JPS58202442A - ポジティブ型フォトレジスト組成物 - Google Patents
ポジティブ型フォトレジスト組成物Info
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- JPS58202442A JPS58202442A JP58056850A JP5685083A JPS58202442A JP S58202442 A JPS58202442 A JP S58202442A JP 58056850 A JP58056850 A JP 58056850A JP 5685083 A JP5685083 A JP 5685083A JP S58202442 A JPS58202442 A JP S58202442A
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- water
- ammonium
- polyvinyl alcohol
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2278—Application of light absorbing material, e.g. between the luminescent areas
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ＪＣｒｋｉｎｇ ｒｅｓｉｓｔ ｃＯｍｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ ） 、その着色配合物およびカラー陰極紛管スクリ
ーンに光吸収マトリックスを形成するかかる着色配合物
を使用する方法に関する。
ｎ ） 、その着色配合物およびカラー陰極紛管スクリ
ーンに光吸収マトリックスを形成するかかる着色配合物
を使用する方法に関する。
一般に、カラーテレビジョン元Ｎ用Ｏこ用し）らｎ、る
ようなカラー陰極線管（ＣＲＴ ）に７クー、スト１ノ
テブ丁たはドツトの形状の蛍光体材料（ｐｈＯ８ｐｈｏ
’ｒｍａｔｅｒｉａｌ ）の反復基からなる型スクリー
ン（ｐａｔｔｅｒｎｅａ ５ｃｒｅｅｎ ）を肩してい
る。このためＧこ、スクリーンパターンを選釈陰袷ルミ
ネセント蛍先体から形成したドツト形状にする周知のシ
ャドーマスク管構造が弔いらｎている。かかるルミネセ
ント蛍光体は所望のカラーエマネーションを生するため
に予定１．子励起によって蛍光して添加主色相（ａａｄ
：Ｌｔ：Ｌｖｅ ｐｒｉｍａｒｙ ｈｕｅｓ ） ヲ生
ずる。
ようなカラー陰極線管（ＣＲＴ ）に７クー、スト１ノ
テブ丁たはドツトの形状の蛍光体材料（ｐｈＯ８ｐｈｏ
’ｒｍａｔｅｒｉａｌ ）の反復基からなる型スクリー
ン（ｐａｔｔｅｒｎｅａ ５ｃｒｅｅｎ ）を肩してい
る。このためＧこ、スクリーンパターンを選釈陰袷ルミ
ネセント蛍先体から形成したドツト形状にする周知のシ
ャドーマスク管構造が弔いらｎている。かかるルミネセ
ント蛍光体は所望のカラーエマネーションを生するため
に予定１．子励起によって蛍光して添加主色相（ａａｄ
：Ｌｔ：Ｌｖｅ ｐｒｉｍａｒｙ ｈｕｅｓ ） ヲ生
ずる。
蛍光体ドツトのこの電子励起は８個の電子銃からスクリ
ーンから離間して位置したシャドーマスクを通す電子ビ
ームを用いることによって達成す５る。シャドーマスク
には孔を設け、この各孔はそｎ （’ ｎ該孔を通過す
る選択電子ビームをスクリーン上の適当な蛍光ドツトに
衝突できるスクリーン値造における類似形状のドツトの
特定群に関係する。一般に、こｎらの孔は＠接ドツトの
電子励起の可能性を減少して色純度を高めるために比較
的に小ぎい間隙空間によって分離さｎている。
ーンから離間して位置したシャドーマスクを通す電子ビ
ームを用いることによって達成す５る。シャドーマスク
には孔を設け、この各孔はそｎ （’ ｎ該孔を通過す
る選択電子ビームをスクリーン上の適当な蛍光ドツトに
衝突できるスクリーン値造における類似形状のドツトの
特定群に関係する。一般に、こｎらの孔は＠接ドツトの
電子励起の可能性を減少して色純度を高めるために比較
的に小ぎい間隙空間によって分離さｎている。
生成カラースクリーン像の輝度２色純度および色調を高
めるために、一般に蛍光体ドツト、ストリップまたはバ
ー相互間の間隙空間には不透明な光吸収材料または一般
に黒色顔料（ｂｌａｃｋｐｉｇｍｅｎｔｅｄ ｍａｔｅ
ｒｉａｌ ）であるマトリックスか使用さｎている。
めるために、一般に蛍光体ドツト、ストリップまたはバ
ー相互間の間隙空間には不透明な光吸収材料または一般
に黒色顔料（ｂｌａｃｋｐｉｇｍｅｎｔｅｄ ｍａｔｅ
ｒｉａｌ ）であるマトリックスか使用さｎている。
米器特許第ｓ、 ６５１１１．５８０号明細書にはカラ
ーＣＲＴのスクリーンに上記光吸収マトリックスを設け
る方法が記載さｎでいる。
ーＣＲＴのスクリーンに上記光吸収マトリックスを設け
る方法が記載さｎでいる。
この米国特許明細書に記載されている方法においてに、
スクリーンの内面を六価クロムｈａ材料て感光活性にし
たポリビニルアルコール溶液の薄い均一層で被覆してい
る。次いで、この被覆スクリーンに光をパターンマスク
の孔を通して露光し、これＧこよって感光性ホ゛リビニ
ルアルコール層の露Ｘ部分を重合する。次いで、この重
合被覆を水に浸してポリビニルアルコール層の非露光、
すなわち、非重合区域を除去し、これによって実質的に
さｎいなガラスの間隙パターンまたはウェッブで分離さ
ｎに重合ポリビニルアルコールドツトの篠数の反復素子
が得られる。
スクリーンの内面を六価クロムｈａ材料て感光活性にし
たポリビニルアルコール溶液の薄い均一層で被覆してい
る。次いで、この被覆スクリーンに光をパターンマスク
の孔を通して露光し、これＧこよって感光性ホ゛リビニ
ルアルコール層の露Ｘ部分を重合する。次いで、この重
合被覆を水に浸してポリビニルアルコール層の非露光、
すなわち、非重合区域を除去し、これによって実質的に
さｎいなガラスの間隙パターンまたはウェッブで分離さ
ｎに重合ポリビニルアルコールドツトの篠数の反復素子
が得られる。
次いで、このパネルをグラファイトの不６明コロイド懸
濁物で被覆し、乾燥して裸ガラスおよび重合ポリビニル
アルコールドツト上に存在する不透明グラファイト皮膜
を形成する。
濁物で被覆し、乾燥して裸ガラスおよび重合ポリビニル
アルコールドツト上に存在する不透明グラファイト皮膜
を形成する。
次いで、パネルを重合ポリビニルアルコールドツトを分
解する（ｄｅｇｒａｄｉｎｇ ）ことのできるヒドラゾ
−還元剤で処理する。この処理によって、光重合ポリビ
ニルアルコールパターン ドツトを分解し、こｎらのド
ツト上に位置するグラファイト皮膜がスクリーンからｌ
＠ｎる〇 次いで、スクリーンをゆすいで＃ワ、た分解ホ“リビニ
ルアルコールドットおよび関連するグラファイトを除去
し、グラファイトの不透明間隙ウェッブまたはマ） Ｉ
Ｊソックス包囲ざ７また多数のさｒＬいなガラス窓が残
留する。
解する（ｄｅｇｒａｄｉｎｇ ）ことのできるヒドラゾ
−還元剤で処理する。この処理によって、光重合ポリビ
ニルアルコールパターン ドツトを分解し、こｎらのド
ツト上に位置するグラファイト皮膜がスクリーンからｌ
＠ｎる〇 次いで、スクリーンをゆすいで＃ワ、た分解ホ“リビニ
ルアルコールドットおよび関連するグラファイトを除去
し、グラファイトの不透明間隙ウェッブまたはマ） Ｉ
Ｊソックス包囲ざ７また多数のさｒＬいなガラス窓が残
留する。
１′欠いで、この７得られ、た窓パターンスクリーンを
乾燥し、普通のスクリーニング技術によって蛍光体を個
々の窓区域に付着し、陰極ルミネセントスクリーンを形
成する。
乾燥し、普通のスクリーニング技術によって蛍光体を個
々の窓区域に付着し、陰極ルミネセントスクリーンを形
成する。
この方法は潜在的な取扱い誤差およびスクリーンに不純
物（ｄｉｒｔ ）を混入する機会を与える多くの工程か
らなるプロセスを必要とする欠点がある。
物（ｄｉｒｔ ）を混入する機会を与える多くの工程か
らなるプロセスを必要とする欠点がある。
更に、六価クロムを使用する場合には、この材料および
ヒドラゾ−還元材料が極めて少量でも潜在的な汚染問題
を生ずる。
ヒドラゾ−還元材料が極めて少量でも潜在的な汚染問題
を生ずる。
光吸収不透明マトリックスを形成する類似する方法は米
国特許第８．８２２．４５４号明細書（特に第９１１＆
を第２（）〜６０行）および第４．２４．５，０１９号
明細書（特に第４−９第３７行〜第５％第６０行）に記
ｔ、ｇｎでおり、こｎらの方法では過酸化水素溶液を分
解剤（ａｅｇｒａｄｉｎｇ ａｇｅｎｔ ）として使用
している。
国特許第８．８２２．４５４号明細書（特に第９１１＆
を第２（）〜６０行）および第４．２４．５，０１９号
明細書（特に第４−９第３７行〜第５％第６０行）に記
ｔ、ｇｎでおり、こｎらの方法では過酸化水素溶液を分
解剤（ａｅｇｒａｄｉｎｇ ａｇｅｎｔ ）として使用
している。
過酸化水テを使用する場合には、上記米国特許第８．６
５８．５８１１号明細書に記載さねているヒドラジド分
解溶液に対して危険性が少ない利点を有するが、しかし
過酸化水素溶液の使用には、なお過酸化水素溶液が危険
性を有するので望ましくない。
５８．５８１１号明細書に記載さねているヒドラジド分
解溶液に対して危険性が少ない利点を有するが、しかし
過酸化水素溶液の使用には、なお過酸化水素溶液が危険
性を有するので望ましくない。
この渦部化水素溶液は安全性にするためにおよび適当な
像現像するためには厳格に１！！＋御する必要がある。
像現像するためには厳格に１！！＋御する必要がある。
更に、製造プラント流水液に存在する非分割過酬化水累
は三価クロム（前の露光プロセスによって生じる）を六
価クロム化合物に再酸化する。
は三価クロム（前の露光プロセスによって生じる）を六
価クロム化合物に再酸化する。
本発明の目的は六価クロム酸塩および池の危険性の惧わ
のある材料を全く使用しｒよいか、または殆んど使用し
ないフォトレジスト組成物を提供することである。
のある材料を全く使用しｒよいか、または殆んど使用し
ないフォトレジスト組成物を提供することである。
本発明の曲の目的はカラー陰極線管の製造において光吸
収不透明マトリックスを形成するのに用いる優れたフォ
トレジスト組成物を提供することである。
収不透明マトリックスを形成するのに用いる優れたフォ
トレジスト組成物を提供することである。
本発明の更Ｏこ能の目的は実質的に処理工程を減少した
、カラー陰ｔＭ線管のスクリーン上に光吸収不透明マト
リックスを形成する方法を提供することである。
、カラー陰ｔＭ線管のスクリーン上に光吸収不透明マト
リックスを形成する方法を提供することである。
未発１１１１ｍの１つの観点においては、新規なポジテ
ィブ型フォトレジスト組成物を得ることで、この組成物
は六価クロムまたは池の危険性材料の代りにアンモニウ
ムトリオキザラートフエラート（ａｌ！ｌ！ｎｏｎｉｕ
ｍ ｔｒｉＯＸａｌａｔｏｆｅｒｒａｔｅ ）または三
りエン酸鉄アンモニウム第’５ 銖（ｆｅｒｒｉｃ ａ
ｍｍｏｎｉｕｍｆｒｉＣｉｔｒａｔｅ ）の水溶液に８
５〜９９％加水分解ポリビニルアルコール、硝酸第二鉄
または一１酸第二鉄の如き無機第二鉄塩、および１，４
−ブタンジオール、】、５−ベンタンジオールおよび１
゜４−ベンタンジオールの如きジオールを水に混合した
混合物からなる。
ィブ型フォトレジスト組成物を得ることで、この組成物
は六価クロムまたは池の危険性材料の代りにアンモニウ
ムトリオキザラートフエラート（ａｌ！ｌ！ｎｏｎｉｕ
ｍ ｔｒｉＯＸａｌａｔｏｆｅｒｒａｔｅ ）または三
りエン酸鉄アンモニウム第’５ 銖（ｆｅｒｒｉｃ ａ
ｍｍｏｎｉｕｍｆｒｉＣｉｔｒａｔｅ ）の水溶液に８
５〜９９％加水分解ポリビニルアルコール、硝酸第二鉄
または一１酸第二鉄の如き無機第二鉄塩、および１，４
−ブタンジオール、】、５−ベンタンジオールおよび１
゜４−ベンタンジオールの如きジオールを水に混合した
混合物からなる。
本発明の上述する組成物は六価クロムで活性したポリビ
ニルアルコール組成物と相違しているポジティブ型レジ
スト組成物である。
ニルアルコール組成物と相違しているポジティブ型レジ
スト組成物である。
本発明の感光性組成物は次に記載するように使用してポ
ジティブフォトレジストを形成する。組成物の薄い層を
基体に被着する。この薄い層を常温で乾燥して層が移動
しなくなるような十分な分量の水を除去する。次いで、
この薄い層を所望パターンで３ （１２ｎｍ〜約４ Ｒ
８ｎｍの範囲内の輻射線に露光して水溶性の露光区域を
形成する。この選択的に露光した層を約３５．０〜４８
．９”ｃ （９５〜１２０″Ｆ）で加熱して残留する水
を除去して水に不溶性の非露光区域を形成する。最後に
１層を水で現像して層の露光部分（区域）を除去する。
ジティブフォトレジストを形成する。組成物の薄い層を
基体に被着する。この薄い層を常温で乾燥して層が移動
しなくなるような十分な分量の水を除去する。次いで、
この薄い層を所望パターンで３ （１２ｎｍ〜約４ Ｒ
８ｎｍの範囲内の輻射線に露光して水溶性の露光区域を
形成する。この選択的に露光した層を約３５．０〜４８
．９”ｃ （９５〜１２０″Ｆ）で加熱して残留する水
を除去して水に不溶性の非露光区域を形成する。最後に
１層を水で現像して層の露光部分（区域）を除去する。
次に記載する説明に拘束さｎ’ｒｔいが、この感光性組
成物の作用する機構を次に説明する０組成物を十分に乾
燥する場合には、結晶水たけを溶解する硝酸第二鉄のＦ
ｅ はポリビニルアルコールのヒドロキシル基と反
応してこｎらの分子銀の架橋から酢素−鉄−酸素結合を
不茫性にする錯体を形成する。こちらの結合は破壊でき
、一体は露光によって可溶性になり酢酪、クエン酸また
は蓚酸の如き有＠酸を稀釈する。
成物の作用する機構を次に説明する０組成物を十分に乾
燥する場合には、結晶水たけを溶解する硝酸第二鉄のＦ
ｅ はポリビニルアルコールのヒドロキシル基と反
応してこｎらの分子銀の架橋から酢素−鉄−酸素結合を
不茫性にする錯体を形成する。こちらの結合は破壊でき
、一体は露光によって可溶性になり酢酪、クエン酸また
は蓚酸の如き有＠酸を稀釈する。
しかしながら、蓚酸鉄アンモニウムまたはクエン醒鉄ア
ンモニウムの如き安定化酸性塩を用いる場合には、この
酸性塩は酸を十分に遅い速度で解放し感光性組成物に実
際に使用することができる。
ンモニウムの如き安定化酸性塩を用いる場合には、この
酸性塩は酸を十分に遅い速度で解放し感光性組成物に実
際に使用することができる。
感光性組成物におけるこちらの鉄アンモニウム塩の利用
性は、こちらの塩が極めて徐々に反応して通常の条件下
て第二鉄イオンポリビニルアルコール固体を再溶解化す
るが、しかし水銀ランプの如きＵＶ元光源露光した場合
には速やかに分解して遊離酸を供給し、第二鉄イオンポ
リビニルアルコール錯体を極めて速やかに溶解化する能
力に基因する。
性は、こちらの塩が極めて徐々に反応して通常の条件下
て第二鉄イオンポリビニルアルコール固体を再溶解化す
るが、しかし水銀ランプの如きＵＶ元光源露光した場合
には速やかに分解して遊離酸を供給し、第二鉄イオンポ
リビニルアルコール錯体を極めて速やかに溶解化する能
力に基因する。
本発明においては有機第二鉄塩として三りエン醗鉄アン
モニウムおよびアンモニウムトリオキザラートフエラー
トを用いることができるか、アンモニウムトリオキザラ
ートフエラートハ大キい溶解度を有しているために好ま
しい。
モニウムおよびアンモニウムトリオキザラートフエラー
トを用いることができるか、アンモニウムトリオキザラ
ートフエラートハ大キい溶解度を有しているために好ま
しい。
使用するジオールとしては１，４−ブタンジオールが好
ましく、無機鉄をしては硝酸第二鉄が好ましい。
ましく、無機鉄をしては硝酸第二鉄が好ましい。
こちらの組成物の固形分は、一般に３〜７重量％である
。
。
特に、好ましい組成物は８８％加水分解ポリビニルアル
コール］ ｌ） （１ｇ当り約８（］〜２００９の１．
４−ブタンジオール、約８５〜】２５Ｑのアンモニウム
トリオキザラートフェラート、約３０〜］ ００ に
Ｉの硝酸第二鉄および約］ Ｏｏ（１〜５００ Ｉ＋ｔ
ｎｌの水を含有する。
コール］ ｌ） （１ｇ当り約８（］〜２００９の１．
４−ブタンジオール、約８５〜】２５Ｑのアンモニウム
トリオキザラートフェラート、約３０〜］ ００ に
Ｉの硝酸第二鉄および約］ Ｏｏ（１〜５００ Ｉ＋ｔ
ｎｌの水を含有する。
特に、本発明のこの観点におけるポジティブ型フォトレ
ジスト組成物はカラー映像管スクリーン構造体、例えば
黒色光吸収マ） ＩＪラックス製造に用いることかでさ
、この方法はかかるフォトレジスー絹成物の層をガラス
ＣＲＴエンベロツブの目視パネル（ｖｉｅｗｉｎｇｐａ
ｎｅｌ ）の内面に堆積し、フォトレジスト層をＮヤド
ーマスクを介して露光し、この露光フォトレジスト層上
に不透明グラファイト層を不透明グラファイト分敷物〃
）ら堆積し、次いでこれらの堆積層を水で現像して目視
パネルからフォトレジスト層の露光層と関連するグラフ
ァイト層を除去する。
ジスト組成物はカラー映像管スクリーン構造体、例えば
黒色光吸収マ） ＩＪラックス製造に用いることかでさ
、この方法はかかるフォトレジスー絹成物の層をガラス
ＣＲＴエンベロツブの目視パネル（ｖｉｅｗｉｎｇｐａ
ｎｅｌ ）の内面に堆積し、フォトレジスト層をＮヤド
ーマスクを介して露光し、この露光フォトレジスト層上
に不透明グラファイト層を不透明グラファイト分敷物〃
）ら堆積し、次いでこれらの堆積層を水で現像して目視
パネルからフォトレジスト層の露光層と関連するグラフ
ァイト層を除去する。
しかしながら、これらの組成物は例えばプリント回路：
２製債する池の目的に、フォトエツチングのために、お
よび多くの能の目的のために用いることができる。
２製債する池の目的に、フォトエツチングのために、お
よび多くの能の目的のために用いることができる。
本発明の池の観点においては、黒色光吸収マトリックス
をカラー映像管スクリーン上に形成するのに特に適用で
きる包着ポジティブ型フォトレジスト組成物およびこの
組成物をかかる黒色光吸収マトリックスの形成に用いる
方法を提供することであるＯ この新規な組成物は微細顔料で着色した上述するポジテ
ィブ型フォトレジスト組成物からなる。
をカラー映像管スクリーン上に形成するのに特に適用で
きる包着ポジティブ型フォトレジスト組成物およびこの
組成物をかかる黒色光吸収マトリックスの形成に用いる
方法を提供することであるＯ この新規な組成物は微細顔料で着色した上述するポジテ
ィブ型フォトレジスト組成物からなる。
本発明のこの黒色ポジティブ型フォトレジスト組成物は
カラー映像管スクリーンに黒色光吸収マトリックスを形
成するのに特に適用でさ、この場合危険性の四クロム酸
アンモニウムおよび過酸化水素またはヒドラジド水溶液
の使用を省くことができると共に、光吸収マトリックス
を形成するのに必要な処理工程を減少することができる
利点を有する。
カラー映像管スクリーンに黒色光吸収マトリックスを形
成するのに特に適用でさ、この場合危険性の四クロム酸
アンモニウムおよび過酸化水素またはヒドラジド水溶液
の使用を省くことができると共に、光吸収マトリックス
を形成するのに必要な処理工程を減少することができる
利点を有する。
黒色顔料としては、一般に微細なグラファイトまたはラ
ンプブラックを用いることができ、一般にグラファイト
は０．８〜１．８ｕの平均粒度を有するグラファイトを
使用し、ランプブラックは約７ （１〜］ （１０ｍＨ
の平均粒度のランプブラックを使用する。 ゛ 顔料の固形分は約８〜７重量％が好ましい。
ンプブラックを用いることができ、一般にグラファイト
は０．８〜１．８ｕの平均粒度を有するグラファイトを
使用し、ランプブラックは約７ （１〜］ （１０ｍＨ
の平均粒度のランプブラックを使用する。 ゛ 顔料の固形分は約８〜７重量％が好ましい。
特に有用な着色組成物は約１モルの約８８％加水分解ポ
リビニルアルコール、約０．５〜１．５モルの】、４−
ブタンジオール、約０．５〜１．５モルのアンモニウム
トリオキザラートフエラート、約（１，１１５〜０．
０７モルの硝＠第二鉄および約３〜］２モルの微細ｑグ
ラファイトまたはランプブラックを水に混合し７ｊ３〜
７容に％混合物からなる。
リビニルアルコール、約０．５〜１．５モルの】、４−
ブタンジオール、約０．５〜１．５モルのアンモニウム
トリオキザラートフエラート、約（１，１１５〜０．
０７モルの硝＠第二鉄および約３〜］２モルの微細ｑグ
ラファイトまたはランプブラックを水に混合し７ｊ３〜
７容に％混合物からなる。
ポリビニルアルコールは約４１１．１１ （１１１〜１
７５．０（［）の範囲の分子量を有するものが好ましい
。
７５．０（［）の範囲の分子量を有するものが好ましい
。
本発明の池の観点において、本発明の着色、フォトレジ
ストＭｉ成物は九発元区域（ｌｉｇｈｔ ｌｕｍｉｎｅ
ｓｃｉｎｇａｒｅａｓ ）を分離する黒色光吸収マトリ
ックスを次に記載する方法によってカラー映像管スクリ
ーン上に形成するのに使用することかでさる。すなわち
、着色フォトレジスト組成物の薄い水性層をＣＲＴエン
ベロツブの目視バ鬼ルの内面に被着する。この水性層を
常温で約１５〜】８０秒間にわたり乾燥して若干の水を
除去し、この薄層を移動しないようにする。しかる後に
、この層を該層から離ｎた位置に配置したパターンマス
クの多数の孔を通してビーム什した竪外角゛にｉ元して
こｎらの区域を蛍光体で被覆して水溶性にする。通常、
層は８同順次に露光する：各露九のための光源は完成管
において望ましいカラーパターンを励起するのに用いる
順次に配置した電子銃の位置にほぼ相当する位置に配置
する。次いで、露光層をｌθ〜１６７．０°Ｃ（・５０
〜］ ２０’Ｆ ）で約】〜８分間加熱して残留する水
を除失し、層の非露光区域を水に不溶性にする。次いで
、層の露光部分を水で現像して除去する。
ストＭｉ成物は九発元区域（ｌｉｇｈｔ ｌｕｍｉｎｅ
ｓｃｉｎｇａｒｅａｓ ）を分離する黒色光吸収マトリ
ックスを次に記載する方法によってカラー映像管スクリ
ーン上に形成するのに使用することかでさる。すなわち
、着色フォトレジスト組成物の薄い水性層をＣＲＴエン
ベロツブの目視バ鬼ルの内面に被着する。この水性層を
常温で約１５〜】８０秒間にわたり乾燥して若干の水を
除去し、この薄層を移動しないようにする。しかる後に
、この層を該層から離ｎた位置に配置したパターンマス
クの多数の孔を通してビーム什した竪外角゛にｉ元して
こｎらの区域を蛍光体で被覆して水溶性にする。通常、
層は８同順次に露光する：各露九のための光源は完成管
において望ましいカラーパターンを励起するのに用いる
順次に配置した電子銃の位置にほぼ相当する位置に配置
する。次いで、露光層をｌθ〜１６７．０°Ｃ（・５０
〜］ ２０’Ｆ ）で約】〜８分間加熱して残留する水
を除失し、層の非露光区域を水に不溶性にする。次いで
、層の露光部分を水で現像して除去する。
この結果、目視パネルの表面に、当業者において周知の
手段で陰極ルミネセント蛍元体を設けることニヨって元
発元区域に形成するのに適当な表面の黒色光吸収マ）
ＩＪソックス囲区域が形成する。
手段で陰極ルミネセント蛍元体を設けることニヨって元
発元区域に形成するのに適当な表面の黒色光吸収マ）
ＩＪソックス囲区域が形成する。
次に、本発明を例について説明する。
例Ｉ 無着色フォトレジスト組成物
無着色フォトレジスト組成物を次の成分を混合して作っ
た： ポリビニルアルコール５８ｆ！ ８０００ ｍ（
分子量４０．０（１０〜１７５．０００の８８％加水分
解ポリビニルアルコール（７１）５．ｆｔ５％水溶液） 】、４ブタンジオール １５〇−説イオ
ン化水 ７９４（１−得らｎた組成物
をガラスパネルの表面に堆積して約］Ｏｕ厚さの層を形
成した。
た： ポリビニルアルコール５８ｆ！ ８０００ ｍ（
分子量４０．０（１０〜１７５．０００の８８％加水分
解ポリビニルアルコール（７１）５．ｆｔ５％水溶液） 】、４ブタンジオール １５〇−説イオ
ン化水 ７９４（１−得らｎた組成物
をガラスパネルの表面に堆積して約］Ｏｕ厚さの層を形
成した。
次いで、この被覆パネルを常温で約１〜２分間にわたっ
てスパン（８１）ｕｎ ） して層を移動しないように
するのに十分な分量の水を除去した。
てスパン（８１）ｕｎ ） して層を移動しないように
するのに十分な分量の水を除去した。
次いで、層を】（ＩＯワット元光源ら８６５ ｎｍの紫
外線を約６〜］０ミルの孔を有するシャドーマスクを通
し約４５ 秒ｆｊｌｌｆ５’ｅＬｈ。
外線を約６〜］０ミルの孔を有するシャドーマスクを通
し約４５ 秒ｆｊｌｌｆ５’ｅＬｈ。
次いで、この露九層を３７．８°Ｃ（１ｏｏ’Ｆ）で約
】分間乾燥した。次いで、形成した約（１，５〜１．Ｏ
ｕの乾燥層を水で洗浄して現像した。
】分間乾燥した。次いで、形成した約（１，５〜１．Ｏ
ｕの乾燥層を水で洗浄して現像した。
この結果、硬く、水に不溶性の重合ポリビニルアルコー
ルの０゜７ｕ厚さの網状構造で包囲さｎたきれいで透明
な窒のパターンがパネル上に形成した。各窓は約６〜ｌ
Ｏミルの直径を有し、かつシャドーマスクの孔に相当し
てい７Ｃ。
ルの０゜７ｕ厚さの網状構造で包囲さｎたきれいで透明
な窒のパターンがパネル上に形成した。各窓は約６〜ｌ
Ｏミルの直径を有し、かつシャドーマスクの孔に相当し
てい７Ｃ。
例■ 着色フォトレジスト組成物
黒色フォトレジスト組成物を次の成分を混合して作った
： ポリビニルアルコール５１３ ２（１０−］００％
、４−ブタンジオール ２６〇−得らｎた組成物を
陰極線管エンベロツブのガラス面板の内面に堆積した。
： ポリビニルアルコール５１３ ２（１０−］００％
、４−ブタンジオール ２６〇−得らｎた組成物を
陰極線管エンベロツブのガラス面板の内面に堆積した。
次いで、エンベロツブを常温で約３分間にわたりスパン
して堆積層を不動にするのに十分な分量の水を除去した
。
して堆積層を不動にするのに十分な分量の水を除去した
。
上述する例ＩＧこ巾いたと同じシャドーマスクを堆積層
から離間して配置した目視パネルに付着した。次いで、
層をマスクを介して上述と同様の光源に約１分間露光し
た。
から離間して配置した目視パネルに付着した。次いで、
層をマスクを介して上述と同様の光源に約１分間露光し
た。
光源の位置は完成管に用いた１つの主カラー発元蛍九体
層を励起するのに用いた順次に配置した１つの電子銃の
位置に相当させた。
層を励起するのに用いた順次に配置した１つの電子銃の
位置に相当させた。
光源を完成管に用いた池の２つの主カラー発元蛍光体層
を励起するのに用いた２個の池の順次に配置した電子銃
しこ相当する位置に配置した。層をこわ、らの２つの位
置から同様にして露光した。
を励起するのに用いた２個の池の順次に配置した電子銃
しこ相当する位置に配置した。層をこわ、らの２つの位
置から同様にして露光した。
次いで、露光度÷を約３７．８°ｃ（］ｐ０６Ｆ）で約
３分間にわたり′ｔ＃−燥した。形成した約１〜１．５
ｕ厚さの硬い黒色不透明層を常温で水洗により現像した
。
３分間にわたり′ｔ＃−燥した。形成した約１〜１．５
ｕ厚さの硬い黒色不透明層を常温で水洗により現像した
。
この結果、層の露光部分を除失し、黒色光吸収マトリッ
クス包囲透明窒を残留しｔ０各窓区域はシャドーマスク
の孔にほぼ相当し、当業者において周知の手段で主光陰
極発元蛍九体を被覆するのに適当であった。
クス包囲透明窒を残留しｔ０各窓区域はシャドーマスク
の孔にほぼ相当し、当業者において周知の手段で主光陰
極発元蛍九体を被覆するのに適当であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔ アンモニウム トリオキザラートフエラートおよび
三クエン酸鉄アンモニウムからなる群から選択する有機
第二鉄塩、８５〜９９％加水分解ポリビニルアルコール
、硝酸第二鉄および硫＠第二鉄からなる群から選択する
無機第二鉄塩、および１．−４−ブタンジオール１１１
、 ５−ベンタンジオールおよび１．４−ベンタンジオ
ールからなる群から選択するジオールを水に混合した混
合物からなることを特徴とするポジティブ型フォトレジ
スタ組成物。 ｌ 前記有機第二鉄塩をアンモニウム トリオキザラ
ートフエラートとし、無機第二鉄塩を硝酸第二鉄とし、
およびジオールを１，４−ブタンジオールとした特許請
求の範囲第１項記載の組成物。 ＆ ８８慟加水分解ポリビニルアルコール１００ｇ当り
、約８０〜２００９の１，４−ブタンジオール、約３５
〜１２５％のアンモニウムトリオキザラートフエラート
、約３０〜１００ｇの硝酸第二鉄および約１０００〜５
０００−の水を存在させた特許請求の範囲第２項記載の
組成物。 ４ 組成物１００ Ｔ＋ ｍ当り約１７〜１８すのポリ
ビニルアルコール、約１５〜１６ｍ１の１，４−ブタン
ジオール、約９〜１０９のアンモニウム トリオキザラ
ートフエラートおよび約７〜８９の硝龜第二鉄を存在し
た特許請求の範囲第２項記載の組成物。 翫 ８５〜９９％加水分解ポリビニルアルコール、アン
モニウム トリオキザラートフェラートおよび三りエン
醸鉄アンモニウムからなる群から選択する有機第二鉄塩
、硝酸第二鉄および硫′８！！第二鉄からなる群がら選
択する無機第二鉄塩、】、４−ブタンジオール、１．５
−ベンタンジオールおよび１，４−ベンタンジオールか
らなる群から選択するジオール類。 および微細黒色顔料を水に混合した混合物からなり、黒
色光吸収マトリックスをカラー映像管スクリーン上に形
成するのに用いること′ｆｒ：特徴とするポジティブ型
フォトレジスト組成物。 ａ 前記微細黒色顔料は微細グラファイトおよびランプ
ブラックからなる群から選択した特許請求の範囲第５項
記載の組成物。 ７ 前記組成物の固形分は３〜７重量％とした特許請求
の範囲第６項記載の組成物。 ８ 前記有機第二鉄環をアンモニウム トリオキザラー
トフエラートとし、前記無機第二鉄塩ひ硝酸第二鉄とし
、および前記ジオールを１゜４−ブタンジオールとしＴ
−特許請求の範囲第７項記載の組成物。 ９ 約１モルの約８８％加水分解ポリビニルアルコール
、約０．５〜１．５モルの１，４−ブタンジオール？約
（１，５〜１．５モルのアンモニウム トリオキザラー
トフェラート、約＋１．（１５〜０．（１７モルの硝酸
第二鉄、および約８〜１２モルの微細グラファイトおよ
びランプブラックからなる群から選択する微細黒色顔料
を水に混合した３〜７容麓％混合物からなり、黒色光吸
収マトリックスをカラー鉄像管スクリーンに形成するの
に用いることを特徴とするポジティブ型フォトレジスト
組成物。 ｌＯ０前記ポリビニルアルコールは４０．０００〜１７
５．０００の分子量を有する特許請求の範囲第９項記載
の組成物。 １１ 前ＬＷｉ、細グラファイトとして０．８〜］、
８ｕの、平均粒度を有するグラファイトを用いる特許請
求の範囲第１ （１項記載の組成物。 １２ 前記ランプブラックとして７０〜１００ ｍｕ
の平均粒度を珊するランプブラックを用いる特許請求の
範囲第１０項記載の組成物。 １＆ 目視パネルδよび該目視パネルの内面上に位置す
る電子励起に応答する個々のカラー発光区域を含むカラ
ー陰極線管スクリーンに前記カラー発光「域を分離する
黒色光吸収マトリックスを形成する方法において、 ａ）ガラス陰極線管エンベロツブの目視パネルの内面の
面上に、約１モルの約８５〜９９％加水分解ボリヒニル
アルコール、約０．５〜１．５モルの１，４−ブタンジ
オール、約０．５〜１．５モルのアンモニウムトリオキ
ザラートフエラート、約ｏ、ｏ５〜０．０７モルの硝酸
第二鉄および約３〜】２モルの微細グラファイトまたは
ランプブラックの水に混合した８〜７容量％混合物の薄
い水性層を被着し、 ｂ）この水性層を常温で約１５〜１８０秒間にわたり乾
燥してこの層を移動しｌいようにし、Ｃ）前言６刀う−
発九区域Ｇこ相ヨする前記薄い層の区域を紫外線に露光
して窯元区域を水に可溶性にし、 ｄ）前記薄い層を３５．０〜４８．９℃（９５〜１２０
’Ｆ ）の温度で約１〜８分間にわたり加熱して畦記薄
層マトリックスから残留する水を除去し、前記層の非露
光区域を水に不溶性にし、および ｅ）前記層の露光部分を該層を水で埃像して前記表面か
ら除去し、こｎにより前記表面に前記カラー発光区域を
形成する蛍光体で被駈するのに一当な前記表面の黒色光
吸収マ） ＩＪソックス囲区域を設けることを特徴とす
るカラー陰極線管スクリーンの形成方法。 １４ ポリビニルアルコールを４（１，（１０（１〜
１７５．００（１の分子量ヲ有する８８％加水分解ポリ
ビニルアルコールとする特許請求の範囲第１３項記載の
方法。 １ ０．８〜］、３ｕの平均粒度の微細グラファイトを
用いる特許請求の範囲第１４項記載の方法Ｏ １ａ ７０〜１００ ｍＨの平均粒度のランプブラック
を用いる特許請求の範囲第１４項記載の方法０
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US36494982A | 1982-04-02 | 1982-04-02 | |
| US364949 | 1982-04-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58202442A true JPS58202442A (ja) | 1983-11-25 |
| JPH03619B2 JPH03619B2 (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=23436824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58056850A Granted JPS58202442A (ja) | 1982-04-02 | 1983-04-02 | ポジティブ型フォトレジスト組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0091163B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58202442A (ja) |
| KR (1) | KR910000839B1 (ja) |
| DE (1) | DE3374719D1 (ja) |
| HK (1) | HK59288A (ja) |
| SG (1) | SG26288G (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6267529A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性記録材料 |
| JPH01273039A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | ポジ型電子線レジスト |
| JPH0256827A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-02-26 | Nec Corp | カラー受像管の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS6145530A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-05 | Hitachi Ltd | カラ−ブラウン管螢光面の製造方法 |
| GB2218846A (en) * | 1988-05-20 | 1989-11-22 | Rank Brimar Ltd | Manufacture of colour crt phoshor screen |
| DE69130701T2 (de) * | 1990-10-29 | 1999-08-26 | Toyo Gosei Kogyo Co. Ltd. | Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix |
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| DE1622462A1 (ja) * | 1960-10-11 | |||
| DE1437892C3 (de) * | 1964-07-23 | 1974-08-22 | Gte Sylvania Inc., Wilmington, Del. (V.St.A.) | Verfahren zur Herstellung von Leuchtschirmen für Farbfernseh-Kathodenstrahlröhren |
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| US4049452A (en) * | 1975-04-23 | 1977-09-20 | Rca Corporation | Reverse-printing method for producing cathode-ray-tube-screen structure |
-
1983
- 1983-03-30 DE DE8383200445T patent/DE3374719D1/de not_active Expired
- 1983-03-30 EP EP83200445A patent/EP0091163B1/en not_active Expired
- 1983-04-02 JP JP58056850A patent/JPS58202442A/ja active Granted
- 1983-04-02 KR KR1019830001376A patent/KR910000839B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-04-18 SG SG262/88A patent/SG26288G/en unknown
- 1988-08-04 HK HK592/88A patent/HK59288A/xx unknown
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HK59288A (en) | 1988-08-12 |
| EP0091163A3 (en) | 1984-09-05 |
| EP0091163A2 (en) | 1983-10-12 |
| SG26288G (en) | 1988-07-15 |
| KR840004822A (ko) | 1984-10-24 |
| DE3374719D1 (en) | 1988-01-07 |
| JPH03619B2 (ja) | 1991-01-08 |
| EP0091163B1 (en) | 1987-11-25 |
| KR910000839B1 (ko) | 1991-02-11 |
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