JPS58222177A - ブラスト用亜鉛シヨツトの製造方法 - Google Patents
ブラスト用亜鉛シヨツトの製造方法Info
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- JPS58222177A JPS58222177A JP10370282A JP10370282A JPS58222177A JP S58222177 A JPS58222177 A JP S58222177A JP 10370282 A JP10370282 A JP 10370282A JP 10370282 A JP10370282 A JP 10370282A JP S58222177 A JPS58222177 A JP S58222177A
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- Japan
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- water
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- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
に関するものである。
金属表面の清浄化法の一つとしてプラスト法がよく知ら
れている。プラスト法は、粒子な被処理物品の表面に投
射することにより表面をこ付着するスケール等を除去す
る方法であり、投射粒子としてはスチールショット、ス
テンレスカットワイヤ、アルミカットワイヤ、アルミナ
粒その能様々のものが用いられている。一般にダイカス
ト製品のショットプラストを行う場合、プラスト対象素
材に応じてプラストショツト材を変えることが望ましく
、通常はプラスト対象物と同種の金属ショットが用いら
れている。しかし、アルミダイカストや小物ダイカスト
をプラストする場合、アルミカットワイヤ（アルミニウ
ムの場合ショット化できないため線を切断したもの）で
は粉化したアルミニウムの爆発の危険性が高く、このた
めスチールショットやステンレスカットワイヤが用いら
れている。しかしながら、スチールショットを使用した
場合には粉化した鉄粉の付着により錆が発生しまたステ
ンレスカットワイヤを使用した場合にはエツジ部で深削
りとなり素材を傷つける等の問題がある。そこで、これ
らに代えて、亜鉛ショットが最近重要視されている。亜
鉛ショットは、その適度な軟らかさの故に素材を傷つけ
ることなく良好なブラスト（研掃）作用を奏し、また単
価も比較的安いことから、今後需要が増大するものと予
想される。
れている。プラスト法は、粒子な被処理物品の表面に投
射することにより表面をこ付着するスケール等を除去す
る方法であり、投射粒子としてはスチールショット、ス
テンレスカットワイヤ、アルミカットワイヤ、アルミナ
粒その能様々のものが用いられている。一般にダイカス
ト製品のショットプラストを行う場合、プラスト対象素
材に応じてプラストショツト材を変えることが望ましく
、通常はプラスト対象物と同種の金属ショットが用いら
れている。しかし、アルミダイカストや小物ダイカスト
をプラストする場合、アルミカットワイヤ（アルミニウ
ムの場合ショット化できないため線を切断したもの）で
は粉化したアルミニウムの爆発の危険性が高く、このた
めスチールショットやステンレスカットワイヤが用いら
れている。しかしながら、スチールショットを使用した
場合には粉化した鉄粉の付着により錆が発生しまたステ
ンレスカットワイヤを使用した場合にはエツジ部で深削
りとなり素材を傷つける等の問題がある。そこで、これ
らに代えて、亜鉛ショットが最近重要視されている。亜
鉛ショットは、その適度な軟らかさの故に素材を傷つけ
ることなく良好なブラスト（研掃）作用を奏し、また単
価も比較的安いことから、今後需要が増大するものと予
想される。
このような事情の下で、プラスト用亜鉛ショットの製造
方法の確立が必要とされている。プラスト用亜鉛ショッ
トとしては、鋭ったエツジ部のない球状化した形態を有
しそして１．４〜Ｉ］、７ｍφの粒寸を主体とする細粒
のものが要望され、従ってその製造方法は、この特性の
細粒を高い歩留りで安定して製造しうるちのでなければ
ならない。
方法の確立が必要とされている。プラスト用亜鉛ショッ
トとしては、鋭ったエツジ部のない球状化した形態を有
しそして１．４〜Ｉ］、７ｍφの粒寸を主体とする細粒
のものが要望され、従ってその製造方法は、この特性の
細粒を高い歩留りで安定して製造しうるちのでなければ
ならない。
本発明者は、当初、溶湯溜めのノズルから水中に溶湯を
滴下し、その際超音波を照射したり温水ジェットを噴射
して溶湯滴を分散させる方法や水面直下に溝付き回転円
盤を設け、円盤上に溶湯滴を落下させ、分散を計る方法
等を含め多くの方法を検討したが、最終的に、ブラスト
用亜鉛シ盲ツ、′。
滴下し、その際超音波を照射したり温水ジェットを噴射
して溶湯滴を分散させる方法や水面直下に溝付き回転円
盤を設け、円盤上に溶湯滴を落下させ、分散を計る方法
等を含め多くの方法を検討したが、最終的に、ブラスト
用亜鉛シ盲ツ、′。
トの製造には、水槽上に設けた１溶湯溜めからノズルを
通して水中に溶湯滴を静かに自然落下させる方法が、生
成されるショットの形状及び粒度分布の観点から最善策
であるとの結論に至った。
通して水中に溶湯滴を静かに自然落下させる方法が、生
成されるショットの形状及び粒度分布の観点から最善策
であるとの結論に至った。
上記溶湯滴水中自然落下法は、亜鉛粉末製造用に既に知
られまた使用されているものであり、操作としてはきわ
めて簡単なものであるが、所定の粒形状及び粒度分布の
ショットを得るには、溶湯温度、溶湯溜め内の溶湯深さ
、ノズル寸法、ノズル−水面距離、水温等間の綿密なコ
ントロールを必要とする。生成ショットはこれら因子に
微妙に影響を受け、所定の品質の細粒ショットを高収率
で安定して生成しうる条件の選定は思う程に容易ではな
い。
られまた使用されているものであり、操作としてはきわ
めて簡単なものであるが、所定の粒形状及び粒度分布の
ショットを得るには、溶湯温度、溶湯溜め内の溶湯深さ
、ノズル寸法、ノズル−水面距離、水温等間の綿密なコ
ントロールを必要とする。生成ショットはこれら因子に
微妙に影響を受け、所定の品質の細粒ショットを高収率
で安定して生成しうる条件の選定は思う程に容易ではな
い。
従来装置の滴下ノズルは溶湯溜め容器の底壁を穿孔して
形成されており、容器自体は耐熱・耐食金属或いは合金
製とされていた。本発明者は亜鉛溶湯のノズルを通して
の滴下状況を仔細に調査した結果、生成ショットはノズ
ル径のみならずノズル材質に非常に大きな影響を受け、
本発明の対象とする亜鉛ショツト粒に対しては金属より
セラミック製とする方がよいことを知見した。これは、
亜鉛溶湯とノズル表面との濡れ性の問題と関係するもの
と思われ、亜鉛溶湯滴がノズルから数層される際ノズル
からの亜鉛溶湯滴の切れが良好な程生成ショットは球状
化しやすくまた安定化しゃすいＯ セラミック製ノズルを使用して製造条件を検討した結果
、次の条件範囲において適正な組合せを選定することに
よりプラスト用亜鉛ショットの安定した製造が可能とな
ることが判明した：亜鉛溶湯温度 ５４０〜６
００℃Ｉ 深さ ３０Ｃ讃〜６０ｃ、ｍノ
ズル孔直径 α３〜α６Ｎ ノズル下端〜水面距離 １０關以下 水 温 ３０〜５０℃これ
ら条件範囲において最適の組合せを選定することにより
高い収量の下で安定した操業を行うことができる。例え
ば、アルミナ製ノズルを使用して、４０備深さを保持す
る５６０°Ｃの亜鉛溶湯をα４關直径のノズル孔を通し
て３篩間隔の水面に滴下すると、ｔ４〜α７ｍ径のシミ
ツトを実に９６％もの高収率（生成ショット中の該当粒
度範囲に属するものの％）でしかも安定して連続生産す
ることが可能となる。
形成されており、容器自体は耐熱・耐食金属或いは合金
製とされていた。本発明者は亜鉛溶湯のノズルを通して
の滴下状況を仔細に調査した結果、生成ショットはノズ
ル径のみならずノズル材質に非常に大きな影響を受け、
本発明の対象とする亜鉛ショツト粒に対しては金属より
セラミック製とする方がよいことを知見した。これは、
亜鉛溶湯とノズル表面との濡れ性の問題と関係するもの
と思われ、亜鉛溶湯滴がノズルから数層される際ノズル
からの亜鉛溶湯滴の切れが良好な程生成ショットは球状
化しやすくまた安定化しゃすいＯ セラミック製ノズルを使用して製造条件を検討した結果
、次の条件範囲において適正な組合せを選定することに
よりプラスト用亜鉛ショットの安定した製造が可能とな
ることが判明した：亜鉛溶湯温度 ５４０〜６
００℃Ｉ 深さ ３０Ｃ讃〜６０ｃ、ｍノ
ズル孔直径 α３〜α６Ｎ ノズル下端〜水面距離 １０關以下 水 温 ３０〜５０℃これ
ら条件範囲において最適の組合せを選定することにより
高い収量の下で安定した操業を行うことができる。例え
ば、アルミナ製ノズルを使用して、４０備深さを保持す
る５６０°Ｃの亜鉛溶湯をα４關直径のノズル孔を通し
て３篩間隔の水面に滴下すると、ｔ４〜α７ｍ径のシミ
ツトを実に９６％もの高収率（生成ショット中の該当粒
度範囲に属するものの％）でしかも安定して連続生産す
ることが可能となる。
斯くして、本発明は、亜鉛溶湯を底壁にセラミック製ノ
ズルを具備する溜め容器に保持しそして該ノズルを通し
て水中に亜鉛溶湯を滴下し、その場合亜鉛溶湯温度：５
４０〜６００°Ｃ１亜鉛溶湯深さ：５０〜（５０ＯＮ＋
、ノズル孔直径：０．５〜０．６關、ノズル下端〜水面
距＃［ｔ１０ｓｉｇ以下、水温：３０〜５０°Ｃとする
ことを特徴とするプラスト用亜鉛ショットの製造方法を
提供する。
ズルを具備する溜め容器に保持しそして該ノズルを通し
て水中に亜鉛溶湯を滴下し、その場合亜鉛溶湯温度：５
４０〜６００°Ｃ１亜鉛溶湯深さ：５０〜（５０ＯＮ＋
、ノズル孔直径：０．５〜０．６關、ノズル下端〜水面
距＃［ｔ１０ｓｉｇ以下、水温：３０〜５０°Ｃとする
ことを特徴とするプラスト用亜鉛ショットの製造方法を
提供する。
以下、本発明について詳述する。
第１図は本発明を実施する設備を示す。水槽１は溶湯滴
下部２と生成ショット抜出し部３とから構成される。溶
湯滴下部２は傾斜底壁４を具備しそして生成ショット抜
出し部３は溶湯滴下部２において生成されそして傾斜底
壁４に沿って放出される生成ショットを受取る為の、例
えばステンレス製金網カゴのような回収容器５を下端に
収納している。溶湯滴下部２の直上に溶湯溜め容器１０
が適宜の支持構造体１１によって設置されている。
下部２と生成ショット抜出し部３とから構成される。溶
湯滴下部２は傾斜底壁４を具備しそして生成ショット抜
出し部３は溶湯滴下部２において生成されそして傾斜底
壁４に沿って放出される生成ショットを受取る為の、例
えばステンレス製金網カゴのような回収容器５を下端に
収納している。溶湯滴下部２の直上に溶湯溜め容器１０
が適宜の支持構造体１１によって設置されている。
溶湯溜め容器１０は、注湯室１２と溜め室１３とに区画
され、溜め室の底壁にはノズル１５が装備されている。
され、溜め室の底壁にはノズル１５が装備されている。
溜め室１３内には溶湯温度測定用熱電対１６及び溶湯深
さａを測定する為のフロート１７が配備されている。ノ
ズル１５の下端と水面りとの間の距離がｂとして表示さ
れている。水槽１には注水管６を通して水が供給される
一方、オーバフル一部７を経て水は放出される。更に、
適宜のポンプを組込んだ循環水管路８が配設されている
。水温測定用温度計９及び水温制御用ヒータ２０が水槽
滴下部２に設けられそして投込みヒータ２１がショット
抜出し部３に設けられている。
さａを測定する為のフロート１７が配備されている。ノ
ズル１５の下端と水面りとの間の距離がｂとして表示さ
れている。水槽１には注水管６を通して水が供給される
一方、オーバフル一部７を経て水は放出される。更に、
適宜のポンプを組込んだ循環水管路８が配設されている
。水温測定用温度計９及び水温制御用ヒータ２０が水槽
滴下部２に設けられそして投込みヒータ２１がショット
抜出し部３に設けられている。
これらヒータ２０及び２１はサーミスタに接続されてい
る。
る。
溶湯溜め容器１０に於て所定の深さにそして所定の温度
に溜められた亜鉛溶湯は、ノズル１５を通してその直下
の水面に放出され、水槽１における所定温度の水によっ
て冷却・凝固されてショットとなり、回収容器に集檀す
る。
に溜められた亜鉛溶湯は、ノズル１５を通してその直下
の水面に放出され、水槽１における所定温度の水によっ
て冷却・凝固されてショットとなり、回収容器に集檀す
る。
本発明の特徴の一つに従えばノズル１５は例えばアルミ
ナ、窒化珪素、炭化珪素等のようなセラミック製とされ
る。ノズル１５の一例が第２及び３図に示してあり、こ
こでは五人形式のものである。溜め容器において用いら
れるノズルの数及び各ノズルにおけるノズル孔の数及び
配置模様は、生産速度等と関連して適宜決定されうる。
ナ、窒化珪素、炭化珪素等のようなセラミック製とされ
る。ノズル１５の一例が第２及び３図に示してあり、こ
こでは五人形式のものである。溜め容器において用いら
れるノズルの数及び各ノズルにおけるノズル孔の数及び
配置模様は、生産速度等と関連して適宜決定されうる。
ノズル１５は溜め容器１０の底壁に形成された穴にそこ
から下端をやや突出するよう嵌着される。ノズル１５に
形成されたノズル孔は第５図に示されるような輪郭を持
ち、真直な受入区画２３、遷移区画２４及びノズル孔区
画２５がら構成され、ノズル孔区画２５における直径が
生成ショット粒寸に大きく影蕃し、本明細書で天うノズ
ル孔直径を定義する。本発明Ｇこ従えば、溜め容器内の
溶湯温度は５４０〜６００°Ｃの温度に制御される。溶
湯温度が５４０°Ｃより低下すると、生成ショットが球
状化せず、線状になり易く、製造が安定化しない。
から下端をやや突出するよう嵌着される。ノズル１５に
形成されたノズル孔は第５図に示されるような輪郭を持
ち、真直な受入区画２３、遷移区画２４及びノズル孔区
画２５がら構成され、ノズル孔区画２５における直径が
生成ショット粒寸に大きく影蕃し、本明細書で天うノズ
ル孔直径を定義する。本発明Ｇこ従えば、溜め容器内の
溶湯温度は５４０〜６００°Ｃの温度に制御される。溶
湯温度が５４０°Ｃより低下すると、生成ショットが球
状化せず、線状になり易く、製造が安定化しない。
他方、６００℃を越えると、亜鉛溶湯の蒸発が増えると
共に、生成ショットの球状化及び粒度分布も安定性を欠
くようになる。
共に、生成ショットの球状化及び粒度分布も安定性を欠
くようになる。
溶湯深さはノズルを通しての溶湯の滴下の推進力として
の静圧ヘッドを与え、３０Ｃ冨より少ないと生産速度が
低下すると同時に歩留まりも悪化する。６０Ｃ１１を越
える溶湯深さは生成ショットの球状化及び粒度分布の安
定性を悪くする。
の静圧ヘッドを与え、３０Ｃ冨より少ないと生産速度が
低下すると同時に歩留まりも悪化する。６０Ｃ１１を越
える溶湯深さは生成ショットの球状化及び粒度分布の安
定性を悪くする。
ノズル孔直径は、１．４〜Ｑ、 ７ ｗφを主体とする
ショットを得るには０．３〜α６酩、好ましくはα４簡
φ前後とされる。この範囲よりノズル孔が小さいと目詰
りが生じやすくなり、逆に大きいと生成ショットが大き
くなる。
ショットを得るには０．３〜α６酩、好ましくはα４簡
φ前後とされる。この範囲よりノズル孔が小さいと目詰
りが生じやすくなり、逆に大きいと生成ショットが大き
くなる。
ノズル孔上端〜水面距離は、１ＱＩｌ１１以下でなるだ
け小さい方が好ましい。ノズル孔からの滴下溶湯はこの
距離゛が大きくなる捏水面上で受けるＩＩｆｉ撃が増大
し、扁平化しやすい。しかし、この距離をあまり小さく
すると、水面の揺れによってノズル先端が水中に浸かり
、操業の連続性を阻害する。
け小さい方が好ましい。ノズル孔からの滴下溶湯はこの
距離゛が大きくなる捏水面上で受けるＩＩｆｉ撃が増大
し、扁平化しやすい。しかし、この距離をあまり小さく
すると、水面の揺れによってノズル先端が水中に浸かり
、操業の連続性を阻害する。
ノズルの割れも起こりやすくなる。３〜５闘位の間隔が
好ましい。
好ましい。
水温は３０〜５０℃、好ましくは４０”Ｃ前後とされる
。３０℃より低いと冷却作用が強すぎ、生成ショットが
球状化し難く、他方５０°Ｃを越えると粒度の大きいシ
ョットが増え、ｔ４〜Ｑ、 ７ ｍφショットの歩留り
が低下する。
。３０℃より低いと冷却作用が強すぎ、生成ショットが
球状化し難く、他方５０°Ｃを越えると粒度の大きいシ
ョットが増え、ｔ４〜Ｑ、 ７ ｍφショットの歩留り
が低下する。
以上の条件範囲の中で、一つの因子の選定は他の因子に
微妙に影蕾を及ぼすので、最適の組合せを決定すること
が重要である。以下、第１〜３図の装置を使用して実際
に操業した結果を示す。
微妙に影蕾を及ぼすので、最適の組合せを決定すること
が重要である。以下、第１〜３図の装置を使用して実際
に操業した結果を示す。
実施例１
溶湯深さ ：４０ｃ＋ｉ
ノズル ：マコール（アルミナ）製ノズル孔径
：０．４■５穴 水面〜ノズル間隔：３瀦 を一定条件として設定し、水温と溶湯温度との関係を調
べた。水温は２５℃、４０℃、６０℃及び８０℃の４種
を試験したが、水温が２５℃の場合線状のショットが多
くなりまた操業も安定しなかった。以下に、水温４０°
Ｃ，６０”Ｃ及び８０”Ｃとしそして溶湯温度５００〜
６００’Ｃに変化した場合の生成ショットの粒度分布を
示す： 第４図は上記粒度分布において、粒径１．４〜α７ｗφ
の粒寸のショットの占める割合（歩留り）を示したグラ
フである。
：０．４■５穴 水面〜ノズル間隔：３瀦 を一定条件として設定し、水温と溶湯温度との関係を調
べた。水温は２５℃、４０℃、６０℃及び８０℃の４種
を試験したが、水温が２５℃の場合線状のショットが多
くなりまた操業も安定しなかった。以下に、水温４０°
Ｃ，６０”Ｃ及び８０”Ｃとしそして溶湯温度５００〜
６００’Ｃに変化した場合の生成ショットの粒度分布を
示す： 第４図は上記粒度分布において、粒径１．４〜α７ｗφ
の粒寸のショットの占める割合（歩留り）を示したグラ
フである。
これから、水温４０℃−溶湯温度５４０〜６００°Ｃの
組合せにおいて歩留りが８０％を越える操業が可能であ
ることがわかる。特に、水ｍ４０℃−溶湯温度５６０℃
の組合せにおいて９５％を越える歩留りが実現される。
組合せにおいて歩留りが８０％を越える操業が可能であ
ることがわかる。特に、水ｍ４０℃−溶湯温度５６０℃
の組合せにおいて９５％を越える歩留りが実現される。
生成ショットはアルミダイカストのブラスト処理に使用
して良好なものであった。
して良好なものであった。
実施例２
次の通り一定条件を設定した：
ノズル材質 ：窒化珪素（ｓｔｍＮ４ ）ノズル孔径
：０．４鴎φ ノズル部長さ：α５ｍ 水 温 ＝ ４０°Ｃ （イ） 溶湯温度５７５°Ｃそしてノズル〜水面間隔１
０ｓｓＩとして溶湯深さを変えた場合の歩留りを第５図
に示す。溶湯深さ３０〜４Ｑｃｍの範囲で９０％以上の
歩留りが得られることがわかる。
：０．４鴎φ ノズル部長さ：α５ｍ 水 温 ＝ ４０°Ｃ （イ） 溶湯温度５７５°Ｃそしてノズル〜水面間隔１
０ｓｓＩとして溶湯深さを変えた場合の歩留りを第５図
に示す。溶湯深さ３０〜４Ｑｃｍの範囲で９０％以上の
歩留りが得られることがわかる。
−（ロ） 溶湯温度５７５°Ｃそして溶抛深さを４０ｃ
ｍと一定にしてノズル−水面間隔を変えた場合の歩留り
を第６図に示す。ここでは、３〜１０１１ａｌのノズル
−水面間隔において実に１００ダに近い歩留りが得られ
ることが見られる。
ｍと一定にしてノズル−水面間隔を変えた場合の歩留り
を第６図に示す。ここでは、３〜１０１１ａｌのノズル
−水面間隔において実に１００ダに近い歩留りが得られ
ることが見られる。
（ハ） ノズル−水面間隔１０闘そして溶湯深さ４０Ｃ
Ｔ１１として、溶湯温度を変えて歩留りを測定した。こ
の場合、５６０〜６００°Ｃの温度範囲でいずれも高い
歩留りを示した。結果を第７図に示す。
Ｔ１１として、溶湯温度を変えて歩留りを測定した。こ
の場合、５６０〜６００°Ｃの温度範囲でいずれも高い
歩留りを示した。結果を第７図に示す。
生成ショットはアルミダイカストのブラスト処理に好適
に使用された。
に使用された。
このように、セラミック製ノズルを使用しそして他の操
業条件を上記範囲のうちから選定することにより、１４
〜０．７篩φの球状化ショットを１００％に近い歩留り
の下で生成しつるようになったことは、水中滴下法が従
来目標粒度のものの歩留りを仲々向上しえなかったとい
う事実を考え併せる時、実に驚くべきものである。斯く
して、プラスト用亜鉛ショットの工業的製造法が確立さ
れたことになる。
業条件を上記範囲のうちから選定することにより、１４
〜０．７篩φの球状化ショットを１００％に近い歩留り
の下で生成しつるようになったことは、水中滴下法が従
来目標粒度のものの歩留りを仲々向上しえなかったとい
う事実を考え併せる時、実に驚くべきものである。斯く
して、プラスト用亜鉛ショットの工業的製造法が確立さ
れたことになる。
第１図は本発明を実施する装置の一例を部分断面にて示
す正面図、第２図はノズルの上面図、第３図は第２図の
Ｘ−Ｘ線に沿うノズル断面図、第４図は水温と溶湯温度
が歩留りに与える影響を示すグラフ、そして第５．６及
び７図は溶湯深さ、ノズル−水面間隔及び溶湯温度が歩
留りに与える影響について示すグラフである。 １：水槽 ２：溶湯滴下部 ３ニジヨツト抜出し部 ５：回収容器 １０：溶湯溜め容器 １５：ノズル Ｌ：水面 代理人の氏名 倉 内 基 弘 同 倉 橋 暎第１図 ５６５− 第２図 第３図 −夢−フ− ８Ｂ−。 ÷９つ〆 弥鎚フ〆 Ｇ鍵フｆ
す正面図、第２図はノズルの上面図、第３図は第２図の
Ｘ−Ｘ線に沿うノズル断面図、第４図は水温と溶湯温度
が歩留りに与える影響を示すグラフ、そして第５．６及
び７図は溶湯深さ、ノズル−水面間隔及び溶湯温度が歩
留りに与える影響について示すグラフである。 １：水槽 ２：溶湯滴下部 ３ニジヨツト抜出し部 ５：回収容器 １０：溶湯溜め容器 １５：ノズル Ｌ：水面 代理人の氏名 倉 内 基 弘 同 倉 橋 暎第１図 ５６５− 第２図 第３図 −夢−フ− ８Ｂ−。 ÷９つ〆 弥鎚フ〆 Ｇ鍵フｆ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）亜鉛溶湯を底壁にセラミツタ製ノズルを具備する溜
め容器に保持しそして該ノズルを通して水中に亜鉛溶湯
を滴下し、その場合亜鉛溶湯温度：５４０〜６００℃、
亜鉛溶湯深さ： ３０〜６ ＱＣ！ｍ。 ノズル孔直径；Ｑ、３〜Ｑ、６１１１１．ノズル下端か
ら水面までの距６１ ｇ ｍｍ以下、水温＝６０〜５０
℃とすることを特徴とするプラスト用亜鉛ショットの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10370282A JPS6014052B2 (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | ブラスト用亜鉛シヨツトの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10370282A JPS6014052B2 (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | ブラスト用亜鉛シヨツトの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58222177A true JPS58222177A (ja) | 1983-12-23 |
| JPS6014052B2 JPS6014052B2 (ja) | 1985-04-11 |
Family
ID=14361082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10370282A Expired JPS6014052B2 (ja) | 1982-06-16 | 1982-06-16 | ブラスト用亜鉛シヨツトの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6014052B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58214331A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-13 | Toho Aen Kk | 亜鉛粒の製造方法 |
| JPS60190541A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-28 | Nippon Mining Co Ltd | ブラスト用亜鉛合金シヨツト及びその製造方法 |
| KR20030046048A (ko) * | 2001-12-04 | 2003-06-12 | (주) 거양 | 도금용 구상금속입자의 제조방법 및 제조장치 |
| US10486234B2 (en) | 2015-02-16 | 2019-11-26 | Uvan Holding Ab | Nozzle and a tundish arrangement for the granulation of molten material |
-
1982
- 1982-06-16 JP JP10370282A patent/JPS6014052B2/ja not_active Expired
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS60190541A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-28 | Nippon Mining Co Ltd | ブラスト用亜鉛合金シヨツト及びその製造方法 |
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| US10486234B2 (en) | 2015-02-16 | 2019-11-26 | Uvan Holding Ab | Nozzle and a tundish arrangement for the granulation of molten material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6014052B2 (ja) | 1985-04-11 |
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