JPS5830959B2 - 高応力ニッケルめっき方法 - Google Patents
高応力ニッケルめっき方法Info
- Publication number
- JPS5830959B2 JPS5830959B2 JP12285878A JP12285878A JPS5830959B2 JP S5830959 B2 JPS5830959 B2 JP S5830959B2 JP 12285878 A JP12285878 A JP 12285878A JP 12285878 A JP12285878 A JP 12285878A JP S5830959 B2 JPS5830959 B2 JP S5830959B2
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- Japan
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- bath
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- plating
- chloride
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規高応力ニッケルめっき方法に関する。
従来、自動車部品等に対する耐食めっきプロセスとして
、ニッケルめっきを行った後、その被膜上に高応力ニッ
ケルめっき被膜を形成し、次いでクロムめっきを行って
、クロムめっき被膜に微細クラックを形成し、これによ
り腐食電流の分散化を計るいわゆるマイクロクラックク
ロムめっき法が知られており、この方法に使用する種り
の高応力ニッケルめっき浴が提案され（特公昭４５−１
８７６６号、特公昭４６−３７６４５号、特公昭４８−
２７１８３号、特開昭４９−６２３３４号等）、実際に
ポストニッケルストライク法、ルノー法等として実用化
されている。
、ニッケルめっきを行った後、その被膜上に高応力ニッ
ケルめっき被膜を形成し、次いでクロムめっきを行って
、クロムめっき被膜に微細クラックを形成し、これによ
り腐食電流の分散化を計るいわゆるマイクロクラックク
ロムめっき法が知られており、この方法に使用する種り
の高応力ニッケルめっき浴が提案され（特公昭４５−１
８７６６号、特公昭４６−３７６４５号、特公昭４８−
２７１８３号、特開昭４９−６２３３４号等）、実際に
ポストニッケルストライク法、ルノー法等として実用化
されている。
しかし、従来のこの種の高応力ニッケルめっき浴は、こ
れを使用してマイクロクラッククロムめっき法を行った
場合、特に低電流密度部分のクラックの発生が少なく、
場合によっては殆んどクラックが発生しないこともあり
、このため低電流密度部分から比較的容易に錆が発生す
る問題があると共に、この種高応力ニッケルめっき浴で
めっきした後、クロムめっきを行う場合、クロムめっき
の゛つき渣わり″（均一被覆性）の点で問題があり、従
って複雑な形状の部品、深い窪みを有する部品に対して
十分満足した耐食性、めっき仕上りが得られない場合が
あった。
れを使用してマイクロクラッククロムめっき法を行った
場合、特に低電流密度部分のクラックの発生が少なく、
場合によっては殆んどクラックが発生しないこともあり
、このため低電流密度部分から比較的容易に錆が発生す
る問題があると共に、この種高応力ニッケルめっき浴で
めっきした後、クロムめっきを行う場合、クロムめっき
の゛つき渣わり″（均一被覆性）の点で問題があり、従
って複雑な形状の部品、深い窪みを有する部品に対して
十分満足した耐食性、めっき仕上りが得られない場合が
あった。
かつオた、従来より実用化されている高応力ニッケルめ
っき浴は、酢酸臭、アンモニア臭といった特異な臭いを
有しているため、作業環境上からも問題があった。
っき浴は、酢酸臭、アンモニア臭といった特異な臭いを
有しているため、作業環境上からも問題があった。
本発明は上記事情を改善するためなされたもので、塩化
ニッケル７０〜４００ｇ／ｌ（６水塩として）とホウ酸
３ｇ／７以上、好札くは３〜４ ｓ ｇ／ ／とを含む
浴にアルカリ土類金属の塩化物、特に塩化バリウムを５
〜２００ ｇ／ 、２の範囲で加えためつき浴を用いる
ことにより、高電流密度部分はもとより低電流密度部分
にも確実に均一かつ多数の微細クシツクを生じさせるこ
とができき＊このため全電流密度範囲に亘って高い耐食
性を有するめっき被膜を形成できると共に、クロムめっ
きのつき１わりも良好で、被めっき物の形状の如何にか
かわらず、良好な耐食性、めっき仕上り状態を有するめ
っきを得ることができ、かつ使用条件（浴組成、めっき
条件）の幅か広いため、管理も容易な上、臭いも殆んど
ないので作業環境上の問題もない新規高応力ニッケルめ
っき方法を提供することを目的とする。
ニッケル７０〜４００ｇ／ｌ（６水塩として）とホウ酸
３ｇ／７以上、好札くは３〜４ ｓ ｇ／ ／とを含む
浴にアルカリ土類金属の塩化物、特に塩化バリウムを５
〜２００ ｇ／ 、２の範囲で加えためつき浴を用いる
ことにより、高電流密度部分はもとより低電流密度部分
にも確実に均一かつ多数の微細クシツクを生じさせるこ
とができき＊このため全電流密度範囲に亘って高い耐食
性を有するめっき被膜を形成できると共に、クロムめっ
きのつき１わりも良好で、被めっき物の形状の如何にか
かわらず、良好な耐食性、めっき仕上り状態を有するめ
っきを得ることができ、かつ使用条件（浴組成、めっき
条件）の幅か広いため、管理も容易な上、臭いも殆んど
ないので作業環境上の問題もない新規高応力ニッケルめ
っき方法を提供することを目的とする。
以下、本発明につき詳しく説明する。
本発明に係る高応力ニッケルめっき方法に用いるめっき
浴は、塩化ニッケルとホウ酸とを含む浴にアルカリ土類
金属の塩化物を加えたもので、その濃度範囲、より好ま
しい濃度範囲及び標準浴組成を第１表に示す。
浴は、塩化ニッケルとホウ酸とを含む浴にアルカリ土類
金属の塩化物を加えたもので、その濃度範囲、より好ま
しい濃度範囲及び標準浴組成を第１表に示す。
塩化ニッケル、ホウ酸及びアルカリ土類金属の塩化物の
濃度範囲は第１表に示す通りであり、塩化ニッケル７０
〜４００ ’／ ホウ酸３ｇ／以上、好札くは３〜
４５“ｌ／′ｌ、及びアルカリ土類金属の塩化物５〜２
００ ’／、の範囲において、確実に多数の微細クラッ
クを形成することができるが、浴管理上から各成分濃度
を前記好ましい範囲内に設定することが望オしい。
濃度範囲は第１表に示す通りであり、塩化ニッケル７０
〜４００ ’／ ホウ酸３ｇ／以上、好札くは３〜
４５“ｌ／′ｌ、及びアルカリ土類金属の塩化物５〜２
００ ’／、の範囲において、確実に多数の微細クラッ
クを形成することができるが、浴管理上から各成分濃度
を前記好ましい範囲内に設定することが望オしい。
なお、アルカリ土類金属の塩化物としては、塩化バリウ
ム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム等の１種又は２
種以上を使用し得るが、特に塩化バリウムを使用するこ
とが好ましい。
ム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム等の１種又は２
種以上を使用し得るが、特に塩化バリウムを使用するこ
とが好ましい。
捷た、塩化アンモニウムの添加は、浴の使用電流密度範
囲を広くするもので、通常は１０ｇ／程度の濃度で用い
られるが、塩化アンモニウムの添加と共にクラックの生
成が減少する傾向にあるため、５０ ’／、を超える添
加は好札くなく、渣たこの理由からクラックを多量に生
成させる必要がある場合は、塩化アンモニウムを添加し
ないことも可能である。
囲を広くするもので、通常は１０ｇ／程度の濃度で用い
られるが、塩化アンモニウムの添加と共にクラックの生
成が減少する傾向にあるため、５０ ’／、を超える添
加は好札くなく、渣たこの理由からクラックを多量に生
成させる必要がある場合は、塩化アンモニウムを添加し
ないことも可能である。
なお、上記浴に対して光沢剤を添加することが好昔しい
。
。
光沢剤としてはサッカリン系、ブチン系等、公知のニッ
ケルめっき用光沢剤を使用することができる。
ケルめっき用光沢剤を使用することができる。
なおまた、上記の浴に硫酸ニッケル等を加えることもで
きる。
きる。
また、上記浴は、通常ｐＨ３〜５、好１しくは３〜４，
５の範囲で使用する。
５の範囲で使用する。
本発明に係る高応力ニッケルめっき浴は、室温〜６０’
Ｃ，標準約５０’Ｃの浴温、０．５〜１２Ａ／ｄｍ２、
標準約５Ａ／ｄｍ”の陰極電流密度、並びにエアー攪拌
、カソードロッカ一方式による攪拌もしくは攪拌なしの
条件で使用される。
Ｃ，標準約５０’Ｃの浴温、０．５〜１２Ａ／ｄｍ２、
標準約５Ａ／ｄｍ”の陰極電流密度、並びにエアー攪拌
、カソードロッカ一方式による攪拌もしくは攪拌なしの
条件で使用される。
その陰極電流効率は、前記標準浴組成、標準めっき条件
においてほぼ８５〜９５φである。
においてほぼ８５〜９５φである。
この高応力ニッケルめっき浴は、従来の高応力ニッケル
めっき浴と同様にマイクロクラッククロムめっきプロセ
スに用いられ、クロムめっき被膜に多数の微小クラック
を形成させて、めっきの耐食性を著しく向上させる。
めっき浴と同様にマイクロクラッククロムめっきプロセ
スに用いられ、クロムめっき被膜に多数の微小クラック
を形成させて、めっきの耐食性を著しく向上させる。
即ち、本発明浴を使用すると、高電流密度部分（２Ａ／
ｄｍ２以上）に従来浴と同等乃至それ以上の３００〜８
００本１０という多数の微細クシツクが発生すると共に
、特に従来浴ではあ１リクラツクの発生しない（場合に
より殆んどクシツクの発生しない）低電流密度部分（２
Ａ ７ｃｍ２以下）においても１００〜４００本／ｃｍ
の多数のクラックが均一に発生するこのため本発明浴の
使用により、確実に低電流密度部分にもクラックが発生
して腐食電流の分散化が良好に達成され、耐食性、殊に
低電流密度部分の耐食性が向上する。
ｄｍ２以上）に従来浴と同等乃至それ以上の３００〜８
００本１０という多数の微細クシツクが発生すると共に
、特に従来浴ではあ１リクラツクの発生しない（場合に
より殆んどクシツクの発生しない）低電流密度部分（２
Ａ ７ｃｍ２以下）においても１００〜４００本／ｃｍ
の多数のクラックが均一に発生するこのため本発明浴の
使用により、確実に低電流密度部分にもクラックが発生
して腐食電流の分散化が良好に達成され、耐食性、殊に
低電流密度部分の耐食性が向上する。
また、本発明浴を使用した場合、従来浴に比較してクロ
ムめっきのつき寸わりが改善される。
ムめっきのつき寸わりが改善される。
従って、形状の複雑な部品、深い窪みのある部品等、従
来浴の使用ではクロムめっきが十分つき１わらず、また
低電流密度部分より比較的容易に錆の発生がみられた部
品に対しても好適に使用され、このように本発明によっ
て、被めっき物の形状の如何にかかわらず、均一かつ多
数のクラックを生じせしめるため、高い耐食性を有する
めっき被膜を得ることができると共に、めっき仕上りの
良好な被膜を得ることができる。
来浴の使用ではクロムめっきが十分つき１わらず、また
低電流密度部分より比較的容易に錆の発生がみられた部
品に対しても好適に使用され、このように本発明によっ
て、被めっき物の形状の如何にかかわらず、均一かつ多
数のクラックを生じせしめるため、高い耐食性を有する
めっき被膜を得ることができると共に、めっき仕上りの
良好な被膜を得ることができる。
なお、本発明浴を上述したマイクロクラッククロムめっ
きプロセスに用いた場合、本発明浴による被膜の厚さは
０．３〜３μ、好渣しくは０．５〜２μ、標準１μで十
分その効果を発揮する。
きプロセスに用いた場合、本発明浴による被膜の厚さは
０．３〜３μ、好渣しくは０．５〜２μ、標準１μで十
分その効果を発揮する。
オた、本発明浴は各成分濃度範囲幅が広く、かつ浴温、
陰極電流密度、めっき時間（めっき厚み）等のめつき条
件の管理幅が広く、このため非常に使い易いものであり
、また上述したようにクロムめっきのつき１わりを改善
できるので、めっき作業、管理が簡単になる。
陰極電流密度、めっき時間（めっき厚み）等のめつき条
件の管理幅が広く、このため非常に使い易いものであり
、また上述したようにクロムめっきのつき１わりを改善
できるので、めっき作業、管理が簡単になる。
しかも、本発明浴は従来浴と異なり臭いが殆んどないた
め、めっき作業環境上からも好適である。
め、めっき作業環境上からも好適である。
以下実施例を示して本発明を更に具体的に説明する。
実施例 １
みがき鋼板（１０ｃｍＸ ６．５ｃｍ ）を電解脱脂、
酸洗処理した後、下記組成の光沢ニッケルめっき浴を用
いて約１４μのめっきを施し、次にノ・ルセル試験器を
使用して下記組成の高応力ニッケルめっき浴（本発明浴
）で５Ａ、１分の条件でめっきし、最後に下記組成のク
ロムめっき浴で約０．２μのめっきを行った。
酸洗処理した後、下記組成の光沢ニッケルめっき浴を用
いて約１４μのめっきを施し、次にノ・ルセル試験器を
使用して下記組成の高応力ニッケルめっき浴（本発明浴
）で５Ａ、１分の条件でめっきし、最後に下記組成のク
ロムめっき浴で約０．２μのめっきを行った。
得られためつき試験片につき、高電流密度部分（２Ａ／
ｄｍ２以上の部分）と低電流密度部分（０，５〜２Ａ／
ｄｍ２ ）に生じたクシツクの数を測定した。
ｄｍ２以上の部分）と低電流密度部分（０，５〜２Ａ／
ｄｍ２ ）に生じたクシツクの数を測定した。
光沢ニッケルめっき浴
硫酸ニッケル（６水塩） ２８０Ｆｌ／１塩化ニ
ツケル（６水塩） ４５ 〃ホウ酸
４０ 〃 サッカリン ２ 〃２−ブチンー
１，４−ジオール ０．２〃ｐＨ４，０ めっき条件 浴温 陰極電流密度 攪拌 高応力ニッケルめっき浴（本発明浴） 塩化ニッケル（６水塩） ２５０９／１ホウ酸
１０ 〃 塩化バリウム ２０ 〃塩化アンモ
ニウム １０ 〃サッカリン
２ 〃 ２−ブチンー１，４−ジオール ０．２〃ｐ Ｈ４，
０ ハルセル試験条件 浴温 電流 時間 攪拌 クロムめっき浴 無水クロム酸 三価クロム 硫酸 めっき条件 浴温 陰極電流密度 ００Ｃ Ａ １分 空気 ５０°Ｃ １５Ａ／ｄｍ２ ２５０ ｇ／１ ２、Ｏ〃 ２．５〃 ５０’Ｃ ４Ａ／ｄｍ２ 空気 また比較のため、下記組成の高応力ニッケルめっき浴（
比較浴Ａ、Ｂ）を用い、上記と同様にしてめっきを行っ
た場合のクラック発生数を調べた。
ツケル（６水塩） ４５ 〃ホウ酸
４０ 〃 サッカリン ２ 〃２−ブチンー
１，４−ジオール ０．２〃ｐＨ４，０ めっき条件 浴温 陰極電流密度 攪拌 高応力ニッケルめっき浴（本発明浴） 塩化ニッケル（６水塩） ２５０９／１ホウ酸
１０ 〃 塩化バリウム ２０ 〃塩化アンモ
ニウム １０ 〃サッカリン
２ 〃 ２−ブチンー１，４−ジオール ０．２〃ｐ Ｈ４，
０ ハルセル試験条件 浴温 電流 時間 攪拌 クロムめっき浴 無水クロム酸 三価クロム 硫酸 めっき条件 浴温 陰極電流密度 ００Ｃ Ａ １分 空気 ５０°Ｃ １５Ａ／ｄｍ２ ２５０ ｇ／１ ２、Ｏ〃 ２．５〃 ５０’Ｃ ４Ａ／ｄｍ２ 空気 また比較のため、下記組成の高応力ニッケルめっき浴（
比較浴Ａ、Ｂ）を用い、上記と同様にしてめっきを行っ
た場合のクラック発生数を調べた。
比較浴Ａ（ポストニッケルストライク浴）塩化ニッケル
（６水塩） ２５０９／１酢酸ソーダ
５０ 〃塩化アンモニウム
５ 〃サッカリン ２ 〃 ２−ブチンー１，４−ジオール ０．２〃ｐＨ４・０ ・・ルセル試験条件 浴温 ３０℃ 電流 ８Ａ 時間 ２分 攪拌 空気 比較浴Ｂ（ルノー浴） 塩化ニッケル（６水塩） １．５１／ｌ酢酸ニツ
ケル ５０ 〃塩化アンモニウム
１２０ 〃サッカリン
２ 〃２−ブチンー１．４−ジオール ０．２〃ｐ
Ｈ４，０／／ ・・ルセル試験条件 浴温 ２５°Ｃ 電流 ５Ａ 時間 １分 攪拌 、 空気 り２ツク発生数の結果を第２表に示す。
（６水塩） ２５０９／１酢酸ソーダ
５０ 〃塩化アンモニウム
５ 〃サッカリン ２ 〃 ２−ブチンー１，４−ジオール ０．２〃ｐＨ４・０ ・・ルセル試験条件 浴温 ３０℃ 電流 ８Ａ 時間 ２分 攪拌 空気 比較浴Ｂ（ルノー浴） 塩化ニッケル（６水塩） １．５１／ｌ酢酸ニツ
ケル ５０ 〃塩化アンモニウム
１２０ 〃サッカリン
２ 〃２−ブチンー１．４−ジオール ０．２〃ｐ
Ｈ４，０／／ ・・ルセル試験条件 浴温 ２５°Ｃ 電流 ５Ａ 時間 １分 攪拌 、 空気 り２ツク発生数の結果を第２表に示す。
第２表の結果より、本発明浴の使用によって高電流密度
部分のクラック数が増加すると共に、特に低電流密度部
分にり２ツクを確実に多数発生させることができ、従っ
て高耐食性めっき被膜を形成し得ることが知見された。
部分のクラック数が増加すると共に、特に低電流密度部
分にり２ツクを確実に多数発生させることができ、従っ
て高耐食性めっき被膜を形成し得ることが知見された。
実施例 ２
実施例１と同様の光沢ニッケルめっき浴、高応力ニッケ
ルめっき浴（本発明浴、比較浴Ａ、Ｂ）を用い、所定の
前処理を行ったみがき鋼板（１０ｃｍＸ ６．５ ｃｍ
）に順次光沢ニッケルめっき１４μ、高応力ニッケル
めっき１μを施した後、ノ・ルセル試験器を用いてクロ
ムめっき（実施例１と同様の浴を使用）をＩＯＡ、１分
の条件で行い、クロムめっきのつき１わりを調べた。
ルめっき浴（本発明浴、比較浴Ａ、Ｂ）を用い、所定の
前処理を行ったみがき鋼板（１０ｃｍＸ ６．５ ｃｍ
）に順次光沢ニッケルめっき１４μ、高応力ニッケル
めっき１μを施した後、ノ・ルセル試験器を用いてクロ
ムめっき（実施例１と同様の浴を使用）をＩＯＡ、１分
の条件で行い、クロムめっきのつき１わりを調べた。
その結果は、本発明浴を使用した場合はクロムめっき被
膜が４Ａ／ｄｍ２ｔで電着していたのに対し、比較浴Ａ
の場合は８Ａ／ｄｍ２、比較浴Ｂの場合は７Ａ／ｄｍ２
で、本発明浴の使用によりクロムめっきのつき捷わりを
向上させることが認められた。
膜が４Ａ／ｄｍ２ｔで電着していたのに対し、比較浴Ａ
の場合は８Ａ／ｄｍ２、比較浴Ｂの場合は７Ａ／ｄｍ２
で、本発明浴の使用によりクロムめっきのつき捷わりを
向上させることが認められた。
実施例 ３
実施例１と同様の光沢ニッケ゛ルめつき浴、高応力ニッ
ケルめっき浴（本発明浴）、クロムめっき浴を使用し、
みがき鋼板に順次光沢ニッケルめっき１４μ、高応力ニ
ッケルめっき１μ、クロムめっき０．２のめっきを施し
た。
ケルめっき浴（本発明浴）、クロムめっき浴を使用し、
みがき鋼板に順次光沢ニッケルめっき１４μ、高応力ニ
ッケルめっき１μ、クロムめっき０．２のめっきを施し
た。
得られためつき物につき、キャス試験（ＪＩＳＤ ２
０１）を３サイクル行ってその耐食性を調べた結果、レ
イテングナンバーは９．５であった。
０１）を３サイクル行ってその耐食性を調べた結果、レ
イテングナンバーは９．５であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化ニッケルを６水塩として７０〜４００９／ｌの
濃度で含むと共に、ホウ酸を３ｇ／／以上の濃度で含む
浴にアルカリ土類金属の塩化物を５〜２００ ｇ／／の
濃度で加えてなるめっき浴を用い、浴温か室温〜６０℃
、陰極電流密度が０．５〜１２Ａ／ｄｍ２の条件で電気
めっきを行なうことを特徴とする高応力ニッケルめっき
方法。 ２ めつき浴が、塩化ニッケルの濃度が６水塩として１
５０〜３００ ＆／ｌであり、ホウ酸の濃度が７〜３０
ｇ／／！であり、アルカリ土類金属の塩化物の濃度が１
０〜１００ ＆／ｌのものである特許請求の範囲第１項
記載の高応力ニッケルめっき方法。 ３ アルカリ土類金属の塩化物が塩化バリウムである特
許請求の範囲第１項又は第２項記載の高応力ニッケルめ
っキガ法。 ４ 塩化ニッケルを６水塩として７０〜４００＆／ｌの
濃度で含むと共に、ホウ酸を３ 、！９／１以上の濃度
で含む浴にアルカリ土類金属の塩化物を５〜２００ ｇ
／ｌの濃度及び塩化アンモニウムを５０９／ｌ以下の濃
度で加えてなるめっき浴を用い、浴温が室温〜６０℃、
陰極電流密度が０，５〜１２ Ａ／ ｄ ｍ２の条件で
電気めっきを行なうことを特徴とする高応力ニッケルめ
っき方法。 ５ めつき浴が、塩化ニッケルの濃度が６水塩として１
５０〜３００ （９／ｌであり、ホウ酸の濃度が７〜３
０１１／ｌであり、アルカリ土類金属の塩化物の濃度が
１０〜１００９／ｌのものである特許請求の範囲第４項
記載の高応力ニッケルめっき方法。 ６ アルカリ土類金属の塩化物が塩化バリウムである特
許請求の範囲第４項又は第５項記載の高応力ニッケルめ
っき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12285878A JPS5830959B2 (ja) | 1978-10-05 | 1978-10-05 | 高応力ニッケルめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12285878A JPS5830959B2 (ja) | 1978-10-05 | 1978-10-05 | 高応力ニッケルめっき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5550483A JPS5550483A (en) | 1980-04-12 |
| JPS5830959B2 true JPS5830959B2 (ja) | 1983-07-02 |
Family
ID=14846376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12285878A Expired JPS5830959B2 (ja) | 1978-10-05 | 1978-10-05 | 高応力ニッケルめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5830959B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4986167B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2012-07-25 | Ｔｄｋ株式会社 | 電気ニッケルめっき液およびめっき方法 |
| JP2012077324A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Tdk Corp | Ｎｉめっき液 |
| JP4906957B1 (ja) | 2010-12-07 | 2012-03-28 | 日本特殊陶業株式会社 | スパークプラグ |
-
1978
- 1978-10-05 JP JP12285878A patent/JPS5830959B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5550483A (en) | 1980-04-12 |
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