JPS58198815A - 電子衝撃型電界放出イオン源 - Google Patents

電子衝撃型電界放出イオン源

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Publication number
JPS58198815A
JPS58198815A JP7996982A JP7996982A JPS58198815A JP S58198815 A JPS58198815 A JP S58198815A JP 7996982 A JP7996982 A JP 7996982A JP 7996982 A JP7996982 A JP 7996982A JP S58198815 A JPS58198815 A JP S58198815A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion
tip
ion source
field emission
emitter
Prior art date
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Pending
Application number
JP7996982A
Other languages
English (en)
Inventor
Hifumi Tamura
田村 一二三
Toru Ishitani
亨 石谷
Shinji Takayama
高山 新司
Shigeyuki Hosoki
茂行 細木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS58198815A publication Critical patent/JPS58198815A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は極微小ビーム径を有する点イオン源の改良に係
シ、特に、この種のイオン源においてサブミクロン微細
加工およびサブミクロン計測に好適な各種元素イオンを
取シ出し得る電界放出イオン源の構成に関する。
この種の従来のイオン源は主として高融点材料。
例えばW、Ta線などをヘアピン状に曲げ、その先端に
シャープに尖ったチップを溶着したエミッタチップと、
イオン引出電極とより構成されている。また、エミッタ
チップの溶着部には取り出そうとするイオン種材料が供
給されている。このようなイオン源の動作原理は次の通
シである。先ず。
ヘアピンに適当な電流を流し、先端を加熱し、イオン種
材料を溶融させ、チップの先端にイオン種材料を溶融状
態で供給する。次に、チップの先端に強電界を印加し、
チップ先端より電界電離イオンを引出す。
このような従来のイオン源はフィラメントに電流を流し
2間接的(熱伝導により)にイオン種材料を溶融させて
エミッタチップに供給する方式を採用しているので、高
融点元素、または反応性元素イオンの取シ出しには2次
のような2つの致命的な欠点を′有する。
(1)ヘアピン材料自体の溶融、軟化および高温反応な
どの理由によシ高融点単元素イオンの引出しが困難であ
る。
(2)ヘアピン材料と反応するイオン種材料のイオン種
の取シ出しは困難である。
したがって2本発明の目的は安定で且つ長寿命の高融点
元素および反応性元素イオンビームを取シ出せる電界放
出イオン源を提供することにある。
本発明は高融点または反応性イオン種を安定に且つ長寿
命で引出すために9次の2つの技術を組合せて電界放出
イオン源を構成している。第1はエミッタチップの高温
加熱を達成するために電子ビーム加熱手段を採用した。
この加熱手段はすでに本発明者らによシ提案(実開昭5
6−123453号)されている。この加熱手段による
と高融点材側を含むあらゆる物質の溶融が可能である。
第2は本発明の骨子となるが、利用したいイオン種を含
む安定な化合物をエミッタチップ材料として用い。
イオン種材料とエミッタチラシとの反応を軽減させるこ
とにあシ、これにより、高融点9反応性イオン種を安定
に、目っ長寿命で取り出すことが可能な電界放出イオン
源を提供できるものである。
以下1本発明の一実施例を第1図により説明する。同図
において9本発明のイオン源は利用したいイオン種を含
む安定な化合物によシ作製したエミッタチップ1.イオ
ン種材料4を装填するルツボ2.イオン種材料4の蒸発
による損失およびエミッタチップ1の軸出しを目的とし
たスペーサ3゜イオン種材料4.電子衝撃のための制御
電極5゜加熱用電子源としてのフィラメント6、イオン
引出電極7.電子加速電源8.フィラメント電源9およ
びイオン加速電源10より構成されている。
このイオン源の動作原理は次の通りである。第1図の構
成によジ、先ず所望のイオン種材料4を装填し、フィラ
メント6をフィラメント電源9により加熱し、電子加速
電源8により、フィラメント6よシ放出される電子をエ
ミッタチップlに照射してこれを加熱する。その結果、
イオン種材料4は溶融し、エミッタチップlの先端に溶
融状態で供給される。エミッタチップ1の先端における
イオン種材料4は表面張力によシ球形状を呈する。
次に、エミッタチップ1とイオン引出し電極7との間に
イオン引出電圧を印加する。その結果、エミッタテップ
1の先端には高電界が印加され9表面張力と電界強度と
の力学的釣合い条件によシ。
チップ1の先端のイオン種材料(溶融状態にある)4に
よる尖鋭なコーン形状が形成される。このようにして、
一度コーンが形成されると益々強い電界が先端に集中し
、イオン種材料4が電界電離によりイオンと一ム11と
して放出される。上述の動作原理にもとづいて従来困難
とされていたいビーム11を取り出した一例を次に示す
。この場合、エミッタテップ1の材料としてはLaB5
を、またイオン種材料4としては粉末状の高純度Bを用
いた。この状態でフィラメント電源9によりフィラメン
ト6を約2500’Oに加熱し、電子線加速電圧源8の
電圧を調整し、エミッタチップ1の先端の温度が230
0℃以上になるまで加熱し、イオン種材料4のBを溶融
させ、チップ1の先端に供給した0次に、イオン加速電
源10によってチップ1の先端と引出電極7との間にイ
オン引出電界を印加し、B ビーム11を引出した。
第2図にB ビーム11のイオン電流Ieと引にシキイ
値をもち、電圧上昇に従って急激に立上ることがわかる
。安定度は1チ/時間であり、極めて安定である。さら
に、寿命はイオン種材料4の装填量に依存するが、0.
5gの装填でIA・時間が得られた。この値はイオン種
材料4の装填量により、さらに改善できることは云うま
でもない。
以上はL a Be −B系について述べたが、窒化物
炭化物系などについても上述と同様な効果が得られるこ
とは云うまでもない。
本発明の電子衝撃型電界放出イオン源は電子ビーム加熱
手段と所望のイオン種を含む窒化物、はう化物および炭
化物などからなる安定なエミッタチップとを採用してい
るので、従来困難とされていた高融点元素および反応性
元素イオンを他のイオン種と共存させることなく多量に
引き出せる効果がある0
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の電子衝撃型電界放出イオン源の縦断面
構成図、第2図はl第1図のイオン源において、7La
BaのエミッタチップとB粉末との組合せによりB イ
オンを引出した場合のイオン引出し電圧VeとB イオ
ン電流Ieとの関係を示すグラフである。 1;エミッタチップ、2;イオン釉材料用ルツボ、3;
スペーサ、4;イオン種材料、5;制御電極、6:フィ
ラメント、7;イオン引出電極。 8;電子ビーム加熱用電源、9;フィラメント電源、l
O;イオン引出電源、11;イオンビームy第 l 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、取シ出したいイオン種元素材を保持したエミッタチ
    ップ、上記エミッタテップの先端近傍を加熱して上記イ
    オン種元素材を溶融させるための電子線加熱手段、上記
    エミッタチップの先端からイオンビームを引出し且つ加
    速するためのイオン引出電極を含むイオン源において、
    上記取り出したいイオン種元素を含む化合物材料を用い
    て上記エミッタチップを構成したことを特徴とする電子
    衝撃型電界放出イオン源。 2、上記エミッタチップが窒化物あるいはほう化物材料
    からなることを特徴とする第1項の電子衝撃型電界放出
    イオン源。
JP7996982A 1982-05-14 1982-05-14 電子衝撃型電界放出イオン源 Pending JPS58198815A (ja)

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JP7996982A JPS58198815A (ja) 1982-05-14 1982-05-14 電子衝撃型電界放出イオン源

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JP7996982A JPS58198815A (ja) 1982-05-14 1982-05-14 電子衝撃型電界放出イオン源

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JPS58198815A true JPS58198815A (ja) 1983-11-18

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ID=13705142

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JP7996982A Pending JPS58198815A (ja) 1982-05-14 1982-05-14 電子衝撃型電界放出イオン源

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JP (1) JPS58198815A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4631448A (en) * 1983-03-09 1986-12-23 Hitachi, Ltd. Ion source
US4733134A (en) * 1985-05-24 1988-03-22 Hitachi, Ltd. Liquid metal ion source with pulse generator control

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4631448A (en) * 1983-03-09 1986-12-23 Hitachi, Ltd. Ion source
US4733134A (en) * 1985-05-24 1988-03-22 Hitachi, Ltd. Liquid metal ion source with pulse generator control

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