JPS58210805A - 半透膜の製造方法 - Google Patents
半透膜の製造方法Info
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- JPS58210805A JPS58210805A JP57093790A JP9379082A JPS58210805A JP S58210805 A JPS58210805 A JP S58210805A JP 57093790 A JP57093790 A JP 57093790A JP 9379082 A JP9379082 A JP 9379082A JP S58210805 A JPS58210805 A JP S58210805A
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- polymer
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
- B01D71/42—Polymers of nitriles, e.g. polyacrylonitrile
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアクリロニトリル系重合体より作成した多孔性
膜の表面にプラズマを照射することによって逆浸透、限
外濾過用の半透膜を製造する方法において波頂合体のプ
ラズマ分解ガスからなるプラズマを使用する半透膜の改
良された製造方法に関するものである。
膜の表面にプラズマを照射することによって逆浸透、限
外濾過用の半透膜を製造する方法において波頂合体のプ
ラズマ分解ガスからなるプラズマを使用する半透膜の改
良された製造方法に関するものである。
現実に工業化されている半透膜はレープ(Loeb)お
よびスリラジャン(80urirajan) の方法
(米国特許第8,188,182号および8 、188
、187号)に従って または類似の方法に従って作
られる酢酸セルロースがほとんどであるが、この膜は水
透過性及び食塩排除性に関して良好な性能を示すにもか
かわらず、酢酸セルロースの加水分解に本質的に由来す
る劣化のために時間の経過と共に食塩等をはじめとする
溶質除去率の低下が現われるし、また膜の寿命も限られ
ている。
よびスリラジャン(80urirajan) の方法
(米国特許第8,188,182号および8 、188
、187号)に従って または類似の方法に従って作
られる酢酸セルロースがほとんどであるが、この膜は水
透過性及び食塩排除性に関して良好な性能を示すにもか
かわらず、酢酸セルロースの加水分解に本質的に由来す
る劣化のために時間の経過と共に食塩等をはじめとする
溶質除去率の低下が現われるし、また膜の寿命も限られ
ている。
また、スキン構造を持つ非対称膜を製造するレープの製
膜方法は高度な技術と厳密な条件設定を必要とし、酢酸
セルロース膜以外では2゜8の合成高分子でしか成功し
ていない。これはこの製膜方法ではキャスト溶媒と添加
物の選択やキャスト液組成の決定がむずかしく、かつキ
ャスト液の温度や溶媒を蒸発させる際の雰囲気あるいは
その温度を適切に設定することが困難なためであり、と
ても−膜性をもつものとはいいがたい。
膜方法は高度な技術と厳密な条件設定を必要とし、酢酸
セルロース膜以外では2゜8の合成高分子でしか成功し
ていない。これはこの製膜方法ではキャスト溶媒と添加
物の選択やキャスト液組成の決定がむずかしく、かつキ
ャスト液の温度や溶媒を蒸発させる際の雰囲気あるいは
その温度を適切に設定することが困難なためであり、と
ても−膜性をもつものとはいいがたい。
一方、近年酢酸セルロースよりも優れた化学的、機械的
、熱的性質を有し、水透過性の大きい半透膜をアクリロ
ニトリル系重合体から製作しようとする試み(例えば特
開昭47−6257あるいは49−488783もい、
くつかなされているが、いずれも前述のキャスト法でス
キン層とサポート層を一挙に製作しようとするものであ
り、キャスト条件の設定が困難であるために安定した性
能の膜は得られにくい、またアク10ニトリル系重合体
の場合キャスト法ではいわゆるスキン層の形成が困難で
あるといわれているう 本発明者らは上述の製膜方法の欠点を克服するために種
々の高分子物質にプラズマを照射し、その表面近傍のみ
を変性することによる半透膜の製作に関して鋭意検討を
加えてきたが、その結果驚くべきことにアクリロニトリ
ル系重合体の多孔性膜にプラズマを照射した場合表面に
1μ以下の極めてうすい緻密な架橋層が生成しているこ
と、しかもプラズマで照射されたこの膜を逆浸透法、限
外−適法に用いる仁とにより充分子膜に優るという重大
な事実を見いだし既に特公昭52−88988として権
利を確保した9本発明者等はその後更にプラズマ処理工
程における雰囲気を詳細に検討した結果、アクll ロ
ニトリル系重合体のプラズマ分解ガスからなるプラズマ
を該重合体多孔性膜表面に照射することにより得られる
半透膜の水透過流束を著しく増大させうろことを見い出
し本発明を完成するに至った。
、熱的性質を有し、水透過性の大きい半透膜をアクリロ
ニトリル系重合体から製作しようとする試み(例えば特
開昭47−6257あるいは49−488783もい、
くつかなされているが、いずれも前述のキャスト法でス
キン層とサポート層を一挙に製作しようとするものであ
り、キャスト条件の設定が困難であるために安定した性
能の膜は得られにくい、またアク10ニトリル系重合体
の場合キャスト法ではいわゆるスキン層の形成が困難で
あるといわれているう 本発明者らは上述の製膜方法の欠点を克服するために種
々の高分子物質にプラズマを照射し、その表面近傍のみ
を変性することによる半透膜の製作に関して鋭意検討を
加えてきたが、その結果驚くべきことにアクリロニトリ
ル系重合体の多孔性膜にプラズマを照射した場合表面に
1μ以下の極めてうすい緻密な架橋層が生成しているこ
と、しかもプラズマで照射されたこの膜を逆浸透法、限
外−適法に用いる仁とにより充分子膜に優るという重大
な事実を見いだし既に特公昭52−88988として権
利を確保した9本発明者等はその後更にプラズマ処理工
程における雰囲気を詳細に検討した結果、アクll ロ
ニトリル系重合体のプラズマ分解ガスからなるプラズマ
を該重合体多孔性膜表面に照射することにより得られる
半透膜の水透過流束を著しく増大させうろことを見い出
し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の目的はアクリロニトリル系重合体よ
り作成した多孔性成型品、すなわち多孔性膜の表面にプ
ラズマを照射することによって逆浸透、限外を適用の半
透膜を製造する方 法において該重合体のプラズマ
分解ガスからなるプラズマを該多孔性膜の表面に照射す
る半透膜の改良された製造方法を提供するこにある。
り作成した多孔性成型品、すなわち多孔性膜の表面にプ
ラズマを照射することによって逆浸透、限外を適用の半
透膜を製造する方 法において該重合体のプラズマ
分解ガスからなるプラズマを該多孔性膜の表面に照射す
る半透膜の改良された製造方法を提供するこにある。
本発明の製造方法によれば、従来の酢酸セルロース膜の
欠点である加水分解性あるいはバクテリアによる劣化を
生じない様な物質の分離、濃縮に利用可能な著しく水道
過流速の増大したアクリロニトリル系重合体の半透膜を
製造することができる。
欠点である加水分解性あるいはバクテリアによる劣化を
生じない様な物質の分離、濃縮に利用可能な著しく水道
過流速の増大したアクリロニトリル系重合体の半透膜を
製造することができる。
以ドに本発明の実施態様について詳細に説明する。
本発明の方法に用いられるポリアクリロニトリルは公知
の方法で得られるものである。またアクリロニトリルと
共重合体を構成するコモノマーとしてはアクリロニトリ
ルと共重合可能な公知のものをあげることが出来る。例
えば非イオン性モノマーとしては、アクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、N−ビニル−2−ピロリドン
、メタクリル酸ヒドロオキシエチル、アクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニル、塩化ビニル
、スチレン等がある。またアクリロニトリルはイオン性
モノマーとも容易に共重合体を形成する。例えばアニオ
ン性モノマーとしてはアクリル酸、エチレンスルホン酸
、メタアクリル酸、メタリルスルホン酸、スルホプロピ
ルメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸等、およ
びこれらの金塩類がある。カチオン性モノマーとしては
2ビニル及び4−ビニルピリジン、メタクリルジメチル
アミノエチル等の第8級アミン類さにこれ等をアルキル
化した第4級アミンの塩などがあろうここに使用される
アクリロニトル共重合体はこれらのコモノマーの一種あ
るは二種以上の共重合体である。
の方法で得られるものである。またアクリロニトリルと
共重合体を構成するコモノマーとしてはアクリロニトリ
ルと共重合可能な公知のものをあげることが出来る。例
えば非イオン性モノマーとしては、アクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、N−ビニル−2−ピロリドン
、メタクリル酸ヒドロオキシエチル、アクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニル、塩化ビニル
、スチレン等がある。またアクリロニトリルはイオン性
モノマーとも容易に共重合体を形成する。例えばアニオ
ン性モノマーとしてはアクリル酸、エチレンスルホン酸
、メタアクリル酸、メタリルスルホン酸、スルホプロピ
ルメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸等、およ
びこれらの金塩類がある。カチオン性モノマーとしては
2ビニル及び4−ビニルピリジン、メタクリルジメチル
アミノエチル等の第8級アミン類さにこれ等をアルキル
化した第4級アミンの塩などがあろうここに使用される
アクリロニトル共重合体はこれらのコモノマーの一種あ
るは二種以上の共重合体である。
これらの共重合体において共重合体成分、は任に変えら
れるが、共重合体中のアクリロニトリル量が゛40モル
パーセント以トになるとそらの共重合体より形成された
膜の機械的性質が着るしく低下するのみならず、プラズ
マ分ガスからなるプラズマ処理をおこなっても充なるフ
ラックス増大の効果がもたらされず実的な価値が認めら
れなくなる。したがって特好ましくはアクリロニトリル
を70〜95モパーセント含有する共重合体である。
れるが、共重合体中のアクリロニトリル量が゛40モル
パーセント以トになるとそらの共重合体より形成された
膜の機械的性質が着るしく低下するのみならず、プラズ
マ分ガスからなるプラズマ処理をおこなっても充なるフ
ラックス増大の効果がもたらされず実的な価値が認めら
れなくなる。したがって特好ましくはアクリロニトリル
を70〜95モパーセント含有する共重合体である。
プラズマ照射に供する多孔性の成形品についはその製造
方法を特に限定しないが、通常の煤蒸発工程、ゲル化工
程よりなる専ヤスト法により得られる多孔性膜が特に適
している。本発明の方法に用いられるこれら多孔性成形
品の具体的な型態については膜状の他にも種々あり、シ
ート状、糸状、さらには他の多孔性支持体との複合体で
あってもよい、これらはいずれもプラズマを照射した後
適当な型のモジュールとして実用に供される。
方法を特に限定しないが、通常の煤蒸発工程、ゲル化工
程よりなる専ヤスト法により得られる多孔性膜が特に適
している。本発明の方法に用いられるこれら多孔性成形
品の具体的な型態については膜状の他にも種々あり、シ
ート状、糸状、さらには他の多孔性支持体との複合体で
あってもよい、これらはいずれもプラズマを照射した後
適当な型のモジュールとして実用に供される。
アクリロニトリル系重合体の多孔性膜を製作する一般的
な方法は次の如くである。まずポリアクリロニトリルま
たはアクリロニトリル共重合体を重合体濃度が5〜80
重量パーセシトになる様に溶媒に溶解さ、せる。溶媒と
しては無機塩を含む水溶液あるいはジメチルアセトアミ
ド、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホオキシドな
どの極性有機溶媒が用いられる。次にこれらの高分子溶
液をガラス板上にドクタ、−ナイフを用いて流延する。
な方法は次の如くである。まずポリアクリロニトリルま
たはアクリロニトリル共重合体を重合体濃度が5〜80
重量パーセシトになる様に溶媒に溶解さ、せる。溶媒と
しては無機塩を含む水溶液あるいはジメチルアセトアミ
ド、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホオキシドな
どの極性有機溶媒が用いられる。次にこれらの高分子溶
液をガラス板上にドクタ、−ナイフを用いて流延する。
流延溶液の厚みは半透膜の厚みに関係する。したがって
普通100a前後の厚みを持った半透膜が形成されるよ
うに流延溶液の厚みを調整する。流延された溶液は直ち
に非溶剤中に浸漬されるか、またはしばらく溶液表面の
溶媒を蒸発させてから浸漬される。
普通100a前後の厚みを持った半透膜が形成されるよ
うに流延溶液の厚みを調整する。流延された溶液は直ち
に非溶剤中に浸漬されるか、またはしばらく溶液表面の
溶媒を蒸発させてから浸漬される。
一般には溶媒を蒸発させる時間は0〜60分、一度は0
℃〜溶媒の沸点の範囲でおこなわれるのが好ましい。次
にこのように部分的に表tfi/8媒を蒸発した流延溶
液あるいは全熱蒸発過程を経ない流延溶液を非溶剤の中
に浸漬する。非溶剤としては水もしくは水と有機溶媒の
混合溶液が用いられる。ここで用いられる有機溶媒は水
溶性のものでありまた、該高分子溶液を調製するのに用
いられた溶媒が望ましい。
℃〜溶媒の沸点の範囲でおこなわれるのが好ましい。次
にこのように部分的に表tfi/8媒を蒸発した流延溶
液あるいは全熱蒸発過程を経ない流延溶液を非溶剤の中
に浸漬する。非溶剤としては水もしくは水と有機溶媒の
混合溶液が用いられる。ここで用いられる有機溶媒は水
溶性のものでありまた、該高分子溶液を調製するのに用
いられた溶媒が望ましい。
これらの多孔性膜を製作する時の種々の条件、すなわち
重合体濃度、キャスト温度、溶媒蒸発時間、ゲル化温度
さらに続く熱水処理温度等はい限り照射に供するどとが
可能であり、むしろ最終製品の性能のコントロールはプ
ラズマ照射の条件を変えることによっておこなうのが本
発明の主眼とするところである。
重合体濃度、キャスト温度、溶媒蒸発時間、ゲル化温度
さらに続く熱水処理温度等はい限り照射に供するどとが
可能であり、むしろ最終製品の性能のコントロールはプ
ラズマ照射の条件を変えることによっておこなうのが本
発明の主眼とするところである。
本発明におけるプラズマとはグロー放電、コロナ放電あ
るいはその他にょっt生成されるプラズマをさすが、例
えばグロー放電によるプラズマは特公昭52−8898
8公゛報第1図に示されている様な真空容器5の中の圧
力が0.01〜l Q Torr になる様に水素、
ヘリウム、アルゴン、窒素、酸素、−酸化炭素、二酸化
炭素、アンモニア等のガスをコックlから導入し、ネオ
ントランス2によって電極8.4間に交流あるいは直流
電圧0.5〜50キロボルトを印加することによって発
生させられる。本発明においては、アクリロニトリル共
重合体よりなる多孔性成型品がこれらのプラズマの作用
によってその表面で分解を受けて生成する該重合体のプ
ラズマ、分解ガスを再重合、再結合等の方法で該成ある
ことが望ましい。すなわち、プラズマ処理中はガス導入
口と排気口を閉止するのが本発明の実施上好ましいが、
両方あるいは一方のみが開いた状態であっても支障はな
い。またプラズマは大気中で、あるいは不活性ガス雰囲
気下でコロナ放電を発生させて作ることもでき、この場
合半透膜の製造方法としてはより一層工業化が容易であ
る。
るいはその他にょっt生成されるプラズマをさすが、例
えばグロー放電によるプラズマは特公昭52−8898
8公゛報第1図に示されている様な真空容器5の中の圧
力が0.01〜l Q Torr になる様に水素、
ヘリウム、アルゴン、窒素、酸素、−酸化炭素、二酸化
炭素、アンモニア等のガスをコックlから導入し、ネオ
ントランス2によって電極8.4間に交流あるいは直流
電圧0.5〜50キロボルトを印加することによって発
生させられる。本発明においては、アクリロニトリル共
重合体よりなる多孔性成型品がこれらのプラズマの作用
によってその表面で分解を受けて生成する該重合体のプ
ラズマ、分解ガスを再重合、再結合等の方法で該成ある
ことが望ましい。すなわち、プラズマ処理中はガス導入
口と排気口を閉止するのが本発明の実施上好ましいが、
両方あるいは一方のみが開いた状態であっても支障はな
い。またプラズマは大気中で、あるいは不活性ガス雰囲
気下でコロナ放電を発生させて作ることもでき、この場
合半透膜の製造方法としてはより一層工業化が容易であ
る。
本発明の方法で得られる半透膜の分離特性は種々の因子
をコントロールすることによって決定されるが、その中
でも照射時間と照射線量とが重要であり、これらを変動
させることによって1表面でのプラズマ分解とプラズマ
再重合の程度を制御し、任意の分離特゛性を持つ膜を得
るこプラズマ重合性に応じて決定されるものである。
をコントロールすることによって決定されるが、その中
でも照射時間と照射線量とが重要であり、これらを変動
させることによって1表面でのプラズマ分解とプラズマ
再重合の程度を制御し、任意の分離特゛性を持つ膜を得
るこプラズマ重合性に応じて決定されるものである。
上述した様に本発明の製造方法の特徴はプラズマの物質
分解性が大きいこゝとを利用してアクリロニトリル系重
合体多孔性膜の表面近傍のみを分解し、この分解ガスを
プ祝で再重合させて膜表面の緻密層とすることにあり、
この新しい技術によれば1μ以下の厚さの緻密層が容易
に作れることである。したがってキャスト法におケルが
如くスキン層の形成に困難を伴うということは全くあり
えない。
分解性が大きいこゝとを利用してアクリロニトリル系重
合体多孔性膜の表面近傍のみを分解し、この分解ガスを
プ祝で再重合させて膜表面の緻密層とすることにあり、
この新しい技術によれば1μ以下の厚さの緻密層が容易
に作れることである。したがってキャスト法におケルが
如くスキン層の形成に困難を伴うということは全くあり
えない。
一方、本発明の方法で作られた半透膜の持つ特徴は逆浸
透法等に使用した場合、従来の酢酸セルロース膜よりも
優れた化学的、機械的、熱的性質と物質排除能を有して
いることである。
透法等に使用した場合、従来の酢酸セルロース膜よりも
優れた化学的、機械的、熱的性質と物質排除能を有して
いることである。
したがって、本発明のプラズマ照射によって得られたア
クリロニトリル系重合体半透膜は広く逆浸透、限外−過
等による物質の分離、濃縮に用いられ、より具体的には
海水淡水化、廃水処理、果汁等の濃縮およびその他に用
いられる。
クリロニトリル系重合体半透膜は広く逆浸透、限外−過
等による物質の分離、濃縮に用いられ、より具体的には
海水淡水化、廃水処理、果汁等の濃縮およびその他に用
いられる。
また本発明の方法で得られる半透膜は多くの有機溶剤に
不溶なので、広く非水流体の分離にも適している。
不溶なので、広く非水流体の分離にも適している。
また、本発明は特開昭54−128588に開示されて
いるような無機塩類水溶液に浸漬することあるいは特開
昭54−180482に開示されている様なプロトン酸
に浸漬することあるいは特願昭58−155919に開
示されているような熱水処理などの発明と組み合わされ
ることによっても本発明の効果はより一層顕著に発揮さ
れるので、これらの場合も本発明の範囲である。
いるような無機塩類水溶液に浸漬することあるいは特開
昭54−180482に開示されている様なプロトン酸
に浸漬することあるいは特願昭58−155919に開
示されているような熱水処理などの発明と組み合わされ
ることによっても本発明の効果はより一層顕著に発揮さ
れるので、これらの場合も本発明の範囲である。
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明は何らこれらの実施例に限定されるものではな
い。
、本発明は何らこれらの実施例に限定されるものではな
い。
尚溶質の除去率は次の式で定義されるものとする。
比較例1
アクリロニトリル92モルパーセントとアクリル酸エチ
ル8モルパーセントからなる共重合体も公知の方法で合
成した。この共重合体24部をN、N−ジメチルホルム
アミド66部、ホルムアミド10部よりなる混合溶媒に
溶解した後、40℃に暖められたーガラス板上に溶液の
厚みが260sになる様に流延した。
ル8モルパーセントからなる共重合体も公知の方法で合
成した。この共重合体24部をN、N−ジメチルホルム
アミド66部、ホルムアミド10部よりなる混合溶媒に
溶解した後、40℃に暖められたーガラス板上に溶液の
厚みが260sになる様に流延した。
1分の蒸発時間の後に10℃の水浴中にガラス板を投入
しゲル化させた。2時間後ガラス板より剥離した膜を取
り出し、このままの状態で10〜754の加圧下で水の
透過量を測定したところ56 L/lr?/hr であ
った。
しゲル化させた。2時間後ガラス板より剥離した膜を取
り出し、このままの状態で10〜754の加圧下で水の
透過量を測定したところ56 L/lr?/hr であ
った。
次に室温で一夜乾燥させた後、これを特公昭52−88
988公報第1図に示されている真空容器に入れ、ヘリ
ウムガスが6.2 Torrの圧力に保たれる様にコッ
ク1,7を調整した。この後ネオントランス2によって
電極8.4間に交流電圧8.0キロボルトを印加し、6
0分間プラズマを照射した。照射された膜を通常実験室
にて使用される連続式逆浸透装置(有効膜面積1gcd
)に装着して食塩水(濃度0.55%1)の透過テスト
をおこなった。
988公報第1図に示されている真空容器に入れ、ヘリ
ウムガスが6.2 Torrの圧力に保たれる様にコッ
ク1,7を調整した。この後ネオントランス2によって
電極8.4間に交流電圧8.0キロボルトを印加し、6
0分間プラズマを照射した。照射された膜を通常実験室
にて使用される連続式逆浸透装置(有効膜面積1gcd
)に装着して食塩水(濃度0.55%1)の透過テスト
をおこなった。
実験条件と結果は次の通りである。 ′実験条件
圧 力 : 60麺/−
液i1i : 25℃
食塩水の送水速度 : 270d/min実験結果(
半透膜の性能) 水運過量 :6.4t/ぜ/hr 食塩除去率 :9B、8% 実施例−1 比較例−1においてプラズマ放電開始と同時にコックl
、7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−1と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験おこなった。
半透膜の性能) 水運過量 :6.4t/ぜ/hr 食塩除去率 :9B、8% 実施例−1 比較例−1においてプラズマ放電開始と同時にコックl
、7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−1と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験おこなった。
この場合得られた半透膜の性能は次の通りであった。
水運過量: 12.5 L/ml/hr食塩除去率 :
97.8% 比較例−2 アクリロニトリル89モルパー士ントと酢酸ビニル11
モルパーセントからなる共重合体を公知の方法で合成し
た。この共重合体2゜部をN、N−ジメチルホルムアミ
ドア0mとホルムアミド10部よりなる混合溶媒に溶解
した後、40℃にあたためられたガラス板上に溶液の厚
みが250μになるように流延した。
97.8% 比較例−2 アクリロニトリル89モルパー士ントと酢酸ビニル11
モルパーセントからなる共重合体を公知の方法で合成し
た。この共重合体2゜部をN、N−ジメチルホルムアミ
ドア0mとホルムアミド10部よりなる混合溶媒に溶解
した後、40℃にあたためられたガラス板上に溶液の厚
みが250μになるように流延した。
1分の蒸発時間の後に10℃の水浴中にガラス板を投入
し、ゲル化させた。2時間後にガラス板より剥離6した
膜を取り出し、室温で24時間乾燥させた。ゲル化させ
た湿潤膜のバブル、ポイントは851個であった。
し、ゲル化させた。2時間後にガラス板より剥離6した
膜を取り出し、室温で24時間乾燥させた。ゲル化させ
た湿潤膜のバブル、ポイントは851個であった。
乾燥膜を比較例−1と同様の処理条件でプラズマ処理を
おCなった。ついで比較例−1と同様の評価条件で食塩
水の透過テストを行ったところ、フラッWスは7.21
1n?/hr で食塩除去率は97.2%であった。
おCなった。ついで比較例−1と同様の評価条件で食塩
水の透過テストを行ったところ、フラッWスは7.21
1n?/hr で食塩除去率は97.2%であった。
実施例−2
比較例−2においてプラズマ放電開始と同時にコック1
.7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−2と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験をおこなった。
.7を全閉にしたこと以外はすべて比較例−2と全く同
様にしてプラズマ処理、性能評価実験をおこなった。
この結果得られた半透膜の性能は次の通りであった。
水通過量: 28. OL/rr?/hr食塩除去率
:97.9%
:97.9%
Claims (1)
- ポリアクリロニトリルまたはアクリロニトリルを40モ
ルパーセント以上含む共重合体の多特徴とする半透膜の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57093790A JPS58210805A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 半透膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57093790A JPS58210805A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 半透膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58210805A true JPS58210805A (ja) | 1983-12-08 |
Family
ID=14092204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57093790A Pending JPS58210805A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 半透膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58210805A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0457916A1 (en) * | 1989-12-12 | 1991-11-27 | Eisai Co., Ltd. | Plasma-irradiated solid preparation |
DE19507584A1 (de) * | 1995-03-04 | 1996-09-12 | Geesthacht Gkss Forschung | Strahlenchemisch modifizierte Silikonkompositmembran für die Ultrafiltration |
-
1982
- 1982-05-31 JP JP57093790A patent/JPS58210805A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0457916A1 (en) * | 1989-12-12 | 1991-11-27 | Eisai Co., Ltd. | Plasma-irradiated solid preparation |
DE19507584A1 (de) * | 1995-03-04 | 1996-09-12 | Geesthacht Gkss Forschung | Strahlenchemisch modifizierte Silikonkompositmembran für die Ultrafiltration |
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