JPS58210805A - 半透膜の製造方法 - Google Patents

半透膜の製造方法

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JPS58210805A
JPS58210805A JP57093790A JP9379082A JPS58210805A JP S58210805 A JPS58210805 A JP S58210805A JP 57093790 A JP57093790 A JP 57093790A JP 9379082 A JP9379082 A JP 9379082A JP S58210805 A JPS58210805 A JP S58210805A
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JP
Japan
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plasma
acrylonitrile
membrane
copolymer
polymer
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Pending
Application number
JP57093790A
Other languages
English (en)
Inventor
Takatoshi Shimomura
下村 隆敏
Fumio Fujita
藤田 文男
Manabu Hirakawa
学 平川
Nobukazu Hirose
広瀬 宜和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP57093790A priority Critical patent/JPS58210805A/ja
Publication of JPS58210805A publication Critical patent/JPS58210805A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/40Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
    • B01D71/42Polymers of nitriles, e.g. polyacrylonitrile

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアクリロニトリル系重合体より作成した多孔性
膜の表面にプラズマを照射することによって逆浸透、限
外濾過用の半透膜を製造する方法において波頂合体のプ
ラズマ分解ガスからなるプラズマを使用する半透膜の改
良された製造方法に関するものである。
現実に工業化されている半透膜はレープ(Loeb)お
よびスリラジャン(80urirajan)  の方法
(米国特許第8,188,182号および8 、188
 、187号)に従って または類似の方法に従って作
られる酢酸セルロースがほとんどであるが、この膜は水
透過性及び食塩排除性に関して良好な性能を示すにもか
かわらず、酢酸セルロースの加水分解に本質的に由来す
る劣化のために時間の経過と共に食塩等をはじめとする
溶質除去率の低下が現われるし、また膜の寿命も限られ
ている。
また、スキン構造を持つ非対称膜を製造するレープの製
膜方法は高度な技術と厳密な条件設定を必要とし、酢酸
セルロース膜以外では2゜8の合成高分子でしか成功し
ていない。これはこの製膜方法ではキャスト溶媒と添加
物の選択やキャスト液組成の決定がむずかしく、かつキ
ャスト液の温度や溶媒を蒸発させる際の雰囲気あるいは
その温度を適切に設定することが困難なためであり、と
ても−膜性をもつものとはいいがたい。
一方、近年酢酸セルロースよりも優れた化学的、機械的
、熱的性質を有し、水透過性の大きい半透膜をアクリロ
ニトリル系重合体から製作しようとする試み(例えば特
開昭47−6257あるいは49−488783もい、
くつかなされているが、いずれも前述のキャスト法でス
キン層とサポート層を一挙に製作しようとするものであ
り、キャスト条件の設定が困難であるために安定した性
能の膜は得られにくい、またアク10ニトリル系重合体
の場合キャスト法ではいわゆるスキン層の形成が困難で
あるといわれているう 本発明者らは上述の製膜方法の欠点を克服するために種
々の高分子物質にプラズマを照射し、その表面近傍のみ
を変性することによる半透膜の製作に関して鋭意検討を
加えてきたが、その結果驚くべきことにアクリロニトリ
ル系重合体の多孔性膜にプラズマを照射した場合表面に
1μ以下の極めてうすい緻密な架橋層が生成しているこ
と、しかもプラズマで照射されたこの膜を逆浸透法、限
外−適法に用いる仁とにより充分子膜に優るという重大
な事実を見いだし既に特公昭52−88988として権
利を確保した9本発明者等はその後更にプラズマ処理工
程における雰囲気を詳細に検討した結果、アクll ロ
ニトリル系重合体のプラズマ分解ガスからなるプラズマ
を該重合体多孔性膜表面に照射することにより得られる
半透膜の水透過流束を著しく増大させうろことを見い出
し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の目的はアクリロニトリル系重合体よ
り作成した多孔性成型品、すなわち多孔性膜の表面にプ
ラズマを照射することによって逆浸透、限外を適用の半
透膜を製造する方   法において該重合体のプラズマ
分解ガスからなるプラズマを該多孔性膜の表面に照射す
る半透膜の改良された製造方法を提供するこにある。
本発明の製造方法によれば、従来の酢酸セルロース膜の
欠点である加水分解性あるいはバクテリアによる劣化を
生じない様な物質の分離、濃縮に利用可能な著しく水道
過流速の増大したアクリロニトリル系重合体の半透膜を
製造することができる。
以ドに本発明の実施態様について詳細に説明する。
本発明の方法に用いられるポリアクリロニトリルは公知
の方法で得られるものである。またアクリロニトリルと
共重合体を構成するコモノマーとしてはアクリロニトリ
ルと共重合可能な公知のものをあげることが出来る。例
えば非イオン性モノマーとしては、アクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、N−ビニル−2−ピロリドン
、メタクリル酸ヒドロオキシエチル、アクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニル、塩化ビニル
、スチレン等がある。またアクリロニトリルはイオン性
モノマーとも容易に共重合体を形成する。例えばアニオ
ン性モノマーとしてはアクリル酸、エチレンスルホン酸
、メタアクリル酸、メタリルスルホン酸、スルホプロピ
ルメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸等、およ
びこれらの金塩類がある。カチオン性モノマーとしては
2ビニル及び4−ビニルピリジン、メタクリルジメチル
アミノエチル等の第8級アミン類さにこれ等をアルキル
化した第4級アミンの塩などがあろうここに使用される
アクリロニトル共重合体はこれらのコモノマーの一種あ
るは二種以上の共重合体である。
これらの共重合体において共重合体成分、は任に変えら
れるが、共重合体中のアクリロニトリル量が゛40モル
パーセント以トになるとそらの共重合体より形成された
膜の機械的性質が着るしく低下するのみならず、プラズ
マ分ガスからなるプラズマ処理をおこなっても充なるフ
ラックス増大の効果がもたらされず実的な価値が認めら
れなくなる。したがって特好ましくはアクリロニトリル
を70〜95モパーセント含有する共重合体である。
プラズマ照射に供する多孔性の成形品についはその製造
方法を特に限定しないが、通常の煤蒸発工程、ゲル化工
程よりなる専ヤスト法により得られる多孔性膜が特に適
している。本発明の方法に用いられるこれら多孔性成形
品の具体的な型態については膜状の他にも種々あり、シ
ート状、糸状、さらには他の多孔性支持体との複合体で
あってもよい、これらはいずれもプラズマを照射した後
適当な型のモジュールとして実用に供される。
アクリロニトリル系重合体の多孔性膜を製作する一般的
な方法は次の如くである。まずポリアクリロニトリルま
たはアクリロニトリル共重合体を重合体濃度が5〜80
重量パーセシトになる様に溶媒に溶解さ、せる。溶媒と
しては無機塩を含む水溶液あるいはジメチルアセトアミ
ド、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホオキシドな
どの極性有機溶媒が用いられる。次にこれらの高分子溶
液をガラス板上にドクタ、−ナイフを用いて流延する。
流延溶液の厚みは半透膜の厚みに関係する。したがって
普通100a前後の厚みを持った半透膜が形成されるよ
うに流延溶液の厚みを調整する。流延された溶液は直ち
に非溶剤中に浸漬されるか、またはしばらく溶液表面の
溶媒を蒸発させてから浸漬される。
一般には溶媒を蒸発させる時間は0〜60分、一度は0
℃〜溶媒の沸点の範囲でおこなわれるのが好ましい。次
にこのように部分的に表tfi/8媒を蒸発した流延溶
液あるいは全熱蒸発過程を経ない流延溶液を非溶剤の中
に浸漬する。非溶剤としては水もしくは水と有機溶媒の
混合溶液が用いられる。ここで用いられる有機溶媒は水
溶性のものでありまた、該高分子溶液を調製するのに用
いられた溶媒が望ましい。
これらの多孔性膜を製作する時の種々の条件、すなわち
重合体濃度、キャスト温度、溶媒蒸発時間、ゲル化温度
さらに続く熱水処理温度等はい限り照射に供するどとが
可能であり、むしろ最終製品の性能のコントロールはプ
ラズマ照射の条件を変えることによっておこなうのが本
発明の主眼とするところである。
本発明におけるプラズマとはグロー放電、コロナ放電あ
るいはその他にょっt生成されるプラズマをさすが、例
えばグロー放電によるプラズマは特公昭52−8898
8公゛報第1図に示されている様な真空容器5の中の圧
力が0.01〜l Q Torr  になる様に水素、
ヘリウム、アルゴン、窒素、酸素、−酸化炭素、二酸化
炭素、アンモニア等のガスをコックlから導入し、ネオ
ントランス2によって電極8.4間に交流あるいは直流
電圧0.5〜50キロボルトを印加することによって発
生させられる。本発明においては、アクリロニトリル共
重合体よりなる多孔性成型品がこれらのプラズマの作用
によってその表面で分解を受けて生成する該重合体のプ
ラズマ、分解ガスを再重合、再結合等の方法で該成ある
ことが望ましい。すなわち、プラズマ処理中はガス導入
口と排気口を閉止するのが本発明の実施上好ましいが、
両方あるいは一方のみが開いた状態であっても支障はな
い。またプラズマは大気中で、あるいは不活性ガス雰囲
気下でコロナ放電を発生させて作ることもでき、この場
合半透膜の製造方法としてはより一層工業化が容易であ
る。
本発明の方法で得られる半透膜の分離特性は種々の因子
をコントロールすることによって決定されるが、その中
でも照射時間と照射線量とが重要であり、これらを変動
させることによって1表面でのプラズマ分解とプラズマ
再重合の程度を制御し、任意の分離特゛性を持つ膜を得
るこプラズマ重合性に応じて決定されるものである。
上述した様に本発明の製造方法の特徴はプラズマの物質
分解性が大きいこゝとを利用してアクリロニトリル系重
合体多孔性膜の表面近傍のみを分解し、この分解ガスを
プ祝で再重合させて膜表面の緻密層とすることにあり、
この新しい技術によれば1μ以下の厚さの緻密層が容易
に作れることである。したがってキャスト法におケルが
如くスキン層の形成に困難を伴うということは全くあり
えない。
一方、本発明の方法で作られた半透膜の持つ特徴は逆浸
透法等に使用した場合、従来の酢酸セルロース膜よりも
優れた化学的、機械的、熱的性質と物質排除能を有して
いることである。
したがって、本発明のプラズマ照射によって得られたア
クリロニトリル系重合体半透膜は広く逆浸透、限外−過
等による物質の分離、濃縮に用いられ、より具体的には
海水淡水化、廃水処理、果汁等の濃縮およびその他に用
いられる。
また本発明の方法で得られる半透膜は多くの有機溶剤に
不溶なので、広く非水流体の分離にも適している。
また、本発明は特開昭54−128588に開示されて
いるような無機塩類水溶液に浸漬することあるいは特開
昭54−180482に開示されている様なプロトン酸
に浸漬することあるいは特願昭58−155919に開
示されているような熱水処理などの発明と組み合わされ
ることによっても本発明の効果はより一層顕著に発揮さ
れるので、これらの場合も本発明の範囲である。
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明は何らこれらの実施例に限定されるものではな
い。
尚溶質の除去率は次の式で定義されるものとする。
比較例1 アクリロニトリル92モルパーセントとアクリル酸エチ
ル8モルパーセントからなる共重合体も公知の方法で合
成した。この共重合体24部をN、N−ジメチルホルム
アミド66部、ホルムアミド10部よりなる混合溶媒に
溶解した後、40℃に暖められたーガラス板上に溶液の
厚みが260sになる様に流延した。
1分の蒸発時間の後に10℃の水浴中にガラス板を投入
しゲル化させた。2時間後ガラス板より剥離した膜を取
り出し、このままの状態で10〜754の加圧下で水の
透過量を測定したところ56 L/lr?/hr であ
った。
次に室温で一夜乾燥させた後、これを特公昭52−88
988公報第1図に示されている真空容器に入れ、ヘリ
ウムガスが6.2 Torrの圧力に保たれる様にコッ
ク1,7を調整した。この後ネオントランス2によって
電極8.4間に交流電圧8.0キロボルトを印加し、6
0分間プラズマを照射した。照射された膜を通常実験室
にて使用される連続式逆浸透装置(有効膜面積1gcd
)に装着して食塩水(濃度0.55%1)の透過テスト
をおこなった。
実験条件と結果は次の通りである。   ′実験条件 圧  力  :  60麺/− 液i1i : 25℃ 食塩水の送水速度 :  270d/min実験結果(
半透膜の性能) 水運過量 :6.4t/ぜ/hr 食塩除去率 :9B、8% 実施例−1 比較例−1においてプラズマ放電開始と同時にコックl
、7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−1と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験おこなった。
この場合得られた半透膜の性能は次の通りであった。
水運過量: 12.5 L/ml/hr食塩除去率 :
97.8% 比較例−2 アクリロニトリル89モルパー士ントと酢酸ビニル11
モルパーセントからなる共重合体を公知の方法で合成し
た。この共重合体2゜部をN、N−ジメチルホルムアミ
ドア0mとホルムアミド10部よりなる混合溶媒に溶解
した後、40℃にあたためられたガラス板上に溶液の厚
みが250μになるように流延した。
1分の蒸発時間の後に10℃の水浴中にガラス板を投入
し、ゲル化させた。2時間後にガラス板より剥離6した
膜を取り出し、室温で24時間乾燥させた。ゲル化させ
た湿潤膜のバブル、ポイントは851個であった。
乾燥膜を比較例−1と同様の処理条件でプラズマ処理を
おCなった。ついで比較例−1と同様の評価条件で食塩
水の透過テストを行ったところ、フラッWスは7.21
1n?/hr  で食塩除去率は97.2%であった。
実施例−2 比較例−2においてプラズマ放電開始と同時にコック1
.7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−2と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験をおこなった。
この結果得られた半透膜の性能は次の通りであった。
水通過量: 28. OL/rr?/hr食塩除去率 
:97.9%

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ポリアクリロニトリルまたはアクリロニトリルを40モ
    ルパーセント以上含む共重合体の多特徴とする半透膜の
    製造方法。
JP57093790A 1982-05-31 1982-05-31 半透膜の製造方法 Pending JPS58210805A (ja)

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JP57093790A JPS58210805A (ja) 1982-05-31 1982-05-31 半透膜の製造方法

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JPS58210805A true JPS58210805A (ja) 1983-12-08

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ID=14092204

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JP57093790A Pending JPS58210805A (ja) 1982-05-31 1982-05-31 半透膜の製造方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0457916A1 (en) * 1989-12-12 1991-11-27 Eisai Co., Ltd. Plasma-irradiated solid preparation
DE19507584A1 (de) * 1995-03-04 1996-09-12 Geesthacht Gkss Forschung Strahlenchemisch modifizierte Silikonkompositmembran für die Ultrafiltration

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0457916A1 (en) * 1989-12-12 1991-11-27 Eisai Co., Ltd. Plasma-irradiated solid preparation
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