JPS583237A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPS583237A JPS583237A JP56101113A JP10111381A JPS583237A JP S583237 A JPS583237 A JP S583237A JP 56101113 A JP56101113 A JP 56101113A JP 10111381 A JP10111381 A JP 10111381A JP S583237 A JPS583237 A JP S583237A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置KIIL、41に電力用半導体装置
の素子収納容器構造に関する・ 従来、半導体素子を半導体収納容器の取付は部にろう付
けする場合、取付は部の半導体素子取付は面が平担であ
る究め、かかる半導体装置を実際用(・る上で−・くつ
かの問題が経験された。
の素子収納容器構造に関する・ 従来、半導体素子を半導体収納容器の取付は部にろう付
けする場合、取付は部の半導体素子取付は面が平担であ
る究め、かかる半導体装置を実際用(・る上で−・くつ
かの問題が経験された。
第1図は1gt来のio!1半導体素子収納容器の基体
(ステム)K半導体素子を取付けに状能を示す。同図に
おいて(−と(b)はそれぞれ当該半導体素子収納容器
基体の平面図と断面図である。同図を参照すると、ステ
ムIKは、ガラス5によって絶綴されたリード6および
銅(Cu ) 製の素子固着部2がステム1v貫ねい
て取付けられており、該素子固着部2の上面には、半田
等のろう材3を用いて半導体素子4が65付けされてい
る。そしてかかる半導体素子4は、該半導体素子4を覆
ってステムl上に固着されるキャップ(図示せず)によ
って気書封止される。
(ステム)K半導体素子を取付けに状能を示す。同図に
おいて(−と(b)はそれぞれ当該半導体素子収納容器
基体の平面図と断面図である。同図を参照すると、ステ
ムIKは、ガラス5によって絶綴されたリード6および
銅(Cu ) 製の素子固着部2がステム1v貫ねい
て取付けられており、該素子固着部2の上面には、半田
等のろう材3を用いて半導体素子4が65付けされてい
る。そしてかかる半導体素子4は、該半導体素子4を覆
ってステムl上に固着されるキャップ(図示せず)によ
って気書封止される。
かかる装置において、電力用半導体素子4を素子固着1
12にろう材3v用いて職付ける作業は。
12にろう材3v用いて職付ける作業は。
ステム1の下方に配置された加熱体(図示しない)から
の熱によって素子固着部2上のろう材を溶かし、しかる
後半導体素子4をろう材上にのせ、半導体素子4と素子
固着部2とを数回取付は位置周辺でこすり合せる(すり
合わせまπはスクラブ)方法により行われる。しかしな
がら、かかる方法によると、電力用半導体素子のような
大きなチップの場合、第1図(blに示すごとく、ろう
材中に気泡による空隙が発生し易い、こりようなろう材
中の空隙は、ろう材の熱抵抗および過渡熱抵抗を増大さ
せ、半導体素子4に大電力を加えた時%当誼半導体素子
4が熱的KWImされる。かかる事実は、良品の歩留り
を悪くするだけでなく、半導体装置の便頼性に対して重
大な問題となる。従来技術においては、この問題に対処
するため、ろう材の厚みを必要以上に厚くすることな(
ある値以下に抑え、熱抵抗および過渡熱抵抗と断続通電
によるろう材の劣化を肪止している。しかしその再現性
、制御性には問題がありに0 本発1511 (1)目的は、上述しに従来技術におけ
る電力用半導体素子のろう材による取付は時に発生する
空隙の問題を解決するにあり、かかる目的の実!lCノ
ため1本発明によれば、半導体素子収容容器基体上に配
設された素子固着部に、ろう材により固着された半導体
素子を備えてなる半導体装置において、前記素子固着部
が中央部で最も高く周縁部に近づくに従って低(なる球
面状とされたことを特徴とする半導体装置が提供される
。
の熱によって素子固着部2上のろう材を溶かし、しかる
後半導体素子4をろう材上にのせ、半導体素子4と素子
固着部2とを数回取付は位置周辺でこすり合せる(すり
合わせまπはスクラブ)方法により行われる。しかしな
がら、かかる方法によると、電力用半導体素子のような
大きなチップの場合、第1図(blに示すごとく、ろう
材中に気泡による空隙が発生し易い、こりようなろう材
中の空隙は、ろう材の熱抵抗および過渡熱抵抗を増大さ
せ、半導体素子4に大電力を加えた時%当誼半導体素子
4が熱的KWImされる。かかる事実は、良品の歩留り
を悪くするだけでなく、半導体装置の便頼性に対して重
大な問題となる。従来技術においては、この問題に対処
するため、ろう材の厚みを必要以上に厚くすることな(
ある値以下に抑え、熱抵抗および過渡熱抵抗と断続通電
によるろう材の劣化を肪止している。しかしその再現性
、制御性には問題がありに0 本発1511 (1)目的は、上述しに従来技術におけ
る電力用半導体素子のろう材による取付は時に発生する
空隙の問題を解決するにあり、かかる目的の実!lCノ
ため1本発明によれば、半導体素子収容容器基体上に配
設された素子固着部に、ろう材により固着された半導体
素子を備えてなる半導体装置において、前記素子固着部
が中央部で最も高く周縁部に近づくに従って低(なる球
面状とされたことを特徴とする半導体装置が提供される
。
以下、添付図面を参照し【本願の発明の詳細な説明する
。
。
第2図には、本星の発明の実施例の1つが示され、同図
は、本発1511の半導体収納容器の半導体素子固着部
の断面を示す図である。
は、本発1511の半導体収納容器の半導体素子固着部
の断面を示す図である。
同図において、1はステムでこれに鋼J1f)素子固着
部12がろう付けされており、その半導体素子取付は面
はその中央部が高く、外側へ向が5にしたがって次第に
高さが低下する略球面状になり【いる。かかる半導体取
付は部に半導体素子4t−取付けるには、先ず、同図(
alに示す如く、素子固着部12上に半田等のろう材3
tのせ、ステム1の下方に配置される加熱体(図示せず
)からの熱により、ろう材3v溶融し、溶融したろう材
3の上に半導体素子4ttのせる。こVよ5Kして半導
体素子4を乗せただけではまだそれの取付は十分ではな
い、すなわち、半導体素子の自重だけでは十分に同図(
b)のような取付は状態にすることができない。そこで
ピンセットなどの工Jlllv用〜・て半導体素子4に
適当な圧力を加えて当該半導体素子4v半導体版付は部
へ向かって押し付け、同図伽)のような状態で半導体素
子を取付ける。なお、ろう材30量壷裏一定であるため
、半導体素子40大きさにより【半導体素子中央部下り
ろ5材3の厚さは(図小にムで示す)半導体素子4を押
す力によって加減できる。このような発明によれば、素
子固着部12の上面が凸面を形成しているため、ろう材
3上に半導体素子4を押しつける時、従来技術ではろう
材中に残った気泡が半導体素子4と1971部12との
外側へ押し出される。従って、従来技術の問題であつπ
空隙がなくなり、上記した問題点が解決゛され半導体装
置の信籾性が高められる。なお、かかる素子固着部12
0球面形状は通常の球面仕上げによつ【容易に形成され
5る。
部12がろう付けされており、その半導体素子取付は面
はその中央部が高く、外側へ向が5にしたがって次第に
高さが低下する略球面状になり【いる。かかる半導体取
付は部に半導体素子4t−取付けるには、先ず、同図(
alに示す如く、素子固着部12上に半田等のろう材3
tのせ、ステム1の下方に配置される加熱体(図示せず
)からの熱により、ろう材3v溶融し、溶融したろう材
3の上に半導体素子4ttのせる。こVよ5Kして半導
体素子4を乗せただけではまだそれの取付は十分ではな
い、すなわち、半導体素子の自重だけでは十分に同図(
b)のような取付は状態にすることができない。そこで
ピンセットなどの工Jlllv用〜・て半導体素子4に
適当な圧力を加えて当該半導体素子4v半導体版付は部
へ向かって押し付け、同図伽)のような状態で半導体素
子を取付ける。なお、ろう材30量壷裏一定であるため
、半導体素子40大きさにより【半導体素子中央部下り
ろ5材3の厚さは(図小にムで示す)半導体素子4を押
す力によって加減できる。このような発明によれば、素
子固着部12の上面が凸面を形成しているため、ろう材
3上に半導体素子4を押しつける時、従来技術ではろう
材中に残った気泡が半導体素子4と1971部12との
外側へ押し出される。従って、従来技術の問題であつπ
空隙がなくなり、上記した問題点が解決゛され半導体装
置の信籾性が高められる。なお、かかる素子固着部12
0球面形状は通常の球面仕上げによつ【容易に形成され
5る。
半導体素子4に大電力を加えた場合、熱の発生により素
子中央部温度が最も高(なり、まkろ5材3は銅より熱
伝導性が悪いkめ、半導体素子中央部下のろう材付近が
高温になる。しかしながら本発明の半導体素子取付は部
は取付は面が凸面を形成しているため、ろう材の厚さは
取付は部の中央、すなわち半導体素子4の中央部の下で
最も薄くなって〜・る、それによって、ろう材の熱抵抗
は中央部が最−低(半導体素子より発生する熱り放熱に
おいて効果が大きい、一方、断続通電時に起るろう材の
劣化は半導体素子外周部から中央部へと進行するが、本
発明では半導体素子の外周部はど中央部と比べろ5材の
厚さが厚くなっているため、本発明の半導体装置はこの
断続通電によるろう材の劣化に対しても耐性を有する。
子中央部温度が最も高(なり、まkろ5材3は銅より熱
伝導性が悪いkめ、半導体素子中央部下のろう材付近が
高温になる。しかしながら本発明の半導体素子取付は部
は取付は面が凸面を形成しているため、ろう材の厚さは
取付は部の中央、すなわち半導体素子4の中央部の下で
最も薄くなって〜・る、それによって、ろう材の熱抵抗
は中央部が最−低(半導体素子より発生する熱り放熱に
おいて効果が大きい、一方、断続通電時に起るろう材の
劣化は半導体素子外周部から中央部へと進行するが、本
発明では半導体素子の外周部はど中央部と比べろ5材の
厚さが厚くなっているため、本発明の半導体装置はこの
断続通電によるろう材の劣化に対しても耐性を有する。
本発明の他の実施例は第3g!1と第4図に示される。
第3図の実施例におい℃は、素子固着s12の凸m表面
に凹凸部または、すじ目&形成し、素子固着部12の放
熱面IRを大にする。かかるすじ目は通常の機械的加工
によって容易に形成することができる。
に凹凸部または、すじ目&形成し、素子固着部12の放
熱面IRを大にする。かかるすじ目は通常の機械的加工
によって容易に形成することができる。
または、第4図に示す如く、素子同着部が同一にお(・
て1rで示されるような形状のものである場合1本発明
にかかる凸画は素子固着部1rの一部に形成される。ま
た、素子同着部12派函のメッキ、または材質の違つ−
rニーのである場合、またはなんらかのあらさをもった
ものである場合(a4示せず)なども本発明に含まれる
。
て1rで示されるような形状のものである場合1本発明
にかかる凸画は素子固着部1rの一部に形成される。ま
た、素子同着部12派函のメッキ、または材質の違つ−
rニーのである場合、またはなんらかのあらさをもった
ものである場合(a4示せず)なども本発明に含まれる
。
かくして、本発明によれば、半導体収納容器C)半導体
素子取付は部におけるろう付の際の空隙の発生が減少破
しめられ、熱抵抗および過渡熱抵抗な低く安定にするこ
とが可能になり、ろう材の熱 ((1)的劣化に対して
も効果があり、Jl造工1iにおける良品の歩留りが向
上するだけでなく製品の(ITII性が^めらf′Lも
ものである。
素子取付は部におけるろう付の際の空隙の発生が減少破
しめられ、熱抵抗および過渡熱抵抗な低く安定にするこ
とが可能になり、ろう材の熱 ((1)的劣化に対して
も効果があり、Jl造工1iにおける良品の歩留りが向
上するだけでなく製品の(ITII性が^めらf′Lも
ものである。
第1図は、従来技術における半導体収納容器の概略図で
、−)はそり平WJ図、(b)は断面図、第2(b)図
を工本発q4Kかかる単導体収納容器の半導体素子取付
は部の断面間、第3図、第4図は本発明の他の実施例を
示す図である。 l・−・ステム、2.12,1τ、if・−素子固着部
、特許出原人 富士通株式会社 第1図
、−)はそり平WJ図、(b)は断面図、第2(b)図
を工本発q4Kかかる単導体収納容器の半導体素子取付
は部の断面間、第3図、第4図は本発明の他の実施例を
示す図である。 l・−・ステム、2.12,1τ、if・−素子固着部
、特許出原人 富士通株式会社 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体素子収容容器基−上に配設されπ素子固着部に、
ろう材により固着された半導体素子を備えてなる半導体
装置におい【、前記素子固着部が中央部で最も高く周縁
sK近づくに従つ【低くなる球面状とされRことを41
11とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56101113A JPS583237A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56101113A JPS583237A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583237A true JPS583237A (ja) | 1983-01-10 |
Family
ID=14292014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56101113A Pending JPS583237A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583237A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5096798A (en) * | 1978-07-28 | 1992-03-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Developing method for one-component developer |
| JP2010034278A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2020009995A (ja) * | 2018-07-12 | 2020-01-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、電力変換装置、及び半導体装置の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5466073A (en) * | 1977-11-04 | 1979-05-28 | Nec Corp | Semiconductor device |
| JPS55138243A (en) * | 1979-04-13 | 1980-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
-
1981
- 1981-06-29 JP JP56101113A patent/JPS583237A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5466073A (en) * | 1977-11-04 | 1979-05-28 | Nec Corp | Semiconductor device |
| JPS55138243A (en) * | 1979-04-13 | 1980-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5096798A (en) * | 1978-07-28 | 1992-03-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Developing method for one-component developer |
| JP2010034278A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2020009995A (ja) * | 2018-07-12 | 2020-01-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、電力変換装置、及び半導体装置の製造方法 |
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