JPS58208126A - 純粋な二酸化ケイ素の製造方法 - Google Patents
純粋な二酸化ケイ素の製造方法Info
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- JPS58208126A JPS58208126A JP58081599A JP8159983A JPS58208126A JP S58208126 A JPS58208126 A JP S58208126A JP 58081599 A JP58081599 A JP 58081599A JP 8159983 A JP8159983 A JP 8159983A JP S58208126 A JPS58208126 A JP S58208126A
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- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/186—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof from or via fluosilicic acid or salts thereof by a wet process
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01C—AMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
- C01C1/00—Ammonia; Compounds thereof
- C01C1/16—Halides of ammonium
- C01C1/162—Ammonium fluoride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
水酸化アンモニウム溶液を用ｂて２工程でヘキサフルオ
ロケイ酸溶液を転化して、析出した二酸化ケイ素を分離
回収することによって純粋な二酸化ケイ素の製造方法に
関する。
ロケイ酸溶液を転化して、析出した二酸化ケイ素を分離
回収することによって純粋な二酸化ケイ素の製造方法に
関する。
このような方法は米国特許第３．２ ７ １， １ ０
７号明細書によって公知である。ここに記載されてい
る方法では、第１工程でｐＨが６〜８になるまで激しく
かく拌し々がら水酸化アンモニウムとへキサフルオロケ
イ酸溶液を反応させ、この後弔２工程でｐＨがａ３〜２
０になるまで生成したスラリーを水酸化アンモニウムと
反応させ、得られたスラリーから析出した二酸化ケイ素
を分離回収する。
７号明細書によって公知である。ここに記載されてい
る方法では、第１工程でｐＨが６〜８になるまで激しく
かく拌し々がら水酸化アンモニウムとへキサフルオロケ
イ酸溶液を反応させ、この後弔２工程でｐＨがａ３〜２
０になるまで生成したスラリーを水酸化アンモニウムと
反応させ、得られたスラリーから析出した二酸化ケイ素
を分離回収する。
この公知方法の欠点は得られる二酸化ケイ素が酷く不純
物で汚染されて力ることである。例えば、特゛に金属含
有穎がかなり窩い。従って工業的にみれば数少なη用途
例えばペイントやゴム製品の添加剤としてか適用できな
い。
物で汚染されて力ることである。例えば、特゛に金属含
有穎がかなり窩い。従って工業的にみれば数少なη用途
例えばペイントやゴム製品の添加剤としてか適用できな
い。
不発ＩＭ Ｉは汚染ｆｉｆ−の窩いヘキサフルオロケイ
酸溶液からでも純粋な二酸化ケイ素を得ることのできる
方法を提供するものである。
酸溶液からでも純粋な二酸化ケイ素を得ることのできる
方法を提供するものである。
本発明によれば、この目的は第１工程にお−てフッ化ア
ンモニウムの二酸化ケイ素への転化に必要な化学量論量
の４０〜７５重量％に相当すル量の水酸化アンモニウム
溶液でヘキサフルオロケイ酸溶液を処理し、この処理で
形成した析出物を分離回収し、第２工程ｖｔｃｓ−いて
残りの溶液を水酸化アンモニウムで処理し、そしてこの
処理で傳らｆ′した純粋な二酸化ケイ素析出物を分離回
収ｆｆ１．ば達成できる。
ンモニウムの二酸化ケイ素への転化に必要な化学量論量
の４０〜７５重量％に相当すル量の水酸化アンモニウム
溶液でヘキサフルオロケイ酸溶液を処理し、この処理で
形成した析出物を分離回収し、第２工程ｖｔｃｓ−いて
残りの溶液を水酸化アンモニウムで処理し、そしてこの
処理で傳らｆ′した純粋な二酸化ケイ素析出物を分離回
収ｆｆ１．ば達成できる。
発明の好適な実施態様
好ましくは、１０〜３０重量壬特［１５〜２０重量％の
へキサフルオロケイ酸溶液から出発する。
へキサフルオロケイ酸溶液から出発する。
遣方法の蒸発部のケイ素含有排カス及びフッ素含有排ガ
スをスラッピングして得られた溶液を希釈するか濃縮す
れば得ることができる。一般に、この種の溶液１ｒｉ除
去がかなり難い多くの不純物ｂＰＳＫ金属化合φを含ん
でいる、所望ならば、この溶液は前精製工程例えば蒸留
処理、吸収剤処理及び／又は所定の薬剤による析出処理
に回すことができる。
スをスラッピングして得られた溶液を希釈するか濃縮す
れば得ることができる。一般に、この種の溶液１ｒｉ除
去がかなり難い多くの不純物ｂＰＳＫ金属化合φを含ん
でいる、所望ならば、この溶液は前精製工程例えば蒸留
処理、吸収剤処理及び／又は所定の薬剤による析出処理
に回すことができる。
水酸化アンモニウム溶液としては２０〜３ｏ重す壬の溶
ａを使用するのが好でしｂｏ一般に、上記転化に必要な
化学を論量とは（・ミ１勇ｔの水酸化アンモニウム合計
量を使用する。この合計量の５０〜６ｏＭｔヂを柘１工
程で処理するのが好適である。
ａを使用するのが好でしｂｏ一般に、上記転化に必要な
化学を論量とは（・ミ１勇ｔの水酸化アンモニウム合計
量を使用する。この合計量の５０〜６ｏＭｔヂを柘１工
程で処理するのが好適である。
転化時の温厩は変えることができる。低温を適用すると
転化がかな、り遅くなり、一方高温で１ｄ粗い形の二酸
化ケイ素が析出するが、比表面積かかなり小きいので、
洗浄し難いことが判った。
転化がかな、り遅くなり、一方高温で１ｄ粗い形の二酸
化ケイ素が析出するが、比表面積かかなり小きいので、
洗浄し難いことが判った。
分離しゃすぐ〃・っ洗浄しゃすい二酸化ケイ素析出物を
得るためには、反応体を適正かつ均一に混合することが
重要である。これは両工程に２いてよくかく拌芒れてい
る反応器に連続的かつ１町時に反応体を計量しながら供
給して行うのが好ｌしい。
得るためには、反応体を適正かつ均一に混合することが
重要である。これは両工程に２いてよくかく拌芒れてい
る反応器に連続的かつ１町時に反応体を計量しながら供
給して行うのが好ｌしい。
所定量の析出物と共にフッ化アンモニウムドジ−アンモ
ニウムへキサフルオロシリヶートの溶液から実質的にな
る、第１工穆て形蕨した反也混合物力・ら該析出物を例
えはろ過、デヵンテーンヨンや遠心分離によって分離回
収する。この析出物１１≠質的に二酸化ケイ素と金属化
合吟を含み所望力らば洗浄した後、ゴムの添加剤や顔料
の添胛斉′などとして使用できる。
ニウムへキサフルオロシリヶートの溶液から実質的にな
る、第１工穆て形蕨した反也混合物力・ら該析出物を例
えはろ過、デヵンテーンヨンや遠心分離によって分離回
収する。この析出物１１≠質的に二酸化ケイ素と金属化
合吟を含み所望力らば洗浄した後、ゴムの添加剤や顔料
の添胛斉′などとして使用できる。
析出物の回収後に残った液体（−次に第２工程に直接回
すことができるカニ、最初にイオン交換体で処理して、
第２工程で純粋な二酸化ケイ素が得られるようにするの
が好適である。さらに、第２工程処理の結果、比表面積
が実質的に大きい二酸化ケイ素が得られる。この処理に
は弱酸性のキレート化カチオン交換体を使用するのが好
適である。
すことができるカニ、最初にイオン交換体で処理して、
第２工程で純粋な二酸化ケイ素が得られるようにするの
が好適である。さらに、第２工程処理の結果、比表面積
が実質的に大きい二酸化ケイ素が得られる。この処理に
は弱酸性のキレート化カチオン交換体を使用するのが好
適である。
フッ化アンモニウム溶液と固体二酸化ケイ素の混合物か
ら実質的になる、第２工程で形成した反応混合物から、
例えばろ過、テカンテーションか遠心分離によって該二
酸化ケイ素を分離回収する。得られた生放物は金属不純
貧の含有率が槙めて低いので、例えば石英の代替物、触
媒担体物質の出発物質などとしてそのまま使用できる。
ら実質的になる、第２工程で形成した反応混合物から、
例えばろ過、テカンテーションか遠心分離によって該二
酸化ケイ素を分離回収する。得られた生放物は金属不純
貧の含有率が槙めて低いので、例えば石英の代替物、触
媒担体物質の出発物質などとしてそのまま使用できる。
また、ケイ酸ナトリウムから製造した工業中シリカと比
較して、実質的にナトリウムを含有しないため、耐焼結
性であることが大きな長所である。しかし、やはり析出
物を洗浄する力が有利であり、こうすると重金属含有率
を実質的に低下させることができる。洗浄液トシ。
較して、実質的にナトリウムを含有しないため、耐焼結
性であることが大きな長所である。しかし、やはり析出
物を洗浄する力が有利であり、こうすると重金属含有率
を実質的に低下させることができる。洗浄液トシ。
て１廿、中性、弱塩基性及び弱酸性の液体が使用できる
。所望ならば水洗してから例えば塩酸々どの希薄々鉱酸
で洗浄するのが好適である。
。所望ならば水洗してから例えば塩酸々どの希薄々鉱酸
で洗浄するのが好適である。
本発明方法で得られた二酸化ケイ素析出物を分離回収し
た後に残った液体は実質的にフッ化アンモニウム溶液か
らなるものである。この溶液は例えば濃縮によって工業
用フッ化アンモニウムに処理できるし、また例えばアル
カリ金属フッ化物、フッ化アルミニウムかフッ化水素に
転化できるものであ。る。
た後に残った液体は実質的にフッ化アンモニウム溶液か
らなるものである。この溶液は例えば濃縮によって工業
用フッ化アンモニウムに処理できるし、また例えばアル
カリ金属フッ化物、フッ化アルミニウムかフッ化水素に
転化できるものであ。る。
以下本発明を実施例によってさらに詳しく説明する。
度１８重量％（ＤＨ２ＳＩＦ６溶液９１０ｒ／ｈ’及び
濃度２５重量％のＮＨ４Ｏ’Ｈ溶液２ ｑ ｏ ｙ ／
ｈ を同Ｒにかつ連続的に供給した、このＨ２ＳｉＦ６
溶液ｆｄ１）ン酉ぐ塩処理プラントの蒸発部ルらの３５
８重量％Ｈ２ＳｉＦ６の粗製溶液を謄４塩水で希釈して
得たものであった。希釈性′ｅ、はフッ素含有率及びＰ
２Ｏ５含有率がそｉｔぞ：ｈ１４．４重量係及び０．２
３重量％で、３３０ｐｐｍの塩素のほかに、かな峠の量
の金属例えｉ４ Ｎａ ５０ ｐｐｍ、 Ｃａ ２２３
ｐｐｍ、 Ｆｅｂ４ｐｐｍ及びＡｓ １６ｐｐｍ を
含んでい九〇。
濃度２５重量％のＮＨ４Ｏ’Ｈ溶液２ ｑ ｏ ｙ ／
ｈ を同Ｒにかつ連続的に供給した、このＨ２ＳｉＦ６
溶液ｆｄ１）ン酉ぐ塩処理プラントの蒸発部ルらの３５
８重量％Ｈ２ＳｉＦ６の粗製溶液を謄４塩水で希釈して
得たものであった。希釈性′ｅ、はフッ素含有率及びＰ
２Ｏ５含有率がそｉｔぞ：ｈ１４．４重量係及び０．２
３重量％で、３３０ｐｐｍの塩素のほかに、かな峠の量
の金属例えｉ４ Ｎａ ５０ ｐｐｍ、 Ｃａ ２２３
ｐｐｍ、 Ｆｅｂ４ｐｐｍ及びＡｓ １６ｐｐｍ を
含んでい九〇。
第１反応器において反応体の滞留時間は約１５分で、維
持した温度は約３０〜４０℃であった。
持した温度は約３０〜４０℃であった。
反応混合物をガラスフィルターで連続的にろ過した後、
得られだろ液をかく拌機及び冷却器の付いた第”２反応
器に送った。この反応器にはまた同時に２５重量％のＮ
Ｈ４０Ｔτ溶液も供給した。
得られだろ液をかく拌機及び冷却器の付いた第”２反応
器に送った。この反応器にはまた同時に２５重量％のＮ
Ｈ４０Ｔτ溶液も供給した。
ろ液及びＮ Ｈ４０ｈ溶液はこの第２反応器にそれぞれ
１Ｂ２０ｒ／ｈ及び２９０？／、ｈの流量で送った。
１Ｂ２０ｒ／ｈ及び２９０？／、ｈの流量で送った。
第２反応器において反応体の滞留時間は約８分て、維持
した温度は約３０〜４０℃であった。
した温度は約３０〜４０℃であった。
生成した反応混合物をカラスフィルターで連続にろｉｆ
Ｌ、そして澄明々ろ液の形で得られたＮＨ４Ｆ溶液（ｐ
Ｈ＆８５）を取除−た。脱塩水を用いてフィルターで６
回ろ過ケークを洗浄し、１５０℃で乾燥してから、分析
した。分析結果は表１に甘とめである。
Ｌ、そして澄明々ろ液の形で得られたＮＨ４Ｆ溶液（ｐ
Ｈ＆８５）を取除−た。脱塩水を用いてフィルターで６
回ろ過ケークを洗浄し、１５０℃で乾燥してから、分析
した。分析結果は表１に甘とめである。
実施例■
実施例Ｉの手順を繰返した。ただし、第１反応器からの
反応混合物のろ過後に得られたろ液は、ＢｉｏＲａｄ社
製のＣｈｅｌｅｘ −１００である弱酸性のキレート化
カチオン交換樹脂からなる３つのカラム（長さ１０１１
ｆｆｌ、直径１２咽）に通した。
反応混合物のろ過後に得られたろ液は、ＢｉｏＲａｄ社
製のＣｈｅｌｅｘ −１００である弱酸性のキレート化
カチオン交換樹脂からなる３つのカラム（長さ１０１１
ｆｆｌ、直径１２咽）に通した。
該樹脂を約１時間１０重量％Ｈ２Ｓ１Ｆ、溶液で前処理
してからろ遼し、洗浄し、次Ｋ（ＮＨ４）２ ＳｉＦｇ
含有塩溶液で処理し、再洗浄した。
してからろ遼し、洗浄し、次Ｋ（ＮＨ４）２ ＳｉＦｇ
含有塩溶液で処理し、再洗浄した。
最終的に得られた洗浄ろ週ケークを分析した。
分析結果は表１にまとめである通りである。
実施例Ｉと同様にして、２５重量％ ＮＨ４ＯＨ溶液を
用すて１８重紫チＨ２ｓｉｐ６溶液を瞼化した。ただし
、中間で混合物のろ過を行わなかった。最終的ＶＣ４ら
７″１．たろ過ケークを洗浄し、分析した。分析結果ｆ
ｄ表１にまとめた通、りである。
用すて１８重紫チＨ２ｓｉｐ６溶液を瞼化した。ただし
、中間で混合物のろ過を行わなかった。最終的ＶＣ４ら
７″１．たろ過ケークを洗浄し、分析した。分析結果ｆ
ｄ表１にまとめた通、りである。
表Ｉ
すトリウム １７０ ｐｐｍ ２２５ ｐｐ
：ｎ ’、５０ ｐｐｍ鉄 ２５０
ｐｐｍ １７７ ｐｐ＋ｎ ３６ 、ｐ
ｐｒｎ鋼 ０．７ ｐｐｍ−０，６ｐｐｍ
０．５ ｐｐｍニッケル １．３ 、ｐｐｍ
０．８ ｐｐｍ ０．６ ｐｐｍク
ロム ２０ ｐｐｍ ３ ｐｐｍ
４ ｐｐｍコバルト ０．Ｏ５ｐｐｍ
０．Ｏ５ｐｐｍ （０，Ｏ５ｐｐｍマンガン
１６ ｐｐｍ ５．６ ｐｐｍ
［１，３ｐｐｍ上記の表から明らか力ように、公知方
法に比べて本発明の方法の方が金属不純物の含有率がは
るかに低”’ ｏ ％ ４て、Ｆ ｅ＋ Ｃｒ９Ｍｎ及
びｖの含有率が著しく低下してｔハる。捷だ、イオン交
換処理の結果、特にＦｅ、Ｍｎ及びＶの含有率が著しく
低下している。
：ｎ ’、５０ ｐｐｍ鉄 ２５０
ｐｐｍ １７７ ｐｐ＋ｎ ３６ 、ｐ
ｐｒｎ鋼 ０．７ ｐｐｍ−０，６ｐｐｍ
０．５ ｐｐｍニッケル １．３ 、ｐｐｍ
０．８ ｐｐｍ ０．６ ｐｐｍク
ロム ２０ ｐｐｍ ３ ｐｐｍ
４ ｐｐｍコバルト ０．Ｏ５ｐｐｍ
０．Ｏ５ｐｐｍ （０，Ｏ５ｐｐｍマンガン
１６ ｐｐｍ ５．６ ｐｐｍ
［１，３ｐｐｍ上記の表から明らか力ように、公知方
法に比べて本発明の方法の方が金属不純物の含有率がは
るかに低”’ ｏ ％ ４て、Ｆ ｅ＋ Ｃｒ９Ｍｎ及
びｖの含有率が著しく低下してｔハる。捷だ、イオン交
換処理の結果、特にＦｅ、Ｍｎ及びＶの含有率が著しく
低下している。
さらに、本発明方法の場合、イオン交換処世した方が、
比表面積がはるかに大きい生成物が俸ら几る。
比表面積がはるかに大きい生成物が俸ら几る。
実施例用
実施例Ｉ及び■で得たろ過ケークの一部を異なる洗浄液
で６度洗浄し、次に１５０℃で洗浄し、この後生成物の
フッ素含有率及び比表面積を求めた。結果は表■に示す
通りである。
で６度洗浄し、次に１５０℃で洗浄し、この後生成物の
フッ素含有率及び比表面積を求めた。結果は表■に示す
通りである。
表■
実施例１ なし １７６．０００ 一
実施例Ｉ 水 ６６７３実施例１１チ
ー（ＮＨ４）２ ＣＯ３−溶液 ５２ １６７
実施例■１％−ＮＴ（３−溶液 ９２ １０
７実施例１１チーＨＣｌ−溶液 ８２５
２００実施例■なし ）１００．０００
一実施例■水 ７０’２６０実施
例■ １係−（ＮＨ４）２ ＣＯ３−溶液 ５３
２０４実施例■１チーＮＨ３−溶液 ２３
１７８実施例■ １％−Ｈｃｉ−溶液 １．１
４０ ３０５表２から明らかなように、特に中性
か次アルカリ性の洗浄液で洗浄すると、生成物のフッ素
化合物含有率が著しく低下する。
実施例Ｉ 水 ６６７３実施例１１チ
ー（ＮＨ４）２ ＣＯ３−溶液 ５２ １６７
実施例■１％−ＮＴ（３−溶液 ９２ １０
７実施例１１チーＨＣｌ−溶液 ８２５
２００実施例■なし ）１００．０００
一実施例■水 ７０’２６０実施
例■ １係−（ＮＨ４）２ ＣＯ３−溶液 ５３
２０４実施例■１チーＮＨ３−溶液 ２３
１７８実施例■ １％−Ｈｃｉ−溶液 １．１
４０ ３０５表２から明らかなように、特に中性
か次アルカリ性の洗浄液で洗浄すると、生成物のフッ素
化合物含有率が著しく低下する。
実施例■
実施例の方云で得られたろ過１ケークの一部を水洗乾燥
後４時間１重量％ＨＣ１溶液で処理してから、ろ過し、
水で再洗浄し、そして乾燥した。
後４時間１重量％ＨＣ１溶液で処理してから、ろ過し、
水で再洗浄し、そして乾燥した。
分析したところ、カルシウム含有量及び鉄含有量がそれ
ぞれ約６００ ｐｐｍから１１００ｐｐに、そして約１
７７ｐｐｍから４２ｐｐｍに低下していた。
ぞれ約６００ ｐｐｍから１１００ｐｐに、そして約１
７７ｐｐｍから４２ｐｐｍに低下していた。
特許出願人代理人： 飯 １）伸 行
Claims (8)
- （１）水酸化アンモニウム溶液を用いて２コ−程でヘキ
サフルオロケイ酸の溶液を転化させるさいに、第１工程
においてフッ化アンモニウムの二酸化ケイ素への転化に
必要な化学量論量の４０〜７５重量％に相当する量の水
酸化アンモニウムを使用し、この工程で生成した析出物
を分離回収し、そして第２工程で残りの溶液を水酸化ア
ンモニウムで処理し、この処理で得られた純粋々二酸化
ケイ素析出物を分離回収することを特徴とする純粋な二
酸化ケイ素の製造方法。 - （２）両工程におＡて２５〜５０℃の温度を維持する特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 - （３）両工程において７）１ぐ拌されている反応器に同
時にかつ連続的に反応体を供給する特許請求の範囲第１
項か第２項に記載の方法。 - （４） 第１工程において上記転化に必要な化学量論
量の５０〜６０重量％に相当する量の水酸化アンモニウ
ムを使用する特許請求の範囲第１〜３項のいずれか１項
に記載の方法。 - （５）上記析出物の分離回収後に残った第１工程からの
溶液をイオン交換体で処理する特許請求の範囲第１〜４
項のηずれか１項に記載の方法。 - （６） 弱酸性のキレート化カチオン交換体で処理す
る特許請求の範囲第５項に記載の方法。 - （７）第２工程からの析出物を洗浄する特許請求の範囲
第６項に記載の方法。 - （８）水及び／又は希薄な鉱酸で洗浄する特許請求の範
囲第７項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8201925 | 1982-05-11 | ||
| NL8201925A NL8201925A (nl) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | Werkwijze voor het bereiden van zuiver siliciumdioxide, alsmede siliciumdioxide verkregen met deze werkwijze. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58208126A true JPS58208126A (ja) | 1983-12-03 |
Family
ID=19839713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58081599A Pending JPS58208126A (ja) | 1982-05-11 | 1983-05-10 | 純粋な二酸化ケイ素の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4465657A (ja) |
| EP (1) | EP0094139B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58208126A (ja) |
| DE (1) | DE3365265D1 (ja) |
| NL (1) | NL8201925A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4786487A (en) * | 1986-01-03 | 1988-11-22 | Mobil Oil Corporation | Preparation of crystalline silicoaluminophosphates |
| US4973462A (en) * | 1987-05-25 | 1990-11-27 | Kawatetsu Mining Company, Ltd. | Process for producing high purity silica |
| US4981664A (en) * | 1988-04-14 | 1991-01-01 | International Minerals & Chemical Corporation | Method of production of high purity silica and ammonium fluoride |
| US5028407A (en) * | 1990-01-25 | 1991-07-02 | International Minerals & Chemical Corp. | Method of production of high purity fusible silica |
| US5679315A (en) * | 1995-09-25 | 1997-10-21 | Nu-West Industries, Inc. | Method of production of high purity silica |
| US6440381B1 (en) * | 1998-01-15 | 2002-08-27 | Cabot Corporation | Continuous production of silica via ion exchange |
| US6063344A (en) * | 1999-06-01 | 2000-05-16 | Occidental Chemical Corporation | Removing anions from alkaline silicate solutions |
| US6593221B1 (en) * | 2002-08-13 | 2003-07-15 | Micron Technology, Inc. | Selective passivation of exposed silicon |
| RU2480421C1 (ru) * | 2012-01-26 | 2013-04-27 | Анатолий Дмитриевич Митрофанов | Способ комплексной очистки промышленных сточных вод, образующихся в производстве особо чистого кварцевого концентрата |
| CN110129560B (zh) * | 2019-06-19 | 2021-05-11 | 个旧兴华锌业有限公司 | 高硅氧化锌矿与高杂质次氧化锌粉联合提锌锭工艺 |
| IT201900015324A1 (it) * | 2019-08-30 | 2021-03-02 | Fluorsid S P A | Silice amorfa di purezza elevata e procedimento di preparazione della stessa |
| CN111453741B (zh) * | 2020-06-07 | 2022-10-21 | 福建硅纳金新材料有限公司 | 一种湿法提取回收含氟含硅废矿渣中二氧化硅的方法 |
| CN116986603B (zh) * | 2023-09-26 | 2023-12-05 | 中南大学 | 利用氟硅酸盐制备球形纳米二氧化硅的方法 |
Family Cites Families (3)
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