JPS58217559A - 分散ベ−ス組成物 - Google Patents

分散ベ−ス組成物

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JPS58217559A
JPS58217559A JP57101025A JP10102582A JPS58217559A JP S58217559 A JPS58217559 A JP S58217559A JP 57101025 A JP57101025 A JP 57101025A JP 10102582 A JP10102582 A JP 10102582A JP S58217559 A JPS58217559 A JP S58217559A
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plasma
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resin
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桑原 利秀
Mitsuo Kiura
木卜 光夫
Seishiro Ito
征司郎 伊藤
Tatsuhiko Ihara
辰彦 井原
Shoji Ikeda
池田 承治
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Nippon Paint Co Ltd
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KINKIDAIGAKU
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は顔料分散ベース組成物に関するものである。さ
らに詳しくはプラズマ処理を施された有機顔料を必須構
成成分として、極性を有する樹脂及び/又は極性を有す
る溶剤中で分散せしめて成る顔料分散性に優れた特色を
有する分散ベース組成物に関するものである。
近年、高級有機顔料の開発はめざましい進歩を遂げてお
り、鮮映性、着色ツバ透明性、堅牢性等に特に優れた有
機顔料が市場に供されている。
しかし、かかる有機顔料の多くは分散性が悪く分散ベー
スの製造にあたっては、特殊な分散機を用いたり激しい
!l′J断下で長時間の分散を行う等著しい労力を必要
とする問題を有していた。
これは当該有機顔料の表面が非極性な為、分散ベース製
造の際に用いられる樹脂及び/又は溶剤との親和性が乏
しく、従って顔料の儒れが悪い為、所定の分散度を得る
には分散に際して大きなエネルギー又は長い分散時間を
必要とする為である。
かかる有機顔料の表面を極性化する手段として通常の湿
式表面処理法があるが、該処理法で1−i顔料の薄層処
理が困難で、顔料固有の性質を変イヒさせる危険があり
、従って堅牢性等の劣化をもたらす場合がある一方、湿
式表面処理法では乾燥行程等の後処理行程を必要とし時
間及び労力、経費のかさむ等の欠点があった。
一方近年プラズマによる照射処理技術が発達し、例えば
カーボンブラックをプラズマ処理することにより、カー
ボンブラックの表面皮層にカルボキシル基、カルボキル
基、水酸基などの極性基を導入することが出来、これに
より表面に極性を付与せしめ、かつ顔料固有の性質を殆
ど変化させないことなどが知られてきた。
本廃明者らはかかる点に着目し、プラズマによる表面処
理技術を各種有機顔料に対して応用し、有機顔料の表面
に極性を付与すれば極性を持った樹脂及び/又は極性を
持った溶剤中での顔料の濡れが改善され、従って顔料の
分散性が改善されるであろうと考え、鋭意研究の結果本
発明に到達した。
本発明に於て顔料の処理に使用されるプラズマは低温プ
ラズマに属し、該プラズマは低周波及び高周波領域での
グロー放電等により発生させることが出来る。
この様なプラズマを用いて顔料を処理する場合、通常の
プラズマ処理装置を利用しても充分な処理効果が得られ
る。
プラズマ気体としては空気、水素、酸素、アンモニア、
二酸化炭素、四フッ化炭素、窒素、アルゴン、ヘリウム
等の反応性又は非反応性の気体を用いることが出来る。
プラズマ処理に於ける処理槽内の真空度は0.01〜1
0 mmJlg、好ましくは0.05〜5關1−1g 
である。
プラズマ処理装置内で発生したプラズマを用いて顔料を
処理する場合、均一な処理を行なう為には通常、顔料を
攪拌しながら処理することが望ましい。
処理時間は顔料の色相変化、耐候性等に悪影響を及ぼさ
ない範囲で行なう必要があり、更に用いるプラズマ気体
の種類、プラズマ□の出力、処理される顔料の種類等に
よっても適切な処理時間を選択する必要がある。
処理される顔料としては塗料、インキ、プラスチソク工
業等で通常使用される有機顔料が用いられ例えばアゾ系
顔料イルガジンレッドLT(チバ社N)、/バパームエ
ロー1110G(ヘキスト社’H)。
モノライトレッドBル(ICHi製)等。
ポリ縮合アゾ系顔料クロモフタルレッドA2E(チバ社
製)、モノライトエロー4G、(ICI社製)等。
メタルコンプレックスアゾ系顔料イルガジンエロ−5G
T(チバ社製)、バリオトールエロー1770(BAS
li’社製)等。ベンゾイミダゾロン系顔料ホスタパー
ムエローII 3 G (ヘキスト社製)、ホスタパー
ムオレンジI−I L 70 (ヘキスト・社製)、/
バパームオレンジHL (ヘキスl−社製)等。
キナクリドン系顔料/ンカ/ヤレノドY(デュポン社製
)、シンカンヤバイオレット(デュポン社製)、 ホス
タμパームレッド(ヘキスト社製)パリオーゲンレツド
(B A S F社製)、モノライトバイオレット(I
C’I社製)等。インインドリノン系顔料イルガジンエ
ロ−2RLT(チバ社製)。
バリトールエロー2140 )i I) (B A S
 li’社軸)等。キノフタロン系顔料バリオトールエ
ロー0.960I(D (B A S 1Ql )等。
ペリノン系顔料オスタパームオレ/ジOR(ヘキスト社
!り等。ペリレン系顔料イルガジンレノドB P T 
(チバ社製)。
ツバパームレッドBL(ヘキスト社製)、ハリオーダ/
レッド3910 (B A S F社製)等。ジオキサ
ジン系M14クロモフタルバイオレット(チバ社製)、
ホスターパームバイオレy t−1L L (−キスト
l)”F。フタロ/アニン系顔りクロムフタル7’ルー
4ON (チハ社製)、ボスタバームブル−B3G(ヘ
キスト社製)、7ノカ/ヤブルーCUIパ(デユーボッ
社製)、クロモフタルグリ−70F(チバ社製)、ホス
タパームグリーンGG(ヘキスト社製)、77カ/ヤ1
3 (デュポン社製)等。
チオインジゴ系顔料ノバパームレノドバイオレノトへ目
tS(ヘキスト社製)、チオファーストレッドMvE6
606(BASF社製)等。アンスラキノン系り料クロ
モフタルレッドA3]3(チバ社製)等。フラバ/スロ
ン系顔料クロモフタルエローA2R(チバ社製)、モノ
ライトエローF It(ICI社製)等。インゲンスレ
ン系顔料クロモフタルブルーA 3 R(チバ社製)、
モノライトブルー31%(ICiI社製)、スレンブル
ー6011(大13本インキ社製)等。アンスラピリミ
ジン系顔料パリオーゲンエロ−1560(BASF社製
)等。アンスアンスロン系顔旧モノライトレッド2Y(
ICI社製)、モノライトレッドY(ICI社製)、ホ
スタパームスカーレツ)Go(ヘキスト社製)等。ピラ
ンスロン系顔料パリオーゲンレツド3530 (B A
 S F社製)等。などの各種有機顔料があげられる。
本発明における顔料分散ベース組成物は、上記方法によ
りプラズマ処理された有機顔料の一種又は二種以上に、
さらに必要に応じてプラズマ処理されていない各種顔料
を一種以上加えて、極性を有する樹脂及び/又は極性を
有する溶剤、さらに必要に応じて極性を有しない樹脂或
は極性を有しない溶剤を加えて上記顔料を分散せしめる
ことにより得ることが出来る。
ここで上記極性とは、例えばカルボキシル基、カルボニ
ル基、ニトロ基、水酸基、アミン基、ア、ミド基、ハロ
ゲン基、エステル結合、エーテル結合等に起因して得ら
れる性質を意味し、この様な極性を有する樹脂として例
えばポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ビニール樹脂
(アクリル樹脂を含む)、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂
、ポリアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂等があげら
れる。
極性を有する溶剤としては、メタノール、ブタノール等
のアルコール系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル系溶剤、MEK 、MIBK等のケトン系溶剤、さ
らに其の他の溶剤として2−ニトロプロパン、メチレン
クロライド、ジメチルホルムアミド、水等をあげること
が出来る。
又本発明に於ける分散ベース組成物の必須構成成分では
ないが必要であればポリスチレン、ポリブタジエX、ポ
リエチレン等の極性を有しない樹脂、及ヒベンゼン、ト
ルエン、キシレン、混合炭化水素系溶剤(例えばツルペ
ッツ、スワゾール等の商品名で市販されている溶剤)等
の極性を有しない溶剤も用いることが出来るる さてかかる方法によりプラズマ処理された有機顔料の分
散性能に及ぼすプラズマ処理効果は分散配合に於ける該
処理顔料の含有率が分散ベースに対して05〜60重量
%の範囲で有効に発揮される。
但し分散ベース中の全顔料に対してプラズマ処理顔料が
10重量係以下では其の効果を充分に発揮することが出
来ない。
分散は通常の分散機例えばザンドグラインドミル分散機
、ハイスピードディスパー分散機、ロールミル分散機、
プラネタリ−ミキサーボールミル分散機等を用いて行な
うことが出来る。
かくして得られた分散ベース組成物ではプラズマ処理顔
料が極性を有する樹脂及び/又は極性を有する溶剤と良
好な相互作用を有する為に、分散速度、更には分散品の
光沢、粘度等において未処理顔料を用いた分散品に比較
して良好な性能を有する。
本発明に於ける分散ベース組成物は通常、樹脂及び/又
は溶剤で希釈して塗料、インキ、プラスチック成形品等
の製品として利用されるが、塗料インキに於ては製品状
態に於ける流動特性等に、また使用に供した場合の作業
性等に優れている。
又これらを塗膜した場合及びプラスチック成形品−に於
ては表面の光学的特性、例えば光沢、鮮映性等に、又物
理的諸性質、例えば硬度、可撓性等に、さらに耐久性能
、例えば強度、耐候性等に優れた特色を有することが出
来る。
なお、上記の様な優れた諸性質を製品に維持する為には
塗料、インキ、プラスチック等の製品中に於けるプラズ
マ処理顔料の全顔料に対する含有率は10重量係以上で
あることが好ましい。
以下、本発明を実施例をあげて説明する。実施例中、部
或は係は特にことわらない限り重量による。
実施例1 シンカシャレッドY(デュポン社製)をプラズマ炭化装
置LTA−4SN型(柳本製作所■製)を用いて真空度
tommnyを保つよう空気100td/minを通じ
て高周波(13,56MLIZ )をかけ出力10Wで
プラズマを発生させ、プラズマ状態を維持し乍ら120
分処理を行った。処理された顔料20部にヤシ油変性ア
ルキッド樹脂(酸価8.08価80、固型分60重量%
)40部、溶剤としてツルペッツ−100(エッソスタ
ンダード社製)40部を加えSGミルで3時間分散して
分散ペーストを製造した。比較の為未処理顔料について
も同様にしてペーストを製造した。各ペーストの粘度を
表1に示す。粘度はコーンプレート型粘度計(E型粘度
計、東京計器@)を用いて測定した。
表   1 プラズマ処理することにより分散品はニュートン性流動
を示し好ましい性質を有していることがわかる。
各ペースト100部にさらに分散時に用いたアルキッド
樹脂90部、メラミン樹脂ニーパン128(三井東圧■
製)45部を加え焼付タイプのアルキッド樹脂塗料を製
造した。
各塗料を希釈溶剤でスプレー塗装粘度に希釈しブリキ板
0.3x50x150閂(日本テストパネル工業■製)
にスプレー塗装を行った。140°Cで30分間焼付け
て20鏡而光(尺および鮮映性を比較した。結果を表2
に示す。
光沢は村上式光沢計G M−3AI型、更に鮮映性は目
視で判定した。
表  2 プラズマ処理することにより光沢、鮮映性ともに優れた
塗膜を得ることが出来だ。
実施例2 実施例1と同様の条件でホスタパームエロ−I■−3G
(ヘキスト社製)のプラズマ処理を行った。
プラズマ処理顔料20部に通常のアクリル樹脂(酸f+
Ili l 3、on価65、固型分50係)60部、
溶剤としてMIBK20部を加えS G ミ/しで3時
間分散して分散ペーストを製造した。
比較の為、未処理のH−3Gについても同様にしてペー
ストを製造した。
各ペースト100部に分散時に用いたアクリル樹脂10
8部、メラミン樹脂ニーパン128(三井東圧■製)4
5部を加え焼付タイプのアクIJ )し樹脂塗料を製造
した。各塗料を希釈溶剤でスプレー塗装粘度に希釈しブ
リキ板0.3x50x150間(日本テストパネル工業
■製)にスプレー塗装を行なった。140°Cで30分
焼付けて鮮映性及び20鏡面光沢を比較した。結果を表
3に示す。
光沢、鮮映性ともにプラズマ処理顔料を用いた方が優れ
ていた。
実施例3 実施例1と同様の条件でツババームオレンジ用。
−70(ヘキスト社製)にプラズマ処理を行った。
上記処理顔料及び比較の為末処理顔料各6部にそれぞれ
ポリエステル樹脂ファインティックき1−6170(犬
ロ本インキ化学帳3製)60部、エボキ/樹脂エビツー
)]004(/エル化学(9製)40部を加え常法によ
りトライブレンドを行った。
シカる後ブスコニーダ−(ブス社製)を用い100°C
でメルトブレンドを行ない冷却後粉砕して粒子径50 
tt以下の粉末組成物を得た。それぞれをブリキ板0.
3X50X150ffiM(日本テストパネル工業■製
)に膜厚50μになるよう静電塗装して170”Cで3
0分間焼付けを行なつ〆。各塗膜の60鏡面光沢および
鮮映性を比較した。結果を表4に示す。
表4 光沢、鮮映性ともにプラズマ処理顔料をJI]いた方が
優れていた。
特W「出願人  学校法人 近畿大学 特許出願人  日本ペイント株式会社 2  代理人 弁理士(8290)小川−臣、′□“手
続補正書 特許庁長官 バー杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和57年  持ir、  y4第101025号2発
IJ+の名称 分散ベース組l戊杓3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 6 補正により増加する発明の数 1叫紹1山第2貞、第19行目 場合かある一方、とあるを、句点を挿入して、場αがあ
る。一方、と訂正する。
第9頁、10行1」、 プラネクリーミギ丈−ボールミルとあるを読点を押入し
、プラネタリ−ミキサー、ボールミルと訂正する。
第10匹、第17行[1、 炭化装首とあるを1字訂正し、灰化装j1qとする。
曖 手  続  袖  正  1■ 昭和58年2月16日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1 事件の表示 昭和57年特許願第101025号 2、発1男の名称 分散ベース組成物 3 補正をする者 事件との関係  特許出願人 住  所  大阪市大淀区犬淀北2丁目1番2号1、代
理人〒542電(06)262−0500住  °所 
 大阪市南区南船場2−2−28順慶ビル氏  名  
弁理士(8290)  小 川 −臣、、、  ゛。
5 補正命令の日付   自発 3 補正により増加する発明の数 8補正の内容 (1)明細書第3頁第16行目〜第19行目を削除し下
記の如く訂正する。
本発明に於て顔料の処理に使用されるプラズマは低温プ
ラズマに属す。プラズマは分子の解離状態のガスで、こ
の解離を起こさせる外的条件として、高温を用いる場合
を高温プラズマと称し、温度は数千度から数万度に達す
る。一方低温プラス。
マでは、温度以外の手段で、低温で解離分子を維持し、
プラズマ表面処理、プラズマ処理などに応用される。
この様な低温プラズマを発生する電源と【では、高層’
11、マイクロウェーブ、直流、交流など、また放電の
形式としては、誘導負荷、容量負荷によるグロー放電、
コロナ放電、ボクサーチャージャーなどがある。
(2)第4頁第5行目「非反応性の〜」より同第8行目
を削除し、下記の如く訂正する。
非反応性の気体またはこれら気体の2種以上の混合物を
用いることができる。プラズマ処理に於て低圧で処理す
る場合には、処理槽内の真空度は、0.01〜1omM
I(L好ましくは0.05〜5 mMHgである。
一方、電圧で処理する場合には、人気中でそのまま、捷
たは処理気体を被処理物質と接触させる様にして処理す
ることができる。
(3)明細書末尾(第15頁第3行目製−「)に次の事
項を追加する。
実施例4 シン力ンヤレッドY(デュポンU−製)を、プラクティ
ブライン(三協電業(掬製)を用いて、交流電圧下、大
気中でプラズマ処理した。処理された顔料20部を実施
例1で用いたヤシ油変性プルキッド樹脂40部、溶剤と
してツルペッツ−100(エッソ不タンダード社製)4
0部を加え、実施例1と同様にして、SOミルで3時間
分散して分散ペーストを製造した。ペーストの粘度をコ
ーンプレート型粘度計(E型粘度計、東京計器(閑)を
用いて測定した。
表5 1)すり速度1 g、2 sec   2)ずり速度1
92 Secプラヌ゛マ処理することにより分散量の粘
度は低下し、かつニュートン性流動を示しており、良好
な分散性能を有している。
ペースト100部に上記アルキッド13指90部、メラ
ミン樹脂ニーパン128(三井東圧(閑製)45部を加
え、アルキッド樹脂塗料を調整した。得られた塗料を実
施例1と同様にしてブリキ板に塗装、焼付けて、20部
鏡面光沢及び鮮映性を比較した。
表  6 プラズマ処理することにより光沢、鮮映性ともに著しく
改良されることがわかる。さらに本実施例で用いたプラ
ズマ発生装置は実施例1で用いた装置と放電形式が異な
るにもかかわらず、空気プラズマ処理により、実施例1
の場合と同様の効果が認められた。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)低温プラズマ法にて表面処理した有機顔料の一種
    以上を必須構成成分とし、極性を有する樹脂の一種以上
    及び/又は極性を有する溶剤の一種以上とからなる分散
    ベース組成物。
  2. (2)低温プラズマ法にて表面処理した有機顔料の含有
    量は、分散ベース中に05〜60重量%の範囲にあるこ
    とを特徴とする特許請求め範囲第一項記載の分散ベース
    組成物。
  3. (3)低温プラズマ法で表面処理した有機顔料の全顔料
    に占める割合が、IO重量係以上になる様に配合せしめ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第−項又は第二項記
    載の分散ベース組成物。
JP57101025A 1982-06-11 1982-06-11 分散ベ−ス組成物 Expired JPS6011067B2 (ja)

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JP57101025A JPS6011067B2 (ja) 1982-06-11 1982-06-11 分散ベ−ス組成物
GB08315818A GB2129007B (en) 1982-06-11 1983-06-09 Pigments and pigment-containing base compositions
US06/502,686 US4478643A (en) 1982-06-11 1983-06-09 Base composition comprising an irradiated organic pigment
DE19833321044 DE3321044A1 (de) 1982-06-11 1983-06-10 Pigmenthaltige stammlack-zusammensetzung
FR8309677A FR2528438B1 (fr) 1982-06-11 1983-06-10 Composition pigmentaire contenant un pigment organique traite par un plasma a basse temperature
CA000430103A CA1207274A (en) 1982-06-11 1983-06-10 Pigment-containing base composition

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