JPS5832476B2 - 光電池及びその製造方法 - Google Patents
光電池及びその製造方法Info
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- JPS5832476B2 JPS5832476B2 JP53016671A JP1667178A JPS5832476B2 JP S5832476 B2 JPS5832476 B2 JP S5832476B2 JP 53016671 A JP53016671 A JP 53016671A JP 1667178 A JP1667178 A JP 1667178A JP S5832476 B2 JPS5832476 B2 JP S5832476B2
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/20—Light-sensitive devices
-
- H—ELECTRICITY
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- H01M14/00—Electrochemical current or voltage generators not provided for in groups H01M6/00 - H01M12/00; Manufacture thereof
- H01M14/005—Photoelectrochemical storage cells
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光電池に関する。
化石燃料エネルギー源の連続的な利用可能性についての
心配から、電気を発生させることのできる太陽エネルギ
ーを含む他のエネルギー源の開発に関心が向けられてい
る。
心配から、電気を発生させることのできる太陽エネルギ
ーを含む他のエネルギー源の開発に関心が向けられてい
る。
太陽エネルギーを電気に変換するための最もしばしば考
慮された素子は通常太陽電池と呼ばれる半導体素子で、
これは感光接合の面積に比例して光を集めそして電流を
生じさせるのでこの接合は有用な電流を生じさせるため
には大きくなければならない。
慮された素子は通常太陽電池と呼ばれる半導体素子で、
これは感光接合の面積に比例して光を集めそして電流を
生じさせるのでこの接合は有用な電流を生じさせるため
には大きくなければならない。
この様な素子の製造費用は主として感光接合の面積に依
存し、そして現在においては非常に高くつくので限られ
た特殊な用途以外のものへの太陽電池の営利的な利用は
許されていない。
存し、そして現在においては非常に高くつくので限られ
た特殊な用途以外のものへの太陽電池の営利的な利用は
許されていない。
少なからぬ努力が半導体太陽電池素子の費用の減少のた
めの方法の発見のために費やされてきた。
めの方法の発見のために費やされてきた。
この努力の多くは米国特許明細書第3953876号の
ように、半導体材料が初期の太陽電池に用いられた高価
な単結晶法により成長せられるのではなくて、高価でな
いサブストレート上に多結晶薄膜として沈積せしめられ
る素子に向けられてきた。
ように、半導体材料が初期の太陽電池に用いられた高価
な単結晶法により成長せられるのではなくて、高価でな
いサブストレート上に多結晶薄膜として沈積せしめられ
る素子に向けられてきた。
最近熱心に考えられている別の解決策は液体半導体接合
太陽電池である。
太陽電池である。
これらの電池の活性部分は半導体−液体界面に形成され
た接合である。
た接合である。
この接合は液体一固体界面に自発的にできて、この素子
は前述した単結晶又は多結晶素子に要求される、かなり
高価につくエピタキー操作又は拡散操作が接合を形成す
るために必要でないので製造が高価にならないことを約
束するからである。
は前述した単結晶又は多結晶素子に要求される、かなり
高価につくエピタキー操作又は拡散操作が接合を形成す
るために必要でないので製造が高価にならないことを約
束するからである。
二つの障害がなお残存しておりそしてこのような電池が
営利的に利用され得る前に克服されなげればならない。
営利的に利用され得る前に克服されなげればならない。
第1に、液体−半導体接合がしばしば光化学的に安定で
はなく、なぜならば光励起がレドックス電解質と反応す
ることのある半導体表面にホールを形成しそして操作時
間に伴う電池からの光電流の減衰によって明らかにされ
るような半導体表面の所望の特性を劣化させるような形
式で半導体表面を腐蝕するからである。
はなく、なぜならば光励起がレドックス電解質と反応す
ることのある半導体表面にホールを形成しそして操作時
間に伴う電池からの光電流の減衰によって明らかにされ
るような半導体表面の所望の特性を劣化させるような形
式で半導体表面を腐蝕するからである。
CdS とのこの様な反応の例はCdS+2h+S0+
Cd2+であり、これは接合界面に硫黄層の形成をもた
らす。
Cd2+であり、これは接合界面に硫黄層の形成をもた
らす。
この問題点に対する一つの対策は多硫化物−硫化物レド
ックスカップル溶液の使用である。
ックスカップル溶液の使用である。
腐蝕反応CaS + 2 h+−”Cd +++ Sは
反応S=→S+2eよりも高い電極電位で操作されるの
で、硫黄−多硫化物カップルは腐蝕反応の電位に到達す
る前に腐蝕反応に応答し得るホールを消費する。
反応S=→S+2eよりも高い電極電位で操作されるの
で、硫黄−多硫化物カップルは腐蝕反応の電位に到達す
る前に腐蝕反応に応答し得るホールを消費する。
第2に、単結晶半導体電極の費用が営利的な成功をなす
ためには余りにも高過ぎる。
ためには余りにも高過ぎる。
各種の解決策が単結晶半導体、特にカルコゲン化物、電
極の費用を減少させるために試みられてきた。
極の費用を減少させるために試みられてきた。
一つは電極材料、例えばカドミウム及びセレンな不活性
のサブストレート上に電解共沈することである。
のサブストレート上に電解共沈することである。
もう一つはカルコゲン化物半導体を形成するためにカド
ミウム又はビスマスのサブストレートを陽極酸化するこ
とである。
ミウム又はビスマスのサブストレートを陽極酸化するこ
とである。
この発明はカルコゲン化物半導体材料から形成された光
活性電極と酸化還元対を含む電解液との間に光電接合を
含み、そして光活性電極が焼結されそして金属蒸気アニ
ール処理した半導体を含む光電池を提供するものである
。
活性電極と酸化還元対を含む電解液との間に光電接合を
含み、そして光活性電極が焼結されそして金属蒸気アニ
ール処理した半導体を含む光電池を提供するものである
。
この発明は、またセレン化カドミウム、硫化カドミウム
、テルル化カドミウム、硫化ビスマス及びこれらの混合
物からなる群から選択された半導体電極を形成し、電極
及び反対電極を酸化還元対を含みそして硫化物、セレン
化物、テルル化物及びこれらの混合物からなる群から選
択されたアニオンを有する電解質中に浸漬することを含
んでおり、そして形成操作が半導体を焼結しそして金属
蒸気徐冷することを含んでいる、光電池の製造方法を提
供するものである。
、テルル化カドミウム、硫化ビスマス及びこれらの混合
物からなる群から選択された半導体電極を形成し、電極
及び反対電極を酸化還元対を含みそして硫化物、セレン
化物、テルル化物及びこれらの混合物からなる群から選
択されたアニオンを有する電解質中に浸漬することを含
んでおり、そして形成操作が半導体を焼結しそして金属
蒸気徐冷することを含んでいる、光電池の製造方法を提
供するものである。
この発明を具体化する光電池を今ここに実施例を用い、
そして添附図面を参照して説明しよう。
そして添附図面を参照して説明しよう。
図面において、
第1図は太陽スペクトルを考慮するバンドギャップの関
数としての、数種の半導体材料についての理論エネルギ
ー変換効率のグラフである。
数としての、数種の半導体材料についての理論エネルギ
ー変換効率のグラフである。
第2図は液体−半導体電池の説明図である。
第3図はこの発明によって作られたCdSe液体光電池
についての、光電流−電圧のグラフである。
についての、光電流−電圧のグラフである。
第1図は数種の半導体材料についてのエネルギー変換効
率−太陽スペクトルを考慮する半導体バンドギャップの
理想的なグラフを示している。
率−太陽スペクトルを考慮する半導体バンドギャップの
理想的なグラフを示している。
各バンド・ギャップ値についての効率範囲は異なった雰
囲気条件及び電池電圧の損失についての仮定からもたら
される。
囲気条件及び電池電圧の損失についての仮定からもたら
される。
見ることができるように、Bi253tcdse、Cd
Te及びCdSはほぼ最大のエネルギー変換効率を理論
的に可能にするバンド・ギャップを有する。
Te及びCdSはほぼ最大のエネルギー変換効率を理論
的に可能にするバンド・ギャップを有する。
第2図の電池の構造は容器20、電解質21゜反対電極
22及び活性電極23を含んでおり、そしてこの反対電
極22としては不活性材料を用いることかできこの素子
では炭素が用いられる。
22及び活性電極23を含んでおり、そしてこの反対電
極22としては不活性材料を用いることかできこの素子
では炭素が用いられる。
電極23は活性化されそして照射される場所を除いてエ
ポキシ24などで絶縁される。
ポキシ24などで絶縁される。
容器はいずれかの便宜に入手し得るガラス又はプラスチ
ックの材料から製作することができる。
ックの材料から製作することができる。
非水性電解質も用いることができるけれども、水性電解
質がこれが与える良好な電導性の故に好まれる。
質がこれが与える良好な電導性の故に好まれる。
電池の底部は図示のように入射光を通過させるべく透明
である。
である。
光電池は今しがた述べたように活性電極24としての種
々の焼結しそして蒸気アニール処理した半導体で作られ
る。
々の焼結しそして蒸気アニール処理した半導体で作られ
る。
高純度、例えば通常99.999%又はこれ以上の純度
でかつ1〜100ミクロンにわたる粒度を有する半導体
粉末が4000−psi 10000psi の範囲
の圧力の下で600°C〜11000Gの範囲の温度で
焼結される。
でかつ1〜100ミクロンにわたる粒度を有する半導体
粉末が4000−psi 10000psi の範囲
の圧力の下で600°C〜11000Gの範囲の温度で
焼結される。
得られるディスクは薄く切られそして金属蒸気によって
脱気した石英管の中で1〜120時間にわたってそして
500℃〜800℃の温度で、化学量論性が回復されそ
して所望のキャリヤ濃度に達するまで、蒸気アニール処
理される。
脱気した石英管の中で1〜120時間にわたってそして
500℃〜800℃の温度で、化学量論性が回復されそ
して所望のキャリヤ濃度に達するまで、蒸気アニール処
理される。
CdOカルコゲン化物の好ましいドープ剤はCdであり
そしてBiのカルコゲン化物のそれはBiである。
そしてBiのカルコゲン化物のそれはBiである。
望ましいドープ剤の濃度は5×1018/d以下であり
、何故ならばこの値以上では空間電荷層が余りにも薄く
て空間電荷層内のみでの光吸収を許さない。
、何故ならばこの値以上では空間電荷層が余りにも薄く
て空間電荷層内のみでの光吸収を許さない。
インジウム及び銀エポキシのような電気接点が次いで一
般的な方法でディスクに作られる。
般的な方法でディスクに作られる。
上の温度及び圧力範囲が余り精確ではないことが見い出
されている。
されている。
示した温度及び圧力は十分に高いので望む1ミクロンの
粒子よりも大きい粒子の成長を引き起こす。
粒子よりも大きい粒子の成長を引き起こす。
粒子の成長を達成するために必要な温度に加熱するに際
して、この材料がしかし材料、例えばカルコゲン化物か
らのCdの損失を通してその化学量論性を失いそしてこ
れが高い抵抗性でありそして間違ったドープ量を有して
いるのでこの時期の電極の使用は適当ではない。
して、この材料がしかし材料、例えばカルコゲン化物か
らのCdの損失を通してその化学量論性を失いそしてこ
れが高い抵抗性でありそして間違ったドープ量を有して
いるのでこの時期の電極の使用は適当ではない。
いかなる精度で何故にこの材料が金属蒸気アニール処理
の前にこれらの望ましくない性質を持つかは知られてい
ない。
の前にこれらの望ましくない性質を持つかは知られてい
ない。
可能性のある原因は化学量論性の欠乏に伴う結晶の不完
全又は用いられる高温及び高圧によってもたらされる相
転位であるかもしれない。
全又は用いられる高温及び高圧によってもたらされる相
転位であるかもしれない。
アニール処理段階は適当量の材料例えばCd又はBiを
回復しそしてその材料を適当なドープ処理されたn型半
導体にする。
回復しそしてその材料を適当なドープ処理されたn型半
導体にする。
もしもそれらが前に存在すればアニール操作もまた結晶
の不完全の数を減少させそして材料を所望の相に回復さ
せる。
の不完全の数を減少させそして材料を所望の相に回復さ
せる。
このようにアニール操作はきわどい段階でありそして1
〜140時間にわたって500℃〜700℃の温度で金
属蒸気の存在の下で遂行される。
〜140時間にわたって500℃〜700℃の温度で金
属蒸気の存在の下で遂行される。
これらの範囲内で550’C〜600℃及び10時間〜
100時間の隔たりはCd蒸気アニールに対して良い結
果を与えることが見い出された。
100時間の隔たりはCd蒸気アニールに対して良い結
果を与えることが見い出された。
高い効率は多結晶材料を用いる太陽電池において粒度が
電解質に暴される粒子の上層中に実際上すべての入射光
を吸収するに十分なだけ大きい場合にのみ得られよう。
電解質に暴される粒子の上層中に実際上すべての入射光
を吸収するに十分なだけ大きい場合にのみ得られよう。
加えてすべて効率のよい光電素子は空間電荷層の厚さが
光の吸収深さより小さくなるべきことを要求し、そして
吸収接合の個所又はその近傍における格子不整合又はデ
ィスロケーションによるトラップ(trap)は、数排
除され又は最小にされなげればならない。
光の吸収深さより小さくなるべきことを要求し、そして
吸収接合の個所又はその近傍における格子不整合又はデ
ィスロケーションによるトラップ(trap)は、数排
除され又は最小にされなげればならない。
吸収長さは粒度より小さくなげればならないが、それは
少数キャリヤが粒界に効率的に補促されるので粒子の第
1層を越えて吸収される光が光電流に有効に加わらない
ためである。
少数キャリヤが粒界に効率的に補促されるので粒子の第
1層を越えて吸収される光が光電流に有効に加わらない
ためである。
CdBe、CdTe。CdS及びBi253を含む期待
される材料の吸収長さは約1O−4−10−5cIrL
でありそして粒度1は適当である。
される材料の吸収長さは約1O−4−10−5cIrL
でありそして粒度1は適当である。
焼結によって作られた大きい粒度、通常吸収長さに比較
して10以上は焼結操作で用いられた温度及び圧力に対
して許されるかなりに大きな許容度を占める。
して10以上は焼結操作で用いられた温度及び圧力に対
して許されるかなりに大きな許容度を占める。
空間電荷層の厚さはキャリヤの敏速な分離を確保しそし
てそれらの再結合の確率を減少させるために吸収長さよ
り小さくなげればならない。
てそれらの再結合の確率を減少させるために吸収長さよ
り小さくなげればならない。
知られているように空間電荷層の厚さSは次式によって
与えられる。
与えられる。
式中においてεは半導体材料の静誘電走数、ε0は自由
空間の誘電率、JFsoは空間電荷層を横切る電圧降下
、旦は電荷そしてNl)はドナー濃度である。
空間の誘電率、JFsoは空間電荷層を横切る電圧降下
、旦は電荷そしてNl)はドナー濃度である。
接合の場所又はその近傍の格子不整合又はディスロケー
ションによるトラップはこれら電池効率を減少させるキ
ャリヤの再結合を引き越すので望ましくない。
ションによるトラップはこれら電池効率を減少させるキ
ャリヤの再結合を引き越すので望ましくない。
格子不整合の問題は本来的に液−固界面で欠いておりそ
してもしも粒子が事実上単結晶であれば、エツチングに
よって上層の表面欠陥を取り除くことができる。
してもしも粒子が事実上単結晶であれば、エツチングに
よって上層の表面欠陥を取り除くことができる。
電極がHCl及びHNO3の3=1〜4二1の混合物中
で蝕刻されて表面欠陥が取り除かれるのが望ましい。
で蝕刻されて表面欠陥が取り除かれるのが望ましい。
酸化還元電解質が電極の最小の光腐蝕で長時間にわたっ
て電池の操作を可能にすると共に、多硫化物−硫化物、
多テルル化物−テルル化物及び多セレン化物−セレン化
物レドックス電解質が長時間にわたって電池の操作を可
能にするということが見い出された。
て電池の操作を可能にすると共に、多硫化物−硫化物、
多テルル化物−テルル化物及び多セレン化物−セレン化
物レドックス電解質が長時間にわたって電池の操作を可
能にするということが見い出された。
最大の電解質濃度は溶質中に溶かされ得る最大量によっ
て決定される。
て決定される。
最小濃度は使用量の光電流を運び、しかし過度の光エッ
チングを防ぐ電解質の必要量によって決定されそして水
溶液中の既に述べたレドックス・カップルについて約0
.1モルである。
チングを防ぐ電解質の必要量によって決定されそして水
溶液中の既に述べたレドックス・カップルについて約0
.1モルである。
多硫化物−硫化物レドックス電解質、公称1モルの全硫
化物濃度とCdSe電極を備える電池の電流−電圧特性
曲線は中緯度−気団2(AM2)の正午の冬の照射に相
当する。
化物濃度とCdSe電極を備える電池の電流−電圧特性
曲線は中緯度−気団2(AM2)の正午の冬の照射に相
当する。
電池の効率は5.1%又は単結晶電極で得た値の約68
%である。
%である。
実施例
99.999%の純度と5−10cmの粒度の ※※
CdTeの粉末が650’Cで10000psiで2時
間にわたってプレスされた。
CdTeの粉末が650’Cで10000psiで2時
間にわたってプレスされた。
得られたペレットは20m〜3mの直径の粒子からでき
ていた。
ていた。
このペレットがCd蒸気を含む密閉管中で600’Cで
100時間にわたってアニール処理された。
100時間にわたってアニール処理された。
得られたペレットは公称1モルの全セレン濃度を有する
光電池に用いられた。
光電池に用いられた。
H2Seが電解質を得るためにKOHのような塩基性溶
液中に溶かされた。
液中に溶かされた。
他の塩基も用いることができるだろう。100ワツトの
タングステン・ハロゲン・ランプによる照射の下でのこ
の電池の短絡電流密度は13,3mα/dであってそし
てその開放回路電圧は0.77ボルトであった。
タングステン・ハロゲン・ランプによる照射の下でのこ
の電池の短絡電流密度は13,3mα/dであってそし
てその開放回路電圧は0.77ボルトであった。
n型CdTeの単結晶で作った太陽電池は、同じ溶液中
で、そして同じ照射の下で45.8mα/crAの短絡
電流密度及び0.76ボルトの開回路電圧を有する。
で、そして同じ照射の下で45.8mα/crAの短絡
電流密度及び0.76ボルトの開回路電圧を有する。
CdSe電極は99.999%の純度及び第1表に示す
ように5−10mの粒度より大きいCdSe材料から作
られた。
ように5−10mの粒度より大きいCdSe材料から作
られた。
電池は光束はぼAM2の条件の下で、はぼ1モルの硫化
物/多硫化物レドックス電解質及び炭素の反対電極を備
えて運転された。
物/多硫化物レドックス電解質及び炭素の反対電極を備
えて運転された。
短絡電流及び変換効率はCdSeの単結晶で得た値に関
連して与えられる。
連して与えられる。
第1図は理論エネルギー変換効率−バンドギャップのグ
ラフである。 第2図は液体−半導体光電池の説明図である。 第3図はこの発明によって作ったCdSe液体光電池に
ついての光電流−電圧のグラフである。 主要部分の符号の説明、20・・・・・・容器、21・
・・・・・電解質、22・・・・・・反対電極、23・
・・・・・電極、24・・・・・・エポキシ。
ラフである。 第2図は液体−半導体光電池の説明図である。 第3図はこの発明によって作ったCdSe液体光電池に
ついての光電流−電圧のグラフである。 主要部分の符号の説明、20・・・・・・容器、21・
・・・・・電解質、22・・・・・・反対電極、23・
・・・・・電極、24・・・・・・エポキシ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 カルコゲン化物半導体材料から作られた光活性電極
とレドックスカップルを含む電解液との間の光電接合を
含んでおり、その光活性電極は、焼結されそして金属蒸
気アニール処理された半導体を含んでいる光電池。 2、特許請求の範囲第1項の光電池においてその半導体
がセレン化カドミウム、テルル化カドミウム、硫化カド
ミウム、硫化ビスマス及びこれらの混合物からなる群か
ら選択される光電池。 3 特許請求の範囲第2項の光電池においてレドックス
カップルを含むその電解液が硫化物、セレン化物、テル
ル化物及びこれらの混合物からなる群から選択されたア
ニオンを含む溶液である光電池。 4 特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかの項の光
電池において、そのアニール処理された半導体がビスマ
ス又はカドミウム蒸気アニール処理される光電池。 5 セレン化カドミウム、硫化カドミウム、テルル化カ
ドミウム、硫化ビスマス及びこれらの混合物からなる群
から選択して半導体電極を形成し、この電極及び反対電
極をレドックスカップルを含みそして硫化物、セレン化
物、テルル化物及びこれらの混合物からなる群から選択
されたアニオンを有する電解質中に浸漬することによる
ものであり、その形成操作が半導体を焼結しそして金属
蒸気アニール処理することを特徴とする光電池の製造方
法。 6 特許請求の範囲第5項の方法において、その焼結操
作がその半導体材料を圧力4000−10000psi
において温度600−1100℃に加熱する前記方法
。 7 特許請求の範囲第5項又は第6項の方法において、
その蒸気アニール処理操作が、その半導体材料を温度5
00℃〜800°Gに加熱しそしてこの加熱された材料
を金属蒸気と接触させることを含む前記方法。 8 特許請求の範囲第7項の方法において、その金属蒸
気がビスマス又はカドミウムである前記方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/769,949 US4084044A (en) | 1977-02-18 | 1977-02-18 | Liquid-semiconductor photocell using sintered electrode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53124093A JPS53124093A (en) | 1978-10-30 |
JPS5832476B2 true JPS5832476B2 (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=25087010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53016671A Expired JPS5832476B2 (ja) | 1977-02-18 | 1978-02-17 | 光電池及びその製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4084044A (ja) |
JP (1) | JPS5832476B2 (ja) |
BE (1) | BE864054A (ja) |
CA (1) | CA1101974A (ja) |
DE (1) | DE2806880C3 (ja) |
FR (1) | FR2381392A1 (ja) |
GB (1) | GB1558746A (ja) |
IL (1) | IL54028A (ja) |
IT (1) | IT1093109B (ja) |
NL (1) | NL7801772A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61294375A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-25 | Ando Electric Co Ltd | サンプリングデ−タの発生順序判定方法 |
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JPS6033298B2 (ja) * | 1978-05-26 | 1985-08-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 電極光再生型光充電式半電池及びそれを用いた光化学電池 |
IL56621A (en) * | 1979-02-07 | 1982-08-31 | Yeda Res & Dev | Electrocatalytically active electrodes |
US4215185A (en) * | 1979-03-26 | 1980-07-29 | Rca Corporation | Liquid junction schottky barrier solar cell |
IL57908A0 (en) * | 1979-07-07 | 1979-11-30 | Yeda Res & Dev | Photovoltaic materials |
IL58441A (en) * | 1979-10-11 | 1982-11-30 | Yeda Res & Dev | Surface treatment of semiconductors for photovoltaic and photoelectro chemical applications |
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US4534099A (en) * | 1982-10-15 | 1985-08-13 | Standard Oil Company (Indiana) | Method of making multilayer photoelectrodes and photovoltaic cells |
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US6268014B1 (en) | 1997-10-02 | 2001-07-31 | Chris Eberspacher | Method for forming solar cell materials from particulars |
US8094771B2 (en) | 2003-11-21 | 2012-01-10 | Global Technologies, Inc. | Nuclear voltaic cell |
US20120298199A1 (en) * | 2011-05-26 | 2012-11-29 | Peking University | Solar cell and manufacturing method thereof |
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US3953876A (en) * | 1973-06-07 | 1976-04-27 | Dow Corning Corporation | Silicon solar cell array |
US3989542A (en) * | 1974-04-22 | 1976-11-02 | Exxon Research And Engineering Company | Photogalvanic device |
US4011149A (en) * | 1975-11-17 | 1977-03-08 | Allied Chemical Corporation | Photoelectrolysis of water by solar radiation |
-
1977
- 1977-02-18 US US05/769,949 patent/US4084044A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-02-07 CA CA296,406A patent/CA1101974A/en not_active Expired
- 1978-02-13 IL IL54028A patent/IL54028A/xx unknown
- 1978-02-13 FR FR7803993A patent/FR2381392A1/fr active Granted
- 1978-02-16 NL NL7801772A patent/NL7801772A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-02-16 IT IT20326/78A patent/IT1093109B/it active
- 1978-02-16 GB GB6145/78A patent/GB1558746A/en not_active Expired
- 1978-02-17 BE BE185247A patent/BE864054A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-17 JP JP53016671A patent/JPS5832476B2/ja not_active Expired
- 1978-02-17 DE DE2806880A patent/DE2806880C3/de not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61294375A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-25 | Ando Electric Co Ltd | サンプリングデ−タの発生順序判定方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE2806880A1 (de) | 1978-08-24 |
DE2806880C3 (de) | 1981-12-24 |
IT1093109B (it) | 1985-07-19 |
NL7801772A (nl) | 1978-08-22 |
IT7820326A0 (it) | 1978-02-16 |
BE864054A (fr) | 1978-06-16 |
US4084044A (en) | 1978-04-11 |
JPS53124093A (en) | 1978-10-30 |
DE2806880B2 (de) | 1981-04-30 |
FR2381392A1 (fr) | 1978-09-15 |
IL54028A (en) | 1980-07-31 |
CA1101974A (en) | 1981-05-26 |
IL54028A0 (en) | 1978-04-30 |
GB1558746A (en) | 1980-01-09 |
FR2381392B1 (ja) | 1980-04-18 |
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