JPS58202440A - Ultraviolet-curing composition for filling hole - Google Patents

Ultraviolet-curing composition for filling hole

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JPS58202440A
JPS58202440A JP8484882A JP8484882A JPS58202440A JP S58202440 A JPS58202440 A JP S58202440A JP 8484882 A JP8484882 A JP 8484882A JP 8484882 A JP8484882 A JP 8484882A JP S58202440 A JPS58202440 A JP S58202440A
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    • H05K3/061Etching masks
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Abstract

PURPOSE:To obtain an ultraviolet-curing composition for filling holes with superior ultraviolet-curability, through hole protecting power and alkali removability, by mixing a satd. org. compound having a specified acid value with a monoester compound and a photosensitizer. CONSTITUTION:A satd. org. compound (A) having >=60 deg.C softening point and 50-500 acid value such as phthalic anhydride is mixed with a monoester compound (B) represented by formula I , II or III (where R is H or methyl, R' is H or 1-4C alkyl, and Y is a bivalent org. group) and a photosensitizer (C) such as benzoin to obtain the desired ultraviolet-curing composition for filling holes. In order to temporarily protet plating in through-holes in a both-side printed wiring substrate from etching during pattern formation, the composition is filled into the holes, cured with ultraviolet rays, and removed with an aqueous alkali soln. after finishing etching.

Description

【発明の詳細な説明】 メソキ層を、パターン形成時にエツチンクから一時的に
保護するために用いる紫外線硬化性の孔埋め用組成物に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an ultraviolet curable pore-filling composition used to temporarily protect a mesh layer from etching during pattern formation.

近年、電気部品の集積化が進みプリント配線基板の表裏
に導体パターンを形成した両面プリント配線基板の用途
が増大している。
In recent years, the integration of electrical components has progressed, and the use of double-sided printed wiring boards in which conductive patterns are formed on the front and back sides of printed wiring boards has increased.

従来、上記両面プリント配線基板の製造方法としては、
先ず両面銅張積層板の所望個所にスルーポール用の孔を
あけ、この孔部にスルーホールメソキ法により導通メソ
キ層を形成し、表裏の導体パターンの電気的接続をする
スルーホールを形成する0次に、スルーホール内に熱硬
化性の孔埋めインクを充填し、孔埋めインクを加熱硬化
する。
Conventionally, the method for manufacturing the above-mentioned double-sided printed wiring board is as follows:
First, holes for through-poles are drilled at desired locations on the double-sided copper-clad laminate, and a conductive layer is formed in these holes using the through-hole method to form through-holes for electrically connecting the conductor patterns on the front and back sides. Next, a thermosetting hole-filling ink is filled into the through hole, and the hole-filling ink is heated and cured.

その後」二記積層板の表裏に耐酸性インクにて所要パタ
ーンを形成し、耐酸性インクを硬化後、銅露山部分を1
λに化第ニー銅、塩化第二鉄等の酸性エソチンク液によ
りエソチック除去する。アルカリ水溶液により孔埋めイ
ンク及び耐酸性インクを除去する’4<により両面プリ
ント配線基板が作成される。
After that, form the required pattern with acid-resistant ink on the front and back sides of the laminated board, and after curing the acid-resistant ink,
Esotics are removed using an acidic esotinic solution such as cupric chloride or ferric chloride. A double-sided printed wiring board is prepared by removing the hole-filling ink and the acid-resistant ink using an alkaline aqueous solution.

−1−記加工工程において使用される熱硬化性孔埋めイ
ンクとして種々のタイプが検討されているが、一般的に
熱硬化に要する時間が長い。又その中に含まれる溶剤の
蒸発による体積収縮により、スルーホールエツジ部分の
保護作用が不十分となり、エソチンク時にその部分がエ
ツチングされてプリント配線基板の性能低下を生ずる0
さらに、アルカリ水溶液による孔埋めインクの除去性が
悪く、スルーホール内壁に付着したままとなり、部品装
着時のトラブルの原因となるなど要求性能を十分に満足
されるに至っていない。
Various types of thermosetting hole-filling inks have been studied to be used in the processing step described in -1- above, but generally the time required for thermosetting is long. In addition, the volumetric shrinkage caused by the evaporation of the solvent contained therein makes the protective effect of the through-hole edge portion insufficient, and that portion is etched during etching, resulting in a decrease in the performance of the printed wiring board.
Furthermore, the removability of the hole-filling ink using an alkaline aqueous solution is poor, and it remains attached to the inner wall of the through-hole, causing trouble when installing components, and the required performance has not been fully satisfied.

本発明の目的は紫外線により短時間で硬化し、スルーホ
ールの保護性に優れ、かつ、アルカリ水溶液により容易
に除去される紫外線硬化孔埋め用組成物を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide an ultraviolet-cured hole-filling composition that is cured by ultraviolet light in a short time, has excellent through-hole protection properties, and is easily removed by an aqueous alkaline solution.

本発明の紫外線硬化孔埋め用組成物は (A)軟化点が60℃以1−1酸価が50〜500の飽
和有機化合物、 (13)一般式(+)、(II)または(11)阪 〔式中、Rは水素もしくはメチル基、R′は水素もしく
は炭素数1〜4のアルキル基、Yは2価の有機基である
〕 で表わされるモノエステル化合物、および(に)尤増感
剤 からなるものである。
The UV-cured pore-filling composition of the present invention comprises (A) a saturated organic compound having a softening point of 60°C or higher and a 1-1 acid value of 50 to 500; (13) a compound having the general formula (+), (II) or (11); A monoester compound represented by Saka [in the formula, R is hydrogen or a methyl group, R' is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y is a divalent organic group], and (to) a sensitizer. It consists of a drug.

本発明による組成物の成分(A)として用いられる軟化
点か60℃以上、酸価が50〜500の飽和イ3機化合
物の例をあけると、多塩基酸、例えば無水フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、セハナン酸、
テトラヒドロフタル酸、I\ギILヒドロフタル酸、ヘ
ット酸、ハイミック酸、トリメリツ1−酸、ビ【」メリ
ット酸なとと、多価クリコール、例エバエチレングリコ
ール、ホリエチレンクリコール、フロピレンゲリコール
、ホリプ゛ン ロビレノクリコール、1,3−ブ於ツオール、1゜4−
ブタンジオール、l、6−ヘキサンジオール、不オーン
チルクリコ〜ル、トリメチロールエタン、トリメチロー
ルフ【」パン、ペンタエリスルトールナトトのカルホキ
シル基含有ポリエステル樹脂、ロジン変性マレイン酸樹
脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合、ロジン、水添ロ
ジン、およびカルボキシル基含有石油樹脂などである。
Examples of saturated compounds having a softening point of 60° C. or higher and an acid value of 50 to 500 used as component (A) of the composition according to the present invention include polybasic acids such as phthalic anhydride, isophthalic acid, Terephthalic acid, adipic acid, sehananic acid,
Tetrahydrophthalic acid, I\GIL hydrophthalic acid, het acid, hemic acid, trimellitic acid, bimellitic acid, polyhydric glycols, e.g. evaethylene glycol, polyethylene glycol, furopylene gellicol, Horipropylene chloride, 1,3-butol, 1゜4-
Butanediol, l,6-hexanediol, unionic licorice, trimethylolethane, trimethylol fluorine, pentaerythritol natoto carboxyl group-containing polyester resin, rosin-modified maleic acid resin, rosin-modified phenol resin , polymerized rosin, hydrogenated rosin, and carboxyl group-containing petroleum resin.

これらの飽和有機化合物は一種でも、又は二種以上を任
意の割合で使用してもよい。これらの飽和自機化合物の
軟化点は60℃以上、好ましくは、80℃以上である0
軟化点が60℃以下の場合、紫外線硬化した上記組成物
の工′ノチング時の軟化によりスルーホールの保護作用
が低下する。又、これらの化合物の酸価は50〜500
、好ましくは、100〜400である。酸価が50以下
では、−ノ′ルカリ水溶液による除去性が低下し、又5
00以トては、エソチンダ液に対する耐性が低下し、エ
ソチンク時のスルーホールの保湿作用か低下するO 未発明番こよる組成物の成分(B)として用いられる一
般式(1)、(n)又は(Ill)1式中、Rは水素も
しくはメチル基、It’は水素もしくは炭素数1〜4の
アルキル基、Yは2価のイj機梧、好ましくは、炭素数
1〜4のアルキレン基もしくは−(CnH,、謬)、−
CI、、−基、(nは2〜6、qは1−19の整数)で
ある〕て表イ)されるモノニスデル化合物の例は次のと
おりである。すなオ)も、モノエステル化合物を構成す
る醸成分古してはフタル酸、テトラヒドロフタル酸、3
−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルデトラヒト
ロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エ
チルテトラヒドロフタル酸、3−プロピルテトラヒドロ
フタル酸、4−プロピルテトラヒドロフタル酸、3−ブ
チルテトラヒドロフタル酸、4−ブチルテトラヒドロフ
タル酸、・\キサヒドロフタル酸、3−メチルへキサヒ
ドロフタル酸、4−メチルへキサヒドロフタル酸、3−
エチルへキサヒドロフタル酸、4−エチルへキザヒトロ
フタル酸無水物、3−プロピルへキサヒドロフクル酸、
4−プロピルへキサヒドロフタル酸、:3−ブチルヘキ
サヒドロフタル酸、4−プチルヘキナヒドLjフタル酸
を例示することがでキル。
These saturated organic compounds may be used alone or in combination of two or more in any proportion. The softening point of these saturated organic compounds is 60°C or higher, preferably 80°C or higher.
If the softening point is below 60° C., the protective effect of the through-hole will be reduced due to the softening of the ultraviolet-cured composition during notching. In addition, the acid value of these compounds is 50 to 500.
, preferably 100-400. If the acid value is less than 50, the removability with an aqueous -norkali solution decreases, and the acid value is less than 50.
If it is less than 0, the resistance to the esotynde liquid decreases, and the moisturizing effect of the through hole during esotinction is reduced. or (Ill) 1, where R is hydrogen or a methyl group, It' is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y is a divalent group, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. Or - (CnH,, falsification), -
CI, , - group, (n is 2 to 6, q is an integer of 1 to 19)] Examples of mononisder compounds represented by a) are as follows. Sunao) also contains phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3
-Methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyldetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4-ethyltetrahydrophthalic acid, 3-propyltetrahydrophthalic acid, 4-propyltetrahydrophthalic acid, 3-butyltetrahydrophthalic acid, 4-Butyltetrahydrophthalic acid, \xahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-
Ethyl hexahydrophthalic acid, 4-ethyl hexahydrophthalic anhydride, 3-propyl hexahydrophthalic acid,
Examples include 4-propylhexahydrophthalic acid, 3-butylhexahydrophthalic acid, and 4-butylhequinahydrophthalic acid.

これらの中で、特に好ましいのはフタル酸・テトーノヒ
トLlフクル酸、3−メナルfトラヒドロフクル酸、4
−メチルテトラヒトUフクル酸、ヘキザl二1゛[jフ
タル酸、3−メチルへキサヒドロフタル酸、4−メチル
へキサヒドロフタル酸である。
Among these, particularly preferred are phthalic acid/tetonohyl fucuric acid, 3-menal f trahydrofucric acid, 4
-Methyltetrahydrofucric acid, hexyldi1゛[jphthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid.

上記のモノエステル化合物を構成するアルコール成分と
しては2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリブチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンクリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモ
ノ(メタ)アクリレートなどの学量体を例示することが
できる。
The alcohol components constituting the above monoester compound include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2
-Hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate, polycaprolactone mono(meth)acrylate Examples include stoichiometric substances such as acrylates.

1−記のモノエステル化合物は一種でも、又は二棟以1
−を任碌の割合で使用することもできる。
The monoester compound described in 1-1 may be used alone or in combinations of two or more.
- can also be used at any rate.

I−記モノエステル・、化化合物の合成は、上記酸の無
水物と一ト記Vt体との開環付加反応により行なわイア
、ることか好ましいが、通常のエステル化反応により合
成することもできる。上記モノエステル化化合物の合成
において、」−記酸の無水物1モルに対して1−記(ト
軟体1モルを使用するのが好ましいが、一方を過剰に使
用してもよい。上記開環付加反応において、反応7晶度
は、通常50〜150℃、特に好ましくは、80〜11
0℃である。又反応促進剤としてトリエチルアミン、モ
ルホリン、トリエタノールアミン、ペンタメチルジエチ
レント’I −J−ミノなどの第3級アミン類、又はそ
の第4級アンモニウト塩などを使用することができる0
又、反応中の重合を防止するために、ヒドロキノン、ヒ
ドロキノンモノメチルエーテル、t−ブチルヒドロキノ
ン、t−jチルカテコール、ベンゾキノン、フェッチア
シンなどの重合禁止剤を使用[7てもよい。
The synthesis of the monoester compounds listed above is preferably carried out by a ring-opening addition reaction between the anhydride of the above acid and the Vt compound listed above, but it may also be synthesized by a conventional esterification reaction. can. In the synthesis of the above-mentioned monoesterified compound, it is preferable to use 1 mol of the soft form of the 1-2 acid per 1 mol of the anhydride of the 1-2 acid, but one may be used in excess. In the addition reaction, the reaction 7 crystallinity is usually 50 to 150°C, particularly preferably 80 to 11°C.
It is 0°C. Further, as a reaction accelerator, tertiary amines such as triethylamine, morpholine, triethanolamine, pentamethyldiethylenet'I-J-mino, or their quaternary ammonium salts can be used.
In order to prevent polymerization during the reaction, a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butylhydroquinone, t-j thylcatechol, benzoquinone, fetchacin, etc. may be used [7].

上記開環付加反応の反応経過は上記酸無水物の赤外線吸
収スペクトルにより容易に知ることが出来、酸無水物の
赤外線吸収スペクトルビークの消失により実質的に反応
が完了したと見なしてよい。
The reaction progress of the ring-opening addition reaction can be easily determined from the infrared absorption spectrum of the acid anhydride, and the reaction may be considered to have substantially completed when the infrared absorption spectrum peak of the acid anhydride disappears.

本発明による組成物の成分(C)として使用される光増
感剤は公知のどのような光増感剤であってもよいか、配
合後の貯蔵安定性の良いことが要求される。この様な光
増感剤としては・例えばヘンツイン、ヘンジインエチル
エーテル、ペンツインブーf゛ルエ=チル、ベンゾイン
プロピルエーテルなどのヘンツイン系光増感剤、2,2
−ジエトキノーノ′セトフエノン、4′−フェノキシ−
2,2ジクロルアセトフェノン、などのアセトフェノン
系光増感剤、2−ヒドロキシ 2−メチルプロピオフェ
ノン、4′−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオフェノンなどのプロピオフェノン系光増感剤
、2−エチルアントラキノン、2−り1、]ル“アント
ラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミル
アントラキノンなどのアントラ−1−ノン系光増感剤、
2−クロルチオキサントン、2 ブチルチオキサントン
などのチオキサントン糸丸増感剤なとがあげられる。こ
れらの光増感剤は、一種でも、又は二種以上を任意の割
合で使用することもできる。
The photosensitizer used as component (C) of the composition according to the present invention may be any known photosensitizer, but is required to have good storage stability after blending. Examples of such photosensitizers include: 2,2
-diethoquinono'cetophenone, 4'-phenoxy-
Acetophenone photosensitizers such as 2,2 dichloroacetophenone, propiophenone photosensitizers such as 2-hydroxy 2-methylpropiophenone, and 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone. anthra-1-non photosensitizers such as 2-ethylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, and 2-amylanthraquinone;
Examples include thioxanthone sensitizers such as 2-chlorothioxanthone and 2-butylthioxanthone. These photosensitizers can be used alone or in combination of two or more in any ratio.

本発明による組成物に使用される成分(A)の量は、組
成物の好ましくは10〜70重量%、特に好ましくは1
5〜60重量%である。成分(A)の肴が10重量%以
下では′、アルカリ水溶液による、1−記組成物の除去
性が低下し、70重量%以上となると粘度上昇によりス
ルーホールへの上記組成物の充填が困難となる。成分(
B)の量は上記組成物の好ましくは30〜90重量%、
特に好ましくは40〜80重量%である。成分(B)の
量が30重量%以下では紫外線による硬化性が低下する
090重量%以上となるとアルカリ水溶液による上記組
成物の除去性か低下する。成分(C)の量は、上記組成
物の好ましくは0.5〜20重量%、特に好ましくは1
.5〜15重量%である。成分(C)が0.5重量%以
下では、紫外線による硬化性が著しく低下し、20重量
%以上では、耐エツチング性が低下する。
The amount of component (A) used in the composition according to the invention is preferably 10 to 70% by weight of the composition, particularly preferably 1
It is 5 to 60% by weight. If the amount of component (A) is less than 10% by weight, the removability of the composition described in 1-1 with an alkaline aqueous solution will decrease, and if it is more than 70% by weight, the viscosity will increase, making it difficult to fill the composition into the through hole. becomes. component(
The amount of B) is preferably 30 to 90% by weight of the composition;
Particularly preferably 40 to 80% by weight. If the amount of component (B) is less than 30% by weight, the curability by ultraviolet rays will be reduced, and if it is more than 90% by weight, the removability of the composition with an aqueous alkaline solution will be reduced. The amount of component (C) is preferably 0.5 to 20% by weight of the composition, particularly preferably 1
.. It is 5 to 15% by weight. If component (C) is less than 0.5% by weight, the curability by ultraviolet rays will be markedly reduced, and if it is more than 20% by weight, the etching resistance will be reduced.

本発明による組成物には、成分(B)のモノエステル化
合物以外の不飽和化合物をさらに加えることができる。
The composition according to the invention may further contain unsaturated compounds other than the monoester compounds of component (B).

このような不飽和化合物としては・例えは2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒ1−、ロキンブ
ロビル(メタ)アクリレ−1−、セロソルブ(メタ)ア
クリレート、メチルセロノルブ(メタ)アクリレート、
プチルセロソルノ゛(メタ)アクリレート、カルピトー
ル(メタ)アクリレート、メチルカルピトール(メタ)
アクリレート、ブチルカルピトール(メタ)アクリレ−
、−1−、フェノキシエチル(メタ)アクリレ−1−ン
ノクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ンシクロ
ペンタジエニルオキシエチル(メタ)アクリレート、酢
酸ビニル、N、−ビニルピロリドン、−jトラヒドロフ
ルフリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート・ポリプロピレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ポリブナレンゲリコール
モノ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモノ(
メタ)アクリレート、フェニルグリシンルエーテル(メ
タ)アクリル酸付加物などの学官能性不飽和化合物及び
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ−ト、ボリ
プOビレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリカプロ
ラクトンジ(メタ)アクリレート、1 、6ヘキサンジ
オールジ(メタ)7′クリレート、不オペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレートなどの2官能性不飽和化合
物などがあげられるが」二記組成物成分のうち50重量
%以ヒ用いるとアルカリ水溶液による除去性が低下する
ので好ましくない。
Examples of such unsaturated compounds include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hy-1-, roquinbrovir (meth)acryle-1-, cellosolve (meth)acrylate, methylcelonorb (meth)acrylate,
Butyl cellosolol (meth)acrylate, carpitol (meth)acrylate, methylcarpitol (meth)
Acrylate, butylcarpitol (meth)acrylate
, -1-, phenoxyethyl (meth)acrylate-1-noclopentadienyl (meth)acrylate, cyclopentadienyloxyethyl (meth)acrylate, vinyl acetate, N, -vinylpyrrolidone, -j trahydrofur Furyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate/polypropylene glycol mono(meth)acrylate, polybunalene glycol mono(meth)acrylate, polycaprolactone mono(
Scientifically functional unsaturated compounds such as meth)acrylate, phenylglycine ether (meth)acrylic acid adducts, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate , polycaprolactone di(meth)acrylate, 1,6 hexanediol di(meth)7'acrylate, and difunctional unsaturated compounds such as inopentyl glycol di(meth)acrylate. If more than 50% by weight is used, removability with an alkaline aqueous solution will be reduced, which is not preferable.

本発明による組成物にはさらに、スルーホール内に充填
される場合の充填性及び充填状態を向上させるために、
体質顔料、消泡剤、着色顔料、揺変剤などを適宜に加え
ることができる。
The composition according to the present invention further includes:
Extender pigments, antifoaming agents, coloring pigments, thixotropic agents, etc. can be added as appropriate.

本発明による組成物は、実用に際しては、先ずスルーホ
ールメッキをされた両面銅張積層板のスルーホール内に
充填される。充填の方法としては」−記組成物中に上記
積層板を浸漬する浸漬充填法、上記組成物を満したスポ
ンジロール間に上記積層板を通すロール°充填法、上記
組成物をピンに付着させスルーホール内に通すピン充填
法などがあげられる。充填の工程において上記積層板表
面に上記組成物が過剰に付着した場合にはウレタンコム
、/リコノゴト等のスキージ−あるいは金属プレートに
よるかき取りを行なってもよい。
In practical use, the composition according to the present invention is first filled into the through holes of a double-sided copper-clad laminate plated with through holes. The filling methods include a dipping filling method in which the laminate is immersed in the composition, a roll filling method in which the laminate is passed between sponge rolls filled with the composition, and a method in which the laminate is attached to a pin. Examples include filling pins into through holes. If an excessive amount of the composition adheres to the surface of the laminate during the filling process, it may be scraped off with a squeegee such as a urethane comb or a squeegee or a metal plate.

次に、上記組成物を充填した上記積層板の両面に紫外線
を照射する。紫外線の照射は片面づつ行なっても両面同
時に行なってもよい。紫外線の照射は通常50〜200
 W/、の高圧水銀灯又はメタルハライドランプを用い
、30秒以内の短時間で充分であり、このような照射に
より硬化を完了することが出来る。
Next, both surfaces of the laminate filled with the composition are irradiated with ultraviolet rays. Irradiation of ultraviolet rays may be carried out on one side at a time or on both sides at the same time. UV irradiation is usually 50 to 200
Using a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp, a short time of 30 seconds or less is sufficient, and curing can be completed by such irradiation.

紫外線による硬化後、上記積層板の両面に紫外線硬化し
た上記組成物の残存址が多い場合には、フラノ等による
機械研摩を行なってもよい。その後、上記積層板の両面
に耐酸性インクをスクIJ−ン印刷、オフセット印刷な
どにょ楊印刷して所要バクーンを形成する。耐酸性イン
クを硬化後、銅露出部分を塩化第二鉄、塩化第二銅など
の酸性エソチンク液によりエツチング除去する。最後に
アルカリ水溶液により耐酸インク及び上記組成物を除ノ
(し、両面プリント配線基板が作製される。
After curing with ultraviolet rays, if there is a large amount of the ultraviolet-cured composition remaining on both surfaces of the laminate, mechanical polishing using a flannel or the like may be performed. Thereafter, acid-resistant ink is printed on both sides of the laminate by screen printing, offset printing, etc. to form the desired backing. After curing the acid-resistant ink, the exposed copper portion is removed by etching with an acidic etching solution such as ferric chloride or cupric chloride. Finally, the acid-resistant ink and the above composition are removed using an alkaline aqueous solution to produce a double-sided printed wiring board.

本発明の紫外線硬化孔埋め用組成物は紫外線の短時間の
照射によって硬化され得る。また・この1便化物はスル
ーホールのエツチングからの保護性にすぐれており、し
かもアルカリ水溶液によって容易番こ除去されるので両
面プリント配線基板のスルーホールを孔埋めするための
組成物として極めて漬れている〇 以下に本発明の実施例を示す。
The ultraviolet-curable pore-filling composition of the present invention can be cured by short-term irradiation with ultraviolet light. In addition, this one-component product has excellent protection against etching of through-holes, and is easily removed by an alkaline aqueous solution, making it extremely suitable as a composition for filling through-holes in double-sided printed wiring boards. Examples of the present invention are shown below.

実施例1 エチレングリコール248F(4モル)1イソフクル酸
1669(3モル)、無水トリメリット酸192f(1
モル)を攪拌装置付きフラスコに入れ、190℃にて8
時間エステル化反応を行なって飽和化合物(A−1)を
得た。この化合物の酸価は170、軟化点は72℃であ
った。
Example 1 Ethylene glycol 248F (4 mol) 1 isofucric acid 1669 (3 mol), trimellitic anhydride 192f (1
mol) in a flask equipped with a stirrer, and stirred at 190°C.
A saturated compound (A-1) was obtained by carrying out a time esterification reaction. This compound had an acid value of 170 and a softening point of 72°C.

無水フタル酸l・189(1モル)、2−ヒドロキンエ
チルアクリレート1169 (1モル)を攪拌装置付き
フラスコに入れ、95℃にて赤外線吸収スペクトルの無
水酸のピークが消失するまで8時間反応させてモノエス
テル化合物(B −1)を得た〇 上記(A−1)15重量部、上記(B−1)80東一部
、光増感剤としてヘンジインイソブチルエーテル4重量
部、2−エチルアントラキノン1重量部、その他スルー
ホールへの充填性向上のためにタルク20重量部、エロ
ンル2重量部フクロンγ−ンブル−0,5重量部を配合
し、紫外線硬化孔埋め用組成物を得た。
Phthalic anhydride l.189 (1 mol) and 2-hydroquine ethyl acrylate 1169 (1 mol) were placed in a flask equipped with a stirring device and reacted at 95°C for 8 hours until the peak of the acid anhydride in the infrared absorption spectrum disappeared. Monoester compound (B-1) was obtained: 15 parts by weight of the above (A-1), 80 East Section of the above (B-1), 4 parts by weight of hendiine isobutyl ether as a photosensitizer, 2-ethyl 1 part by weight of anthraquinone, 20 parts by weight of talc, 2 parts by weight of Elonlu, and 0.5 parts by weight of Fucron γ-Nbrun were blended to obtain an ultraviolet-curable hole-filling composition.

スルーホールを形成した両面銅張積層板を上記組成物中
に浸漬し、スルーホール内に上記組成物を充填した後取
り出し、上記積層板の両面に付着したに記組成物をウレ
タンスキージ−によりかき落した後、紫外線を両面より
照射して硬化させた。
A double-sided copper-clad laminate with through holes formed therein is immersed in the above composition, and after the through holes are filled with the composition, it is taken out and the composition adhered to both sides of the laminate is scraped off with a urethane squeegee. After removing it, it was cured by irradiating it with ultraviolet light from both sides.

紫外線ランプとして120罵−のメタルハライドランプ
を使用し、照射時間は8秒であった。紫外線により上記
組成物を硬化した後、上記積層板の両面をブラシにより
軽く研摩し、耐酸インクMT−11V  5106 (
三井東圧社製)を印刷し、硬化させた。50℃の塩化第
二銅エツチング液により銅露為 山部分をエツチング除去し、水洗後、40℃において3
%の水酸化ナトリウム水溶液により上記組成物及び耐酸
インクを除去して両面プリント配線堰板を作製し1こ。
A 120°C metal halide lamp was used as the ultraviolet lamp, and the irradiation time was 8 seconds. After curing the composition with ultraviolet rays, both sides of the laminate were lightly polished with a brush, and acid-resistant ink MT-11V 5106 (
(manufactured by Mitsui Toatsusha) was printed and cured. The exposed copper portion was etched away using cupric chloride etching solution at 50°C, and after washing with water, it was etched at 40°C for 30 minutes.
% sodium hydroxide aqueous solution to remove the above composition and acid-resistant ink to prepare a double-sided printed wiring dam board.

l−記水酸化ナトリウド水溶液による除去に要した時間
は30秒であり、スル−ホールに対するエツチングも生
ぜず、スルーホールの性能の低下はなかった0 実施例2 4−メチルテトラヒドロフタル酸無水物166f(1モ
ル)、2−ヒドロキシエチルメタクリレ− トl 3 
0 r ( tモル)を実施例1におけると同様に反応
させてモノエステル化合物(B−2)を得た〇 飽和化合物(A−2)として酸価350、軟化点150
℃のロジン変性−lレイン酸樹脂50重量部、上記(B
−2)を35重量部、光増感剤として2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオフェノン14重量部・その他スルー
ホールへの充填性を向上させる為クル710重量部、硫
酸ノ(リウム10重駄部、エロ,ジル4重量Bμフタロ
シアニンブルー1重欧部を配合して紫外線硬化孔埋め用
組成物を得た,上記組成物をスポンジロールに含浸させ
、ロール間にスルー糸−ルを形成した両面銅張積層板を
1市してスルーホール内に上記組成物を充填した。充填
を終えた上記積層板の両面に付着した−に記組成物をし
んちゅうのブレードによりかき落した後、紫外線を照射
して硬化させた。1 2 0 W/,。
The time required for removal with the sodium hydroxide aqueous solution was 30 seconds, and no etching occurred on the through-holes, and there was no deterioration in the performance of the through-holes.Example 2 4-Methyltetrahydrophthalic anhydride 166f (1 mol), 2-hydroxyethyl methacrylate l 3
A monoester compound (B-2) was obtained by reacting 0 r (t mol) in the same manner as in Example 1. As a saturated compound (A-2), the acid value was 350 and the softening point was 150.
50 parts by weight of rosin-modified-l oleic acid resin at
-2) as a photosensitizer, 35 parts by weight of 2-hydroxy-
14 parts by weight of 2-methylpropiophenone; 710 parts by weight of chlorine, 10 parts by weight of silium sulfate, 4 parts by weight of Bμ phthalocyanine blue, and 1 part by weight of Bμ phthalocyanine blue were blended to improve filling properties into the through holes. A sponge roll was impregnated with the above composition, and a double-sided copper-clad laminate with through threads formed between the rolls was placed in one place, and the above composition was applied into the through holes. The composition described in (1) adhering to both sides of the filled laminate was scraped off with a brass blade, and then cured by irradiation with ultraviolet rays.120 W/.

の高圧水銀灯を使用し、片面づつ紫外線照射を行なった
。照射時間の合計は20秒であった0その後、実施例1
と同様に耐酸インクを印刷硬化し、50℃の塩化第二鉄
エツチング液によりエツチングを行なった040℃にお
いて3%の水酸化ナトリウト水溶液により上記組成物及
び耐酸インクを除去して両面プリント配線基板を作製し
た。上記水酸化ナトリウム水溶液による除去に要した時
間は25秒であり、スルーホールに対するエツチングも
牛せず、スルーホールの性能低下はなかった。
Using a high-pressure mercury lamp, each side was irradiated with ultraviolet light. The total irradiation time was 20 seconds. Then, Example 1
Similarly, the acid-resistant ink was printed and cured, and etched with a ferric chloride etching solution at 50°C.The above composition and acid-resistant ink were removed with a 3% sodium hydroxide aqueous solution at 040°C to form a double-sided printed wiring board. Created. The time required for the removal with the sodium hydroxide aqueous solution was 25 seconds, the through holes were not etched, and there was no deterioration in the performance of the through holes.

実施例3 ・1キサヒドロフタル酸無水物1549(1モル)、2
に1・uキシプロピルメータクリレート(1モル)を実
施例1におけると同様に反応させてモノエステル化合物
(B−3)を得た〇飽和化合物(A−3)として酸価1
40、軟化点70℃の水添〔コ/ン30重量部、上記(
B−3)・10重壁部、光増感剤としてペンジルジメチ
ルケクール8重欧部、その他不飽和化合物として2−ヒ
トロキンエチルメタクリレート22重量部、スルーホー
ルへの充填性向上のためにタルり10重電部、炭酸力ル
ンウノ、5重量部、フタロシアニンブルー0.5事項部
を配合して紫外線硬化孔埋め用組成物を得たoに記組成
物をスルーホールより小さい直径のビンに付着させスル
ーホールを形成した両面銅張積層板のスルーホール内に
挿入しスル−ホール内に一ヒ記組成物を充填した後、両
面より紫外線を照射して硬化させた。80 W/、の高
圧水銀灯を使用し、照射時間は12秒であった。その後
、実施例1と同様に耐酸インクを印刷、硬化し、50℃
のj&″1化第二化第二手エツチング液銅露出部分をエ
ツチング除去し、水洗後、40℃において3%の水酸化
ナトリウム水溶液により上記組成物及び耐酸インクを除
去して両面プリント配線基板を作製した。1−配水酸化
ナトリウム水溶液による除去に要し1こ時間は25秒で
あり、スルーホールに対するエツチングも生せす、スル
ーホールの性能の低下はなかった。
Example 3 ・1xahydrophthalic anhydride 1549 (1 mol), 2
was reacted with 1.u xypropyl methacrylate (1 mol) in the same manner as in Example 1 to obtain a monoester compound (B-3). As a saturated compound (A-3), the acid value was 1.
40, hydrogenated [con/con 30 parts by weight with a softening point of 70°C, the above (
B-3) - 10-layered wall part, 8-fold walled part as a photosensitizer, 22 parts by weight of 2-hytroquinethyl methacrylate as other unsaturated compounds, to improve filling properties into through-holes. A UV-cured hole-filling composition was obtained by blending 10 parts by weight of Taruri, 5 parts by weight of carbonic acid, and 0.5 parts by weight of phthalocyanine blue. The composition was inserted into the through-holes of a double-sided copper-clad laminate with through-holes formed thereon, and the composition described above was filled in the through-holes, and then ultraviolet rays were irradiated from both sides to cure the composition. A high pressure mercury lamp of 80 W/ was used, and the irradiation time was 12 seconds. After that, acid-resistant ink was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the temperature was 50°C.
The exposed parts of the copper were etched away using a second hand etching liquid, and after washing with water, the above composition and acid-resistant ink were removed with a 3% sodium hydroxide aqueous solution at 40°C to form a double-sided printed wiring board. It took 25 seconds to remove the 1-hydrogen oxide solution using an aqueous sodium oxide solution, and there was no deterioration in the performance of the through-holes, which would otherwise occur due to etching of the through-holes.

実施例4 4−メチルへキサヒドロフクル酸無水物168y(tモ
ル)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート130r(
1モル)、ヒドロキノン0.32を実施例1におけると
同様に反応させてモノエステル化合物(B−4)を得た
Example 4 4-methylhexahydrofucric anhydride 168y (t mol), 2-hydroxypropyl acrylate 130r (
1 mol) and 0.32 mol of hydroquinone were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoester compound (B-4).

飽和化合物(A−4)として酸価150、軟化点90℃
の重合ロジン20重量部、上記(B−4)50i敏部、
光増感剤として4′−フェノキシ−2゜2ジク【コルア
セトフェノン13重量部、その他不飽和化合物としてテ
トラヒトqフルフリルメタクII L−−1−17重を
部、スルーホール充填性向上のために硫酸バリウム15
重量部、モンモリロナイト系揺変剤3重量部、フタロシ
アニンブルー0.5it部を配合して紫外線孔埋め用組
成物を得た。
As a saturated compound (A-4), acid value 150, softening point 90°C
20 parts by weight of polymerized rosin, the above (B-4) 50i hard part,
As a photosensitizer, 13 parts by weight of 4'-phenoxy-2゜2dic [coacetophenone], as other unsaturated compounds, 17 parts by weight of tetrahydrofurfurylmethac II, and barium sulfate to improve through-hole filling properties. 15
parts by weight, 3 parts by weight of a montmorillonite thixotropic agent, and 0.5 parts by weight of phthalocyanine blue to obtain a composition for filling ultraviolet pores.

1−記組成物を実施例1と同様に浸漬法によりスルーホ
ール内に充填し紫外線を両面より照射して硬化させた。
1- The composition described above was filled into the through hole by the dipping method in the same manner as in Example 1, and was cured by irradiating ultraviolet rays from both sides.

紫外線のランプは120 W/nの高圧水)・1<灯を
使用し、照射時間は8秒であった0紫外線により上記組
成物を硬化した後・上記積層板の両面を研摩し、耐酸イ
ンクを印刷、硬化し、ついで50℃の塩化第二鉄エツチ
ング液によりエツチングを行なった。40℃において3
%の水酸化す1−リウム水溶液により上記組成物及び耐
酸インクを除去して両面プリント酸線基板を作製した。
After curing the above composition with ultraviolet rays (120 W/n high-pressure water lamp) and irradiation time of 8 seconds, both sides of the laminate were polished and acid-resistant ink was applied. was printed, cured, and then etched using a ferric chloride etching solution at 50°C. 3 at 40℃
The above composition and the acid-resistant ink were removed using a 1-lium hydroxide aqueous solution to prepare a double-sided printed acid ray board.

ンクも生ぜず、スルーホールの性能の低下はなかった0 実権例5 テトラヒドロフタル酸無水物1529(1モル)、2−
ヒトOキシエチルアクリレート116(1モル)、ヒド
ロキノン0.32を実施例1におけると同様に反応させ
てモノエステル化合物(E−5)を得た。飽和化合物(
A−4)として実施例1において得た(A−1)40重
量部、モノエステル化合物として(11−5) 20重
量部・実施例1iこおいて得た( H−1) 20重量
部、光増感剤としC2ヒI・ロキノー 2−メチルソ【
コピオフエノン5市乳部・2−り°″チオキ+7ト’/
2重量部・2−エチルアントラキノン3重量部、その他
不飽和化合物としてセロソルブアクリレート10重量部
、スルーホールへの充填性を向上させる1こめにクル9
20重量部、工Oジル2重量部、フタロシアニップル−
0,5重量部を配合して、紫外線硬化孔埋め用組成物を
得た。
There was no deterioration in the performance of the through hole.
Human Oxyethyl acrylate 116 (1 mol) and hydroquinone 0.32 were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoester compound (E-5). Saturated compounds (
40 parts by weight of (A-1) obtained in Example 1 as A-4), 20 parts by weight of (11-5) as a monoester compound, 20 parts by weight of (H-1) obtained in Example 1i, As a photosensitizer, C2hiI・Rokino 2-methylso[
Copiofuenon 5 City Nyubu・2-ri°″Chioki+7to'/
2 parts by weight, 3 parts by weight of 2-ethylanthraquinone, 10 parts by weight of cellosolve acrylate as other unsaturated compounds, and 9 parts by weight to improve filling properties into through holes.
20 parts by weight, 2 parts by weight of Koji Ojil, Phthalocyanipple
0.5 parts by weight was blended to obtain an ultraviolet-curable pore-filling composition.

l二記組成物を実施例3と同様にスルーホール内に充填
し、紫外線を両面より照射して硬化させた。
The composition described above was filled into the through hole in the same manner as in Example 3, and was cured by irradiating ultraviolet rays from both sides.

+ 20 W/、のメタルハライドランプを使用し、照
射時間は9秒であった。その後、実施例1と同様Oこ耐
酸インクを印刷、硬化し、50℃の塩化第二鉄エツチン
グ液により銅露出部分をエツチング除去し、水洗後40
℃において3%の水酸化すトリウ7・水溶液により上記
組成物及び耐酸インクを除去して両面プリント配線基板
を作製した。上記水酸化す) IJウノ・水溶液による
除去に要した時間は20秒であり、スルーホールに対す
るエツチングも生ぜず、スルーホールの性能の低下はな
かった。
A +20 W/metal halide lamp was used, and the irradiation time was 9 seconds. Thereafter, as in Example 1, acid-resistant ink was printed and cured, and the exposed copper portion was removed by etching with a 50°C ferric chloride etching solution. After washing with water,
The above composition and the acid-resistant ink were removed using a 3% sodium trihydroxide 7 solution at °C to produce a double-sided printed wiring board. The time required for removal using the IJ UNO aqueous solution was 20 seconds, no etching of the through holes occurred, and there was no deterioration in the performance of the through holes.

実施例6 ノエチレンクリコール371 ? (3,5モル)、水
添ヒスフェノールA2409(1モル)、テトラヒi゛
’ Dフタル酸無水物152F(1モル)・イノフタル
71332F(2モル)、無水トリメリット酸96 f
 (0,5モル)を攪拌装置付フラスコに入れ200℃
にて12時間エステル化反応を行なって飽和化合物(A
−6)を得た。この化合物の酸価は215、軟化点は9
1℃であった。
Example 6 Noethylene glycol 371? (3.5 mol), hydrogenated hisphenol A2409 (1 mol), tetrahydrophthalic anhydride 152F (1 mol), inophthalic anhydride 71332F (2 mol), trimellitic anhydride 96 f
(0.5 mol) in a flask with a stirrer and heated to 200°C.
The esterification reaction was carried out for 12 hours at
-6) was obtained. The acid value of this compound is 215 and the softening point is 9.
The temperature was 1°C.

3−メチルテトラヒトミフタル酸無水物166(1モル
)、テトラエチレングリコールモノアクリレート358
F(1モル)、ヒドロキノン0.還を実施例1における
と同様に反応させてモノエステル化合物(B −6)を
得た。上記(A−6)35重量部、上記(B −6) 
20重量部、実施例1において得られた(B−1)19
重量部、および光増感剤として2,2−ジェトキシアセ
トフェノ73重量部、2−りOシアントラキノン3重量
部、並びにその他の不飽和化合物としてN−ビニルビL
Jリドン20重量部、スルーホールへの充填性向上のだ
めにツル720重量部、エロンル1重量部を配合して紫
外線硬化孔埋め用組成物を得た。上記組成物を実施例2
と同様にロール充填法によりスルーホール内に充填し、
紫外線を両面より照射して硬化させた。紫外線ランプは
120W/crnの高圧水銀灯を使用し、照射時間は1
0秒であった。その後、実施例1と同様に耐酸インクを
印刷硬化し、50℃の塩化第二鉄エツチング液によりエ
ソチンクを行なった。40℃において3%の水酸化ナト
リウノ・水溶液lこより上記組成物及び耐酸インクを除
去して両面プリント配線基板を作製した。上記水酸化す
トリウム水溶液による除去に要した時間は23秒であり
、スルーホールに対するエソチンクも生ぜずスルーホー
ルの性能低下はなかった。
3-methyltetrahytomipthalic anhydride 166 (1 mol), tetraethylene glycol monoacrylate 358
F (1 mol), hydroquinone 0. The reaction mixture was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoester compound (B-6). 35 parts by weight of the above (A-6), the above (B-6)
20 parts by weight, (B-1) 19 obtained in Example 1
parts by weight, and 73 parts by weight of 2,2-jethoxyacetophenol as a photosensitizer, 3 parts by weight of 2-diOcyanthraquinone, and N-vinyl vinyl as other unsaturated compounds.
20 parts by weight of J Ridon, 720 parts by weight of Tsuru to improve filling properties into through holes, and 1 part by weight of Elonlu were blended to obtain an ultraviolet-curable hole-filling composition. Example 2 The above composition
Fill the through hole using the roll filling method in the same way as
It was cured by irradiating ultraviolet rays from both sides. The ultraviolet lamp uses a 120W/crn high-pressure mercury lamp, and the irradiation time is 1.
It was 0 seconds. Thereafter, the acid-resistant ink was printed and cured in the same manner as in Example 1, and etching was performed using a ferric chloride etching solution at 50°C. The above composition and acid-resistant ink were removed from a 3% aqueous sodium hydroxide solution at 40°C to produce a double-sided printed wiring board. The time required for removal using the aqueous solution of thorium hydroxide was 23 seconds, and there was no esotinking of the through holes and no deterioration in the performance of the through holes.

実施例7 :う一メチル・\キサヒドロフクル酸無水物168f(
1モル)、ヒドロキノン0.59を実施例1におけると
同様に反応させてモノエステル化合物(11−7)を得
た〇 実施例6において得られた(A−6)20重量部、′(
旋例2にて使用した( A−2) 20重量部、j:記
(B−7) =13重量部、光増感剤として2−ヒト[
jキン2−メチルプロピオフェノン8重量部、2−]−
チルアントラキ/ン4重量部およびその他不飽和化合物
としてトリプロピレンクリコールジアクリレート5重量
部並びにスルーホールへの充填性の向上のために炭酸カ
ルシウム10重量部、水添ヒマシ油1重量部を配合して
紫外線硬化孔埋め用組成物を得た。上記組成物を実施例
3と同様にスルーホール内に充填し紫外線を両面より照
射して硬化させた。120 W/、のメタルハライドラ
ンプを使用し、照射時間は10秒であった。その後、実
施例1と同様に耐酸インクを印刷、硬化し、50℃の塩
化第二鉄エツチング液により銅露出部分をエソチンク除
去し、水洗後、40℃において13%の水酸化す) I
Jウノ・水溶液lこより上記組成物及び耐酸インクを除
去して両面プリント配線基板を作製した0−に配水酸化
ナトリウム水溶液の除去に要した時間は25秒であり、
スルーホールに対するエソチンクも生ぜず、スルーホー
ルの性能低下はなかった。
Example 7: Methyl \xahydrofucric anhydride 168f (
Monoester compound (11-7) was obtained by reacting 0.59 mol of hydroquinone in the same manner as in Example 1. 20 parts by weight of (A-6) obtained in Example 6, '(
20 parts by weight of (A-2) used in Example 2, 13 parts by weight of (B-7), 2-human [
8 parts by weight of 2-methylpropiophenone, 2-]-
4 parts by weight of tylanthraquine, 5 parts by weight of tripropylene glycol diacrylate as other unsaturated compounds, 10 parts by weight of calcium carbonate, and 1 part by weight of hydrogenated castor oil to improve filling properties into through holes. A UV-cured pore-filling composition was obtained. The above composition was filled into the through hole in the same manner as in Example 3, and was cured by irradiating ultraviolet rays from both sides. A 120 W/metal halide lamp was used, and the irradiation time was 10 seconds. Thereafter, acid-resistant ink was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the exposed copper portion was etched with a ferric chloride etching solution at 50°C, and after washing with water, 13% hydroxide was applied at 40°C.
The above composition and acid-resistant ink were removed from the J Uno aqueous solution to prepare a double-sided printed wiring board.The time required to remove the sodium oxide aqueous solution was 25 seconds.
There was no eso-tink to the through-hole, and there was no deterioration in the through-hole performance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (11(A)軟化点が60℃以上、酸価が50〜500
の飽和有機化合物、 (13)一般式(1)、(II)または(III)〔式
中、Itは水系もしくはメチル基、R′は水素もしくは
炭素数1〜4のアルキル基、Yは2価の有機基である〕 て表わされるモノエステル化合物、および((:)光増
感剤 からなる紫外線硬化孔埋め用組成物。
[Claims] (11(A) Softening point is 60°C or higher, acid value is 50-500
A saturated organic compound of (13) general formula (1), (II) or (III) [wherein, It is aqueous or a methyl group, R' is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y is a divalent An ultraviolet-curable pore-filling composition comprising a monoester compound represented by the following organic group and a photosensitizer ((:).
JP8484882A 1982-05-21 1982-05-21 Ultraviolet-curing composition for filling hole Granted JPS58202440A (en)

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Cited By (3)

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