JPS58198727A - 連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルの測定方法 - Google Patents

連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルの測定方法

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JPS58198727A
JPS58198727A JP2784483A JP2784483A JPS58198727A JP S58198727 A JPS58198727 A JP S58198727A JP 2784483 A JP2784483 A JP 2784483A JP 2784483 A JP2784483 A JP 2784483A JP S58198727 A JPS58198727 A JP S58198727A
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JP
Japan
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molten metal
voltage
characteristic curve
coil
level
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Pending
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JP2784483A
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English (en)
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フランツ−ルドルフ・ブロツク
ジヤン・リ−シユ
レオン・アンジエ
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Arcelor Luxembourg SA
Original Assignee
Arbed SA
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F23/00Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
    • G01F23/22Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water
    • G01F23/26Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water by measuring variations of capacity or inductance of capacitors or inductors arising from the presence of liquid or fluent solid material in the electric or electromagnetic fields

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、鋳・造操作自体においてもまた溶湯レベルが
その通常の操業位置から大きく離れている連続鋳装置の
運転開始時においても実施できる連続鋳侍用鋳型内の溶
湯充填レベルの測定方法に関するものである。
導体を透過する磁界を変えることにより導体に電流が誘
導され、この電流の二次磁界から導体の存在を推論でき
ることは既知である。また、コイルの磁界内に導体を入
れた際にコイルのインピーダンスが変化することも既知
である。
フランス国特許第2,251,811号には、無接触誘
導型測定装置によって異なる密度並びに導電率を有する
二つの相の間の境界位置を測定し、この際これらの相の
うち少くとも一方は電流を通すことができるが磁性材料
でないものとすることが記載されている。この測定装置
は作業コイルと測定コイルとを具え、これらのコイルを
開放配置において前記境界に向ける。この場合には、測
定装置を2個のU字形磁気コアから構成し、これらの1
L 磁気コアを互に並列に配置し、この際測定コイルを逆接
続する ( 8  ) かかる測定方法は連続鋳造の場合には役に立たない。こ
の理由は、良導電性の銅鋳型によって磁界が強く遮蔽さ
れるので測定装置の感度を満足させることができないか
らである。
容器、例えば鋳型の影響を除くには、本出願人がそのヨ
ーロッパ特許出願第0010589号に記載した方法を
使用することができ、この方法では1、磁界を生じる1
個の一次コイルおよびこれに対し対称的に位置する逆接
続された同様な2個の二次コイル並びに溶湯が、二次コ
イルに対する溶湯レベルの位置によって二次コイルに電
圧を生じさせることができる配置を形成し、この電圧を
充填レベルの尺度として使用する。−次コイル並びに二
次コイルは前記容器の回りに同軸に接触することなく位
置し、二次コイルに誘導される電圧のほかに溶湯の導電
率を測定し、導電率の測定値を考慮して補正した電圧の
値から溶湯レベルの位置を求める。
連続鋳造装置の稼動中のはか運転開始時の溶湯レベルの
位置を用跡する場合には、前記ヨーロ゛ン既知方法は実
施可能であり、また信頼できる溶湯レベルの制御を可能
にするが、得られる精度は改善の余地が充分あると思わ
れる。電圧測定値の評価は二通りの意味に解釈でき、こ
の理由は溶湯レベルの高さより上では電圧は釣鐘形曲線
となりこの結果最大値の範囲内では不満足な精度をよぎ
なくされるからである。
本発明の目的はかかる欠点を取り除くことかで1きる方
法を提供することにある。
この目的は、−次コイルと二次コイルとからなる配置に
おいて二次フィルに対する溶湯レベルの位置によって二
次コイルに測定すべき誘導電圧を生じさせることができ
る本発明方法によって達成される。本発明方法は、磁界
を生ずる1個の一次コイル(Pl)と、並列に逆接続す
る少くとも8個の二次コイル(S、、S□、S8・・・
・・・ Sn)とを具え、鋳型(6)を共軸に取り囲む
少くとも1個のコイル配置(8P1)において、電圧特
性曲線(S、 −82’)+(S  −8’)・−曲(
S、−8n)  +  (S、−88)−−−−−−1
8 (5n−0−Sn)を記録し、これらの電圧測定値から
溶湯レベルの位It (L)を求めることを特徴とする
本発明の基本思想は、逆接続されている二次コイルの個
々の電圧特性曲線(mv−溶湯レベルの高さ)が、厳密
には線形とはいえなくてもほぼ線形と見做すことができ
る線形部分を有するある形状を示すことに基づく。1個
の一次コイルと8個の二次コイルとからなる本発明の配
置においては、8本の特性曲線、すなわち特性曲線(8
152)In(S、−88)および(82−88)ヲ使
用する。本発明においては、全電圧特性曲線を溶湯レベ
ルの高さに依存する曲線の形状に関して調べ、各特性曲
線における線形部分並びに非線形部分の範囲を測定し記
録する。
本発明においては、稼動中に、特性曲線(Sニー82)
(8□−8B ) 、 (S、−58)において、はと
んど同時に電圧値を記録し、そのっどこれらの電圧値を
測定点の近くにある線形の特性曲線における真の測定信
号として使用し、選定すべき特性曲線お2゜よびその線
形範囲をその他の特性曲線の電圧値の助けをかりて求め
ることができる。
これにより全範囲にわたって良好な測定精度を達成する
ことができ、溶湯レベルの差異を1 fntnの精度で
測定することができる。
(7) 次に本発明を図面を参照して例について説明する。
第1図から明らかなように、コイル配置(SP□)は溶
湯レベルの位置(L)を測定する必要のある鋳型(K)
を共軸に取囲む。コイル配置(SP、)には1個の一次
コイル(P□)および任意の多数の二次コイル(Sl 
+ S2 +・・・Sn)を設けることができる。
鋳型内に溶湯が存在しない場合には、全二次電圧は零に
等しくなる。溶湯レベルが上昇すると、先ず下方のコイ
ル(Sn)において優先的に誘導電圧が減少するので、
この結果生ずる電圧(Sn−□−籟)または(S□−8
n)の合計が増大、する。非対称性が最大となる場合、
つまり溶湯レベルが1対の二次コイルの間に存在してい
る場合には、全二次電圧が最大になる。溶湯レベルがさ
らに上昇すると、再び非対称性および全二次電圧が減少
する。
個々の電圧値から1対の二次コイルの特性曲線が生じ、
これを記録する。
第2図に示すように、測定配置は複数個設けることがで
き、それぞれの1個の測定配置は2個の(8) コイル系TSP)および(SP2+を具え、各コイル系
はそれぞれ1個の一次コイル(P□)または(P2)並
びにそれぞれ8個の二次コイル(sl、1 ’ sl、
2181.8 ’またはくS2.11 ”IJ l ”
J、8 )から構成サレテいる。自明のことであるが、
特に注湯の際に溶湯レベルを測定するには、複数個のコ
イル系を設け、溶湯レベルに対応してこれらのコイル系
を鋳型の軸線に沿って位置決めすることができる。しか
し、n個の一次コイルとm個の二次コイルとが存在して
いるコイル系を設けることも可能であって、この際設け
た全コイル系の少くとも1個ではmを少くとも3に等し
くする。
第8図には鋳型壁(K)とこれを共軸に取り囲むコイル
配置+SP)を示す。コイル配置は1個の一次:lイル
(P r )と8個ノ二次:l’l’A/(S□、S2
.S8)とから構成されている。個々の1対の二次コイ
ルの特性曲線(S、−82) 、 (S2−88)並ヒ
ニ(S、 −88)を図示する。中間のコイルは全測定
範囲が8個のほぼ直線の部分でカバーされるように設置
する。
個々の特性曲線はその形態においてガウスの分布曲線を
連想させ、この曲線はその全体では溶湯レベルの位置(
L)を求めるための測定曲線としては不適当であるのは
明らかである。特性曲線(S。
−88)では、点1と点2との間の部分並びに点3と点
4との間の部分のみがは汀線形であるかあるいは少くと
も容易に線形化可能であって、このことは点2と点8と
の間に位置する部分には当てはまらない。特性曲線【S
□−82)並びに特性曲線(S、・−881に関しても
同様であって、これらの特性曲線ではある部分のみ、例
えば点5と点6との間の部分のみがはげ直線であり、従
って正確な測定に適している。
溶湯レベルが図示する位置fLlにある場合には、容易
に分るように、特性面m<s□−881に基づく測定は
、従来技術に相当するもので尊あって、充分正確ではな
く、この理由は測定点(X8)が特性曲線の最大点の近
くに位置し、この位置では高さによる測定値の変化が極
めて小さいからである。
しかも最大点においては高さによる測定値の変化は全く
現れない。しかし、本発明によれば特性面M (S、 
−S2. )並び4ニー (S2− S8)ニ基づイテ
測定点(Xo)並びに(X2)が得られ、これらの測定
点はいずれも線形部分に位置するので、正確な測定に対
する必要条件が満たされている。この際、線形部分に位
置する測定点が1個だけである場合でも、ある程度妥当
な結果が得られるのは自明のことであるが、個々の評価
できる測定点が2個あると、測定精度が向上する。この
理由は]個の電圧値に基づくだけでなく(X、lと(X
2)との差を求めてこれを評価することができ、また(
X□)の絶対値を(X、)の絶対値と比較した結果を情
報として使用できるからである。
(S□−8,)の値が点2の値および点3の値より大き
いことが比較によって確認された場合には、!少くとも
浴湯レベルの存在する範囲が分る。そこでかかる追加の
情報によって特性曲線(82−88)から正確な値を読
み取ることができる。
、′1 さらに本発明方法によれば系を連続的にモニターするこ
とができ、その際には第3図例えば測定(11) が行われた範囲においては(X□)の値の増大は(X2
)の値の減少と不可避に結び付けられている筈であり、
これは溶湯レベルの位置(L)の降下を示するからであ
る。普通側々の値だけでなくその時間的変化を利用する
ことができる。普通電圧差の有効値(Effectiv
ewert 、二乗平均平方根値)のみが測定されるの
で、電圧差は絶対値で表示される。この際特性曲線に不
連続部分(Knicke )が生じ、その不連続点(5
pitze )が横軸上に位置するのが普通である。電
圧差の特性曲線の上記不連続点における接線は横軸に対
して等しい角度をなす。釣鐘形曲線の端縁範囲のみに不
連続部分が現れ、不連続部分は測定電圧の一つを増大ま
たは減少することによって回避することができる。
かかる結論および考察は対応させてプログラミングした
マイクロプロセッサによって得られるのは自明のことで
ある。かかるマイクロプロセッサを用いて制御を行うこ
ともできる。この制御とは、例えば、溶湯レベルの位置
を変えるためにコイル(S□、 S2−・)の電圧が変
化(Aktivierung )す(12) る場合にはストランドの引き出し速度を変えまたコイル
(・・・S8. Sn)の電圧が変化する場合には新た
な溶湯の供給量を調節することである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施するのに使用する配置の1例
の要部を示す路線図、 第2図は本発明方法を実施するのに使用する配置の他の
例の要部を示す路線図、 第8図は本発明方法を実施するのに使用する配装置のさ
らに他の例の要部を示す路線図である。 K・・・容器(鋳型)  L・・・溶湯レベルの位置P
、 、 P、・・・−次コイル Sl + 82 + 88 ” ’ ” 5n−1r 
Sn =・・’二次コイルs、□I Sl、2 # S
l、81 ”!。11 S2J l ”2.8・・・二
次コイルSP、 、 SF3・・・コイル配置(コイル
系)(Sl−82) 、 (S□−88) l (S、
2−88) 、 (Sn、−8n)(S、 −5rl)
・・・1対の二次コイルの電圧特性曲線t mV−溶湯
レベルの高さ) xl・x、 、 x8・・・測定点 1.2,8.4・・・点。 特許出願人  アルベット・ソシェテ・アノニム手続補
正書(方式) 昭和58年6月27日 1、事件の表示 昭和58年 特 許 願第27844  号2、発明の
名称 連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルの測定方法3、補正
をする者 事件との関係 特許出願人 名称   アルベット・ソシエテ・アノニム■、明細書
の発明の名称を 「連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルの測定方法」 と訂正する。 (2)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1溶湯並びに一次コイルおよび二次コイルからなる配置
    において二次コイルに対する溶湯レベルの位置に応じて
    二次フィルに測定すべき電圧を誘導することにより、連
    続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルを測定するに当り、 磁界を生ずる1個の一次コイル(Po)と、l並列に逆
    接続する少くとも3個の二次コイル(S工、S2、S8
    ・・・・・・・・・Sn)とを具え1容器(5)を共軸
    に取り囲む少くとも1個のフィル配置(sp、 )にお
    いて、電圧特性曲線(Sニー82)(S−8)、(82
    −88)、・・・を記録し、”8 これらの電圧測定値からfg湯リレベル位置(Llを求
    めることを特徴とする連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベ
    ルの測定方法。 区 全電圧特性曲線を溶湯レベルの高さに依存する曲線
    の形状に関して調べ、各特性曲線における線形部分並び
    に非線形部分の範囲を測定し記録し、複数個の特性曲線
    において測定点の情報を評価することにより溶湯レベル
    を明確に測定する特許請求の範囲第1項記載の方法。 & 特性曲線の直線部分を測定に利用し、他の電圧値は
    正確には求めないが、これらの電圧値が基準比較値より
    大きいか小さいかを確認し、これにより測定値がいずれ
    の特性曲線の直線部分に位置するかを確定し、かくして
    二通りの意味をなくす特許請求の範囲第1項または第2
    項に記載の方法。 表 二次コイルを逆接続して、全測定範囲が少数のでき
    る限り直線の部分、最も簡単な場合でも18個の部分を
    含むようにする特許請求の範囲第1〜8項のいずれか一
    つの項に記載の方法。 五 一方では特性曲線(S□−82)・・・・・・の電
    圧の絶対値を、他方では近くの特性曲線から読み取った
    個々の電圧値の間の差を記録するかあるいはかかる差を
    求め、溶湯レベルの位置の決定に利用する特許請求の範
    囲第1〜4項のいずれか一つの項に記載の方法。 & 近くの特性曲線から互に読み取った電圧値の相対的
    な変化から溶湯レベルの上昇または降下を推論する特許
    請求の範囲第1〜5項のいずれか一つの項に記載の方法
    。 ?、 また個々の特性曲線から電圧値の時間的変化を求
    め、測定値として利用する特許請求の範囲第1〜6項の
    いずれか一つの項に記載の方法。 & 溶湯レベルの位置を変えるためにコイル(Sl、S
    g・・・・・・ )の電圧が変化する場合にはストラン
    ドの引き出し速度を変えまたコイル(・・・・・・ S
    8、Sn)の電圧が変化する場合には新たな溶湯の供給
    敏を調節する特許請求の範囲第1〜7項のいずれか一つ
    の項に記載の方法。          。
JP2784483A 1982-02-23 1983-02-23 連続鋳造用鋳型内の溶湯充填レベルの測定方法 Pending JPS58198727A (ja)

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LU83969 1982-02-23
LU83969A LU83969A1 (de) 1982-02-23 1982-02-23 Verfahren zum messen des fuellstandes von fluessigen metallen in stranggiessanlagen

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