation and heat resistance.

したがってこれらの緒特性を満足させ得る基板材料とし
てはアルミナ(AI、03 )を主成分とする高アルミ
ナ系磁器が主に用いられている。
Therefore, high alumina ceramics containing alumina (AI, 03) as a main component are mainly used as substrate materials that can satisfy these characteristics.

従来この種のセラミック基板は、主成分のアル) ミ
ナに天然鉱物のタルクや粘土及び粘結剤の有機質バイン
ダなどを加え、十分に混練し、これを薄いテープ状に成
形し、さらに基板形状に打抜いた後焼成して製造される
Conventionally, this type of ceramic substrate is made by adding natural minerals such as talc, clay, and an organic binder to the main component (aluminum), thoroughly kneading it, forming it into a thin tape, and then forming it into a substrate shape. Manufactured by punching and firing.

ところで焼成した基板は、その表面に数μm程度の凹凸
があるため、高精度1 の平滑性が要求される基板とし
ては焼成した11では使用に適さない場合がある。
Incidentally, since the fired substrate has irregularities of several micrometers on its surface, the fired substrate 11 may not be suitable for use as a substrate that requires a high level of smoothness.

このため焼成後の基板に適度のラッピング、あるいはよ
り高精度の平滑性を必要とする場合にはさらにポリシン
グ仕上げを行なって、所要の平滑度を得ている。
For this reason, when the substrate after firing requires appropriate lapping or even higher precision smoothness, it is further polished to obtain the required smoothness.

本発明の目的は、従来のセラミック基板に比較して、焼
成後の基板表面の平滑性を一段と改善することにある。
An object of the present invention is to further improve the smoothness of the substrate surface after firing compared to conventional ceramic substrates.

この目的を遠戚する基板として本発明はアルミナを主成
分とする新規なセラミック基板材料を提供するものであ
る。
As a substrate that is distantly related to this object, the present invention provides a novel ceramic substrate material whose main component is alumina.

すなわち、不発; 明に係る基板材料は、アルミナ85
〜99重量優に、シリカ(Sin2 )、マグネシャ(
MgO)、カルジャ(Cab)など各種の金属酸化物を
1種類以上加えて、全量を100%とし、さらに前記の
全量に対して好1しくはフッ素の全含有量が0.3〜5
重量優になるようにフッ化物を1種類以上添加してなる
ことを特徴としている。
That is, no explosion; the substrate material according to the invention is alumina 85
~99 weight, silica (Sin2), magnesha (
One or more types of various metal oxides such as MgO and Cab are added to make the total amount 100%, and the total fluorine content is preferably 0.3 to 5 with respect to the above total amount.
It is characterized by the addition of one or more types of fluoride to increase the weight.

本発明の基板組成にお−いて、成分量を限定する理由は
次の通りである。
The reason for limiting the amount of components in the substrate composition of the present invention is as follows.

すなわちアルミナは含有量が99重量φ以上になると、
アルミナ粒間に介在するマトリックス物質層が少なくな
るため焼成表面にアルミナ粒による凹凸が現われて平滑
さが悪くなる。
In other words, when the content of alumina becomes 99 weight φ or more,
Since the matrix material layer interposed between the alumina grains is reduced, irregularities due to the alumina grains appear on the fired surface, resulting in poor smoothness.

また磁器の焼結温度が1800℃以上となり通常用いら
れている焼成方法がとれず量産的でない。
In addition, the sintering temperature of porcelain is 1800° C. or higher, making it difficult to mass-produce the porcelain because the commonly used firing method cannot be used.

一方、アル□すの含有量が85重重量上り少なくなると
、磁器表面の平滑性は得られる反面、アルミナ以外のマ
トリックス成分が多くなるため機械強度や耐熱性、熱伝
導率などが低下してアルミナ磁器の特徴が失なわれ、基
板用磁器としては適さなくなる。
On the other hand, when the content of aluminum increases or decreases by 85% by weight, the smoothness of the porcelain surface is obtained, but on the other hand, the amount of matrix components other than alumina increases, resulting in a decrease in mechanical strength, heat resistance, thermal conductivity, etc. The characteristics of porcelain are lost, making it unsuitable as substrate porcelain.

主成分のアル□すに加える金属酸化物は、アルミナ磁器
の焼結を促進するために焼結助剤として加えるもので、
磁器の焼結温度を下げるのに有効である。
The metal oxides added to the main component aluminum are added as sintering aids to promote the sintering of alumina porcelain.
It is effective in lowering the sintering temperature of porcelain.

磁器内の金属酸化物の全含有量は一義的にアルミナの含
有量によって決するが、本発明では5i021Mg09
Cart Zr02t Ti021BaOなど1種類
以上の金属酸化物1〜15重量多重量囲で加える。
The total content of metal oxides in porcelain is primarily determined by the alumina content, but in the present invention, 5i021Mg09
Add one or more metal oxides such as Cart Zr02t Ti021BaO in a range of 1 to 15% by weight.

また、本発明の特徴であるフッ素の添加は前記のアル□
すと金属酸化物からなるアルミナ系磁器の焼結を促進さ
せる効果があり、フッ素含有量が多くなるほど焼結温度
が低下する。
In addition, the addition of fluorine, which is a feature of the present invention, is
This has the effect of accelerating the sintering of alumina-based porcelain made of metal oxides, and the higher the fluorine content, the lower the sintering temperature.

しかし、磁器の組成例えば焼結助剤である金属酸化物の
種類及びその添加量によって若干の差はあるが、フッ素
含有量がアルミナと金属酸化物との全量に対して0.3
重量多以下では焼結効果が少なく、同一基板あるいは同
一製造ロット内基板で平滑度のバラツキが大きくなる。
However, although there are slight differences depending on the composition of porcelain, for example, the type and amount of metal oxides used as sintering aids, the fluorine content is 0.3% of the total amount of alumina and metal oxides.
If the weight is less than that, the sintering effect will be small and the smoothness will vary greatly between the same substrate or substrates within the same manufacturing lot.

、−!た、5重量多以上になると磁器内にガラス質が多
く形成されるため機械強度や耐熱性が悪くなるなどの傾
向が現われる。
,-! On the other hand, if the weight is 5 or more, a large amount of glass is formed in the porcelain, which tends to deteriorate the mechanical strength and heat resistance.

したがって、好ましいフッ素の含有量は0.3〜5重量
重量あるが、その中でも1〜3重量幅が特に好ましい。
Therefore, the preferable fluorine content is 0.3 to 5 weight, and a range of 1 to 3 weight is particularly preferable.

本発明に釦けるフッ素添加の主要な効果は、焼結促進作
用に伴なう粘性低下効果が著しいため磁器内での発泡と
表面への泡層の盛り上がり、いわゆるふくれ現象が少な
く、シたがって焼成後の磁器表面が非常に滑らかになる
点にある。
The main effect of fluorine addition in the present invention is that it has a remarkable viscosity reduction effect accompanying the sintering promotion effect, so there is less foaming within the porcelain and the swelling of the foam layer on the surface, the so-called blistering phenomenon. The point is that the porcelain surface becomes extremely smooth after firing.

本発明に係るフッ素含有原料としては、例えばフッ化カ
ルシウム(Ca F2 )、7ツ化バリウム(BaF
2)、フッ化マグネシウム(MgF2 )、ケイフッ化
ソーダ(Na2 SiF6 )など各種のフッ化物が
使用できる。
Examples of the fluorine-containing raw material according to the present invention include calcium fluoride (CaF2), barium heptadide (BaF2),
2) Various fluorides such as magnesium fluoride (MgF2) and sodium silicofluoride (Na2SiF6) can be used.

これらのフッ化物を添加した磁器は、その種類と添加量
によって焼結温度や磁器特性が若干異なるが、磁器表面
の平滑さに対する効果はほぼ同等である。
Although the sintering temperature and porcelain properties of porcelain to which these fluorides are added differ slightly depending on the type and amount of addition, the effects on the smoothness of the porcelain surface are almost the same.

なオー、フッ化カルシウムは天然鉱物である螢石が使用
できるが、これ以外に半導体工業で大量に使用するフッ
酸の廃液処理の副産物であるフッ化カルシウムが利用で
きる。
For calcium fluoride, fluorite, which is a natural mineral, can be used, but in addition to this, calcium fluoride, which is a by-product of hydrofluoric acid waste liquid treatment that is used in large quantities in the semiconductor industry, can be used.

次に、本発明に係る七う□ンク基板の製造方法を代表例
により説明する。
Next, a method for manufacturing a seven-inch board according to the present invention will be explained using representative examples.

出発原料は主成分のアルミナ(A 1203 ) 、
焼結助剤として例えばシリカ(S102)、マグネシャ
(MgO)などの各種金属酸化物、またフッ化物として
は例えばフッ化カルシウム(CaF2 )を用いる。
The starting raw material is the main component alumina (A 1203),
Various metal oxides such as silica (S102) and magnesia (MgO) are used as the sintering aid, and calcium fluoride (CaF2) is used as the fluoride.

これらの原料粉末は、焼成後の磁器表面が微細な結晶体
の集合した平滑な面になるよう、特に主成分のアル□す
粉は平均粒径が1μm以下の微粉末を用いるのが望まし
い。
For these raw material powders, it is desirable to use fine powders with an average particle size of 1 μm or less, especially for the main component, aluminum powder, so that the porcelain surface after firing will be a smooth surface with a collection of fine crystals.

基板を製作するには、1ず前記の各原料粉末を所定の割
合、例えばアルミナ96重量六シリカ3.7重量饅、マ
グネシャ0.3重量悌に秤量し、さらにこれらの成分の
総量100に対してフッ化カルシウムを5重量%(フッ
素含有量2.4重量%)秤量する。
In order to manufacture the substrate, first, each of the above raw material powders is weighed in a predetermined ratio, for example, 96 weight of alumina, 3.7 weight of silica, 0.3 weight of magnesha, and then 5% by weight of calcium fluoride (fluorine content: 2.4% by weight) is weighed out.

この原料粉を水あるいはエチルアルコールなどの溶媒及
び粉砕用ボールと共にアルミナ製ポットに入れ、ボール
ミルあるいは振動ミルで粒径1μm以下に粉砕・混合し
た後乾燥する。
This raw material powder is placed in an alumina pot together with a solvent such as water or ethyl alcohol and a grinding ball, and is ground and mixed in a ball mill or vibration mill to a particle size of 1 μm or less, and then dried.

次に、この混合原料粉に例えば粘結剤のポリビニールブ
チラール、可塑剤のフレクソールを溶剤例えばアゼオド
ロープ等で溶解したビヒクルを加え、十分に混練した後
グリーンシートを作り、これを所定の基板形状に打抜く
Next, a vehicle in which polyvinyl butyral as a binder and Flexol as a plasticizer are dissolved in a solvent such as azeodorope is added to this mixed raw material powder, and after thorough kneading, a green sheet is made, and this is shaped into a predetermined substrate shape. Punch out.

さらにこの打抜基板を還元雰囲気中1500°C以上の
温度で焼成する。
Further, this punched substrate is fired at a temperature of 1500° C. or higher in a reducing atmosphere.

焼成した基板は吸水率がOで良く焼結して釦り、最大表
面粗さの平均値(試料数30)は1.3μmで平滑性が
良く、機械強度、耐熱性及び電気絶縁性なども基板に要
求される特性を十分に満足した。
The fired substrate has a water absorption rate of O and is well sintered, and the average maximum surface roughness (30 samples) is 1.3 μm, which is good smoothness, and has good mechanical strength, heat resistance, and electrical insulation properties. The characteristics required for the substrate were fully satisfied.

以下に、セラミック基板の製作法に関して、本発明に係
る実施例ならびに従来法による比較例を示す。
Below, examples according to the present invention and comparative examples using conventional methods will be shown regarding the method of manufacturing a ceramic substrate.

実施例 基板の原料として、主成分のアルミナ(α−A1203
)の他に焼結助剤の金属酸化物にはシリカ(Si02
)、マグネシャ(MgO)、カルジャ(Ca0)、ジル
コニヤ(Zr02)、及びチタニャ(TiO□ )を、
またフッ素原料にはフッ化カルシウム(CaF2 )を
使用し、第1表の基板A1〜11に示す組成に配合した
The main component, alumina (α-A1203
), silica (Si02
), magnesia (MgO), karja (Ca0), zirconia (Zr02), and titania (TiO□),
Calcium fluoride (CaF2) was used as a fluorine raw material and was blended into the compositions shown in substrates A1 to A11 in Table 1.

各原料粉を所定の組成に秤量した後振動ミルで平均粒径
が1μm以下になるように粉砕混合した。
Each raw material powder was weighed to have a predetermined composition and then pulverized and mixed using a vibrating mill so that the average particle size was 1 μm or less.

この混合原料粉にポリビニールブチラール6重量多とア
ゼオドロープ40容量俤を加え、攪拌らいかい機で十分
に混練してペースト状に調整した。
6 weights of polyvinyl butyral and 40 volumes of azeodorope were added to this mixed raw material powder, and the mixture was sufficiently kneaded using a stirrer to prepare a paste.

このペースト状原料をグリーンシートに成形した後打抜
成形機で所定の基板形状にパンチングし、次にこれを焼
成炉により第1表に示す条件で焼結し、セラミック基板
を製作した。
This pasty raw material was formed into a green sheet, punched into a predetermined substrate shape using a punching machine, and then sintered in a firing furnace under the conditions shown in Table 1 to produce a ceramic substrate.

焼成後に基板の抗折強度と最高使用温度を調べ、基板表
面の平滑性を表面粗さ計で測定した結果は第1表のとち
・りである。
After firing, the bending strength and maximum operating temperature of the substrate were examined, and the smoothness of the substrate surface was measured using a surface roughness meter. The results are shown in Table 1.

比較例 第1表の比較例欄にあげた基板組成原料を振動ミルで平
均粒径1.、、m以下に粉砕混合した。
Comparative Example The substrate composition raw materials listed in the Comparative Example column of Table 1 were milled using a vibration mill to reduce the average particle size to 1. , , m or less and mixed.

この混合原料粉末にポリビニールブチラール6重量φと
アゼオドロール40容量多を加え、混練してスリップ調
整した後グリーンシートに成形し、これを基板形状に打
抜き、焼成炉で焼成してセラミック基板を製作した。
To this mixed raw material powder, 6 weight φ of polyvinyl butyral and 40 volumes of azeodrol were added, kneaded and adjusted for slip, formed into a green sheet, punched into a substrate shape, and fired in a firing furnace to produce a ceramic substrate. .

焼成後の基板表面の粗さを表面粗さ計で調べた。The roughness of the substrate surface after firing was examined using a surface roughness meter.

上記の実施例及び比較例に示したセラミック基板の焼成
表面すなわち無研摩状態での平滑さを最大表面粗さの測
定例で説明する。
The smoothness of the fired surfaces of the ceramic substrates shown in the above Examples and Comparative Examples, that is, in an unpolished state, will be explained using an example of measuring the maximum surface roughness.

最大表面粗さは表面粗さ曲線の山と谷の最大距離で示す
The maximum surface roughness is indicated by the maximum distance between the peaks and valleys of the surface roughness curve.

本発明の実施例であるフッ素含有基板の最大表面粗さは
1〜2μm程度で非常に平滑であり、無研摩の11でも
基板として十分に使用可能である。
The maximum surface roughness of the fluorine-containing substrate as an example of the present invention is about 1 to 2 μm, which is very smooth, and even unpolished substrate No. 11 can be used satisfactorily as a substrate.

さらにより以上の平滑さを要求される場合には、短時間
のラッピングやポリシングで所望の面粗さに仕上げるこ
とができる。
If even higher level of smoothness is required, the desired surface roughness can be achieved by lapping or polishing for a short time.

フッ素含有量が本発明の好ましい範囲から外れる場合、
例えばフッ素含有量0.3重量多収下の基板AIOは焼
結促進に伴なう粘性低下効果が少ないため平滑性に対す
る効果は若干低下してち・す、フッ素含有量が5重重装
以上の基板Allは基板表面の平滑性は良好であるが、
機械強度や耐熱性が若干低下している。
When the fluorine content deviates from the preferred range of the present invention,
For example, the AIO substrate with a fluorine content of 0.3 weight yield has little effect on reducing viscosity due to sintering promotion, so the effect on smoothness is slightly reduced. Although the substrate All has good smoothness on the substrate surface,
Mechanical strength and heat resistance are slightly reduced.

このように、実用上好ましいフッ素含有量は0.3〜5
重量重量節囲である。
Thus, the practically preferable fluorine content is 0.3 to 5.
It is a weight scale.

一方、従来品である前記比較例のセラ□ツク基板は、焼
成面の最大粗さが3μm以上あり、本発明になる前記実
施例の基板に比較して最大粗さが大きく平滑性が劣る。
On the other hand, the ceramic substrate of the Comparative Example, which is a conventional product, has a maximum roughness of 3 μm or more on the fired surface, and has a larger maximum roughness and inferior smoothness than the substrate of the Example of the present invention.

本発明の前記実施例中代表的なセラミック基板層6の表
面粗さ曲線を第1図に、また従来法になる前記比較例記
載の代表的なセラミック基板層12の表面粗さ曲線を第
2図に示した。
FIG. 1 shows the surface roughness curve of a typical ceramic substrate layer 6 in the embodiment of the present invention, and FIG. Shown in the figure.

図から明らかなように、基板の平滑さは従来品に比べて
本発明のフッ素含有基板の方が優れている。
As is clear from the figure, the fluorine-containing substrate of the present invention is superior in smoothness to the conventional substrate.

ハイブリットIC用、薄膜・厚膜用などのセラミック基
板の表面粗さは3μm以下であることが要求されてかり
、従来の基板は焼成後にラッピング工程が必要であるが
、以上述べたように、本発明に係るセラミック基板は、
焼成後の表面の平滑度が良く、したがって従来製法の基
板で行なわれているラッピング工程が省けるため製造工
程が簡略化され、安価に製造することができるという効
果がある。
Ceramic substrates for hybrid ICs, thin films, thick films, etc. are required to have a surface roughness of 3 μm or less, and conventional substrates require a lapping process after firing. The ceramic substrate according to the invention is
The surface after firing has good smoothness, and therefore the lapping process that is conventionally performed on substrates can be omitted, which simplifies the manufacturing process and makes it possible to manufacture at low cost.

また、本発明はセラ□ツク基板としての用途以外に例え
ば点火プラグの絶縁碍子に用いると碍子表面が滑らかな
ためエンジン内プラグ碍子脚部への燃焼物質の付着が減
少し、耐汚損性の向上が期待できる。
In addition to the application as a ceramic substrate, the present invention can also be used as an insulator for a spark plug, for example, because the insulator surface is smooth, reducing the adhesion of combustion substances to the insulator leg of a plug in the engine, improving stain resistance. can be expected.

その他表面の平滑さが要求される各種の精密スラミツク
部品などに適用できる。
It can also be applied to various precision slab parts that require smooth surfaces.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明になる代表的なセラミック基板の焼成後
の表面粗さ曲線、第2図は従来のセラミック基板の焼成
後の表面粗さ曲線である。
FIG. 1 is a surface roughness curve after firing of a typical ceramic substrate according to the present invention, and FIG. 2 is a surface roughness curve after firing of a conventional ceramic substrate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 アルミナ85〜99重量φと、1種類以上の金属酸
化物t−t5重量多重量ら成る全量100多の組成物に
対して1種類以上のフッ化物が上記組成物に添加されて
いるアルミナ系磁器組成物。 2、特許請求の範囲第1項にかいて、フッ化物中のフッ
素含有量が上記全量の0.3〜5重量重量部囲内である
ことを特徴とするアルミナ系磁器組成物。 3 特許請求の範囲第2項にかいて、フッ素含有量が1
〜3重量重量範囲内であることを特徴とするアルミナ系
磁器組成物。
[Claims] 1. One or more types of fluoride is added to the composition for a total amount of 100 or more compositions consisting of alumina 85 to 99 weight φ and one or more metal oxides t-t5 weight or more. Added alumina-based porcelain composition. 2. An alumina-based porcelain composition according to claim 1, wherein the fluorine content in the fluoride is in the range of 0.3 to 5 parts by weight based on the total amount. 3. Claim 2 states that the fluorine content is 1
An alumina-based porcelain composition characterized in that the weight is within the weight range of ~3.
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