JPS5826018B2 - イオンプレ−テイング法による着色透明フオトマスクブランク材の作成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフォトマスクブランク材の製造方法に関する。

■・Ｃ製造等に用いられるフォトマスクには可視光に対
して透明であるが、紫外光に対しては不透明であること
並びに洗浄して繰り返し使用不能の為に耐摩耗性や耐薬
品性等の耐久性が良いことが要求される。

しかしながらフォトマスクの素材であるフォトマスクブ
ラング材の紫外線吸収材料としては、従来銀塩写真材料
の薄膜が用いられていたが、これは軟かく耐摩耗性が劣
っていた。

そこで耐摩耗性のよい酸化鉄薄膜をガラス基板に形成し
たブランク材が提案されているが、これは製造条件が難
しくかつ耐薬品性が悪く、洗浄に対して耐久性が悪い欠
点があった。

本発明の目的は、耐久性の良いフォトマスクブランク材
の製造方法を提供するものである。

不活性気体の雰囲気中、不活性気体に少量の酸化性気体
を含む雰囲気中、又は、不活性気体に少量の還元性気体
を含む雰囲気中で、イオンブレーティング法により、基
板に、一酸化硅素を素材とする蒸着材料を、蒸着して、
フォトマスクブランク材を製造するものであり、これに
より形成した蒸着膜は黄色から褐色であり、フォトレジ
ストが感度を有する紫外域を遮断し、かつ可視域では透
明である。

本発明による蒸着膜は主に５ｉＯ（一酸化硅素）とＳｉ
（硅素）の混合物からなっているものと思われる。

一酸化硅素を蒸着素材として一般の真空蒸着法により従
前の如く蒸着膜を作成すると生成膜は、はとんどＳｉＯ
のみでありそれは紫外光を遮断する効果がなくフォトマ
スクブランク材とはなり得なかった。

ところが本発明によるフォトマスクブランク材の蒸着膜
は、ＳｉＯの外にＳｉが含まれているので、可視光に対
しては透明であるが、紫外域に対しては遮断効果が生ず
る。

またこの蒸着膜は基板との密着性が良く、硬く、かつ耐
薬品性に優れている。

向、本発明のフォトマスクブランク材は、気体雰囲気、
蒸着速度又はイオンブレーティングの方法を変えること
により光の吸収領域や色を変えることができる。

次に実施領を説明する。

図は、以下の実施例のフォトマスクブランク材を製造し
た蒸着装置である。

図は実施例の実験を行った高周波イオンブレーティング
の装置図である。

ａ、ベルジイヤ、ｂ、基板加熱用ヒーター・ Ｃ・基板
加熱用電源、ｄ、基板、ｅ、バイアス電極、ｆ、直流高
圧電源、ｇ、コイル状電極、ｈ、高周波電源、又は、直
流高圧電源、ｉ、蒸発源（電子ビーム加熱装置）、ｊ、
電子ビームガン、ｋ、排気、１．気体導入 実施例 １ ホウケイ酸カラ又基板を両面スクラバー洗浄器で洗浄し
、これをインプロビール蒸気槽にて乾燥させる。

この基板に高周波イオンブレーティング法によってアル
ゴン中で真空度４Ｘ１０ ’Ｔｏｒｒで高周波電力ｉ
ｏｏｗで抵抗加熱法によって一酸化ケイ素を基板加熱２
００℃、バイアス１ｋＶの条件で蒸着した。

色は濃い橙色でフォトレジスト感光域の紫外光をカット
し可視域では透明であった。

実施例 ２ 雰囲気がアルゴンに少量（５％）の酸素を添加した以外
は全て実施例１と同じ条件で行った。

この結果、色は明るい橙色であった。

向、この酸素の働きは膜中のＳｉＯの含有量を増すこと
である。

実施例 ３ 実施例１と同様の洗浄処理をした基板に高周波イオンブ
レーティング法によって窒素気体に４％のアルゴンを添
加した雰囲気中で真空度５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒで高周波
人力１２０Ｗで抵抗加熱法によって一酸化ケイ素を基板
加熱２３０℃でノンバイアスの条件で蒸着した。

色はやや褐色で透明度はやや悪かった。

実施例 ４ 実施例３と同様の条件で４％のアルゴンを添加する代り
に４％の還元剤である水素を添加した雰囲気で行った。

色は褐色であった。この水素の働きは、膜中のＳｉの含
有量を増すことにある。

このようにして形成した着色透明フォトマスクブランク
材から以下の如き公知の処理によりフォトマスクを作成
できる。

即ち、接着助剤（例えば、アルキルジシラザン）をフォ
トマスクブランク材に塗布し、さらにＡＺ１３５０フォ
トレジスト（シップレイ社）を３５０Ｏｒｐｌで塗布し
た。

これに各種の形状をなしたテストパターンを既知の露光
、現像、ポストベーク法で形成した。

パターンのエツチングにはＣＦ４を含む雰囲気でプラス
マエッチング法で行った。

この様に着色透明フォトマスクブランク材にパターンを
形成して、フィルドテストした結果パターンの切れも良
く、従来のフォトマスクと比較して硬く繰り返し洗浄に
対して大きな効果のあることが判った。

実施例では高周波イオンプレーディング法で説明したが
、他のイオンブレーティング法（例えば、バラシャー法
）を用いてもよい。

本発明によれば次の如き効果がある。

１、従来の気相成長法やスパッター法に比して装置が安
い。

２、操作や蒸着条件の設定が容易である。

３、耐久性の優れた、ＩＣ回路等に適したフォトマスク
ブランク材が得られる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明のフォトマスクブランク材を作成する高周波
イオンブレーティング装置の概略図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 不活性気体に少量の還元性気体を含む雰囲気中で、
   一酸化硅素を素材とする蒸着材料をイオンブレーティン
   グにより蒸着することにより、成分が実質的に一酸化硅
   素と硅素とから成り、紫外光に対して不透明であるが可
   視光に対しては透明な着色フォトマスク用ブランク材を
   作成することを特徴とするフォトマスクブランク材の作
   成方法。 ２、特許請求の範囲第１項に記載の前記還元性気体とは
   水素である方法。 ３ 特許請求の範囲第１項又は第２項に記載のイオンブ
   レーティングは高周波イオンブレーティングである方法
   。