JPS58198599A - 硬ゼイ材料の洗浄方法 - Google Patents
硬ゼイ材料の洗浄方法Info
- Publication number
- JPS58198599A JPS58198599A JP57081977A JP8197782A JPS58198599A JP S58198599 A JPS58198599 A JP S58198599A JP 57081977 A JP57081977 A JP 57081977A JP 8197782 A JP8197782 A JP 8197782A JP S58198599 A JPS58198599 A JP S58198599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard
- cleaning
- abrasive
- cerium oxide
- mineral acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0075—Cleaning of glass
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は硬ゼイ材料の洗浄方法に関し、硬ゼイ材料の
研摩面に残る酸化セリウム（Ｃｅ Ｏ□）を、研摩面の
潜傷を堀り起こすことなく溶解し、研磨剤粒子、洗浄液
中のゴミ等（以下異物と言う）の付着もなく、キズもな
い研摩面を有する硬ゼイ材料を得るための、硬ゼイ材料
の洗浄方法を提供せんとするものである。
研摩面に残る酸化セリウム（Ｃｅ Ｏ□）を、研摩面の
潜傷を堀り起こすことなく溶解し、研磨剤粒子、洗浄液
中のゴミ等（以下異物と言う）の付着もなく、キズもな
い研摩面を有する硬ゼイ材料を得るための、硬ゼイ材料
の洗浄方法を提供せんとするものである。
酸化セリウムは化学的に安定である為、従来より研摩表
面に残る酸化セリウムは、研摩表面をある程度エツチン
グすることにより１表面よりＭｍさせて取り除くか、あ
るいは物理的に表面を摩擦することにより取り除くこと
が行なわ右ていた。どちらの場合も表面より完全に酸化
セリウムを取り除くことが困難であり、しかも、表面に
キズを残すことが多かった。
面に残る酸化セリウムは、研摩表面をある程度エツチン
グすることにより１表面よりＭｍさせて取り除くか、あ
るいは物理的に表面を摩擦することにより取り除くこと
が行なわ右ていた。どちらの場合も表面より完全に酸化
セリウムを取り除くことが困難であり、しかも、表面に
キズを残すことが多かった。
例えば硬ゼイ材料としてガラスを洗浄する場合、洗浄液
に弗酸系あるいはリン酸系の洗浄液を用い、洗浄表面に
は超汗波揺動をかけることが行なわれた。またスポンジ
、ブラシ等の摩擦材料によって力学的に表面」−の酸化
セリウムを取り除くことも行なわれている。
に弗酸系あるいはリン酸系の洗浄液を用い、洗浄表面に
は超汗波揺動をかけることが行なわれた。またスポンジ
、ブラシ等の摩擦材料によって力学的に表面」−の酸化
セリウムを取り除くことも行なわれている。
従来、ガラスを酸化セリウムを含有する研摩剤で研摩す
ると、ガラス表面には酸化セリウｔ、が付着することが
知られている。比較的ガラス表面に強固に研摩剤が付着
している場合には、・ガラス表面をわずかにエツチング
する方法が効果的であるが、この場合には潜傷を堀り起
こしてしまい、ガラス表面が細かいキズの多い面となっ
てしまう。また、一度洗浄液中に酸化セリウム粒子が遊
離したとしても、ガラス表面に丙付着する可能性がある
。ブラシ等で研摩面をこすって研摩剤を落す方法の場合
でも同様の弊害をもっている。
ると、ガラス表面には酸化セリウｔ、が付着することが
知られている。比較的ガラス表面に強固に研摩剤が付着
している場合には、・ガラス表面をわずかにエツチング
する方法が効果的であるが、この場合には潜傷を堀り起
こしてしまい、ガラス表面が細かいキズの多い面となっ
てしまう。また、一度洗浄液中に酸化セリウム粒子が遊
離したとしても、ガラス表面に丙付着する可能性がある
。ブラシ等で研摩面をこすって研摩剤を落す方法の場合
でも同様の弊害をもっている。
本発明においては、ガラスは化学的にエツチングされる
ことなく、付着している酸化セリウｌいを溶解すること
が可能である。よってガラス表面に潜傷を発生させるこ
となく研摩剤を落すことかで゛き、またこの際に使用す
る洗浄液中には酸化セリウム粒子も残らないので、異物
の１４着の少ない清浄な研摩面を得るための洗浄を行な
うことができる。
ことなく、付着している酸化セリウｌいを溶解すること
が可能である。よってガラス表面に潜傷を発生させるこ
となく研摩剤を落すことかで゛き、またこの際に使用す
る洗浄液中には酸化セリウム粒子も残らないので、異物
の１４着の少ない清浄な研摩面を得るための洗浄を行な
うことができる。
すなわち、本発明の硬ゼイ材料の洗浄方法は、酸化セリ
ウムを含有する研摩剤で硬ゼイ材料を研摩する場合にお
いて、前記硬ゼイ材料表面に付着した研摩剤を、還元剤
を含む鉱酸溶液に上り溶解することを特徴とするもので
ある、本発明の適用ｉ３７能な硬ゼイ材料としては、Ｉ
Ｃ用フォトマスク用基板として使わ小ているカラス基板
（Ｔ、Ｅ−ｍ−株式会社保谷電γ製）が挙げられ、その
他ＩＣ用の基板として使わ１１ているソーダライｌい系
のガラス、また最近使わ１１始めた石英ガラスについて
も−ｆ Ｓ）効果があるー鉱酸濃度についてもいくら濃
くしてもかまわないし、処理温度ももっと高くしてもか
まわないが、作業性、安全性からみて鉱酸濃度として望
ましい値は１規定〜２規定、温度としては４０〜５０℃
である。
ウムを含有する研摩剤で硬ゼイ材料を研摩する場合にお
いて、前記硬ゼイ材料表面に付着した研摩剤を、還元剤
を含む鉱酸溶液に上り溶解することを特徴とするもので
ある、本発明の適用ｉ３７能な硬ゼイ材料としては、Ｉ
Ｃ用フォトマスク用基板として使わ小ているカラス基板
（Ｔ、Ｅ−ｍ−株式会社保谷電γ製）が挙げられ、その
他ＩＣ用の基板として使わ１１ているソーダライｌい系
のガラス、また最近使わ１１始めた石英ガラスについて
も−ｆ Ｓ）効果があるー鉱酸濃度についてもいくら濃
くしてもかまわないし、処理温度ももっと高くしてもか
まわないが、作業性、安全性からみて鉱酸濃度として望
ましい値は１規定〜２規定、温度としては４０〜５０℃
である。
また還元剤としては、塩化第１鉄のみならず塩化第１ス
ズも有効である。
ズも有効である。
具体例を挙げてより詳細に説明する。洗浄液の構成をＨ
２Ｓ Ｏ４＋ Ｆ ｅ Ｃｌ ２とし、Ｈ２ＳＯ４を０
−２Ｎ、ＦｅＣｌ２を０〜４ｗＬ％とした上記洗浄液中
に、酸化セリウムを主成分とする研摩剤（ルミノックス
）を分散させ、５０℃に保ち、１０分間超音波揺動をか
けたときの研摩剤の溶解度を表−１に示す。このとき超
音波強度は１７キヤビンで、超音波発振子には２５ｋｌ
−１ｚ、０．５ｋｗのものを用いた。このときに用いた
研摩剤の組成を表−２に示す。
２Ｓ Ｏ４＋ Ｆ ｅ Ｃｌ ２とし、Ｈ２ＳＯ４を０
−２Ｎ、ＦｅＣｌ２を０〜４ｗＬ％とした上記洗浄液中
に、酸化セリウムを主成分とする研摩剤（ルミノックス
）を分散させ、５０℃に保ち、１０分間超音波揺動をか
けたときの研摩剤の溶解度を表−１に示す。このとき超
音波強度は１７キヤビンで、超音波発振子には２５ｋｌ
−１ｚ、０．５ｋｗのものを用いた。このときに用いた
研摩剤の組成を表−２に示す。
表−１，超音波処理１０ｍ１ｎ後の研摩剤の各洗浄液に
対する溶解度（ｗ１％） ２１：）処理条件は次の通りである。
対する溶解度（ｗ１％） ２１：）処理条件は次の通りである。
温度 ５０℃
超音波強度 １７ ｃａｖｉｎｓ（２５Ｋ）ｌＺ、
０．５にｗ）超音波処理時間 １０ｍ１ｎ 表−２，研摩材ルミノックスの組成表 上記表−１において、洗浄液中のＦｅＣｌ２が０％のと
きは、鉱酸のみの効果により研摩剤中の酸化ランタン（
Ｌ ａ ２０ｉ ）の溶解が起きたものと解釈できる。
０．５にｗ）超音波処理時間 １０ｍ１ｎ 表−２，研摩材ルミノックスの組成表 上記表−１において、洗浄液中のＦｅＣｌ２が０％のと
きは、鉱酸のみの効果により研摩剤中の酸化ランタン（
Ｌ ａ ２０ｉ ）の溶解が起きたものと解釈できる。
上記洗浄液に超音波をかけたときの第２鉄イオン濃度を
調べてみると。
調べてみると。
研摩剤の溶解度とともに増加していることがわかった。
したがって以下のような反応により、酸化セリウドの溶
解が起きているものと解釈される。
解が起きているものと解釈される。
Ｈ２Ｓ Ｏ４＋ Ｆ ｅ２＋ Ｃｅ ０２−）Ｈ２ＳＯ
４＋Ｆｅ３ ＋第１セリウム化合物表−２に示されたｌ
ＮのＨ２ＳＯ４，２ｗｔ％のＦ ｅ Ｃｌ ２を含む洗
浄液を用いた場合でも、扱ガラス、ＩＣ用フォトマスク
用ガラス基板、石英ガラス等の表面を全く侵すことなく
表面に４−１？？した研摩剤を溶解でき、精密な洗浄面
を作成できることがわかる。
４＋Ｆｅ３ ＋第１セリウム化合物表−２に示されたｌ
ＮのＨ２ＳＯ４，２ｗｔ％のＦ ｅ Ｃｌ ２を含む洗
浄液を用いた場合でも、扱ガラス、ＩＣ用フォトマスク
用ガラス基板、石英ガラス等の表面を全く侵すことなく
表面に４−１？？した研摩剤を溶解でき、精密な洗浄面
を作成できることがわかる。
以下本発明の硬ゼイ材料の洗浄方法を、実施例に基いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
実施例
１、Ｅ■■−ガラス基板（株式会社保谷電子製）を、醜
イヒせリウ１１系の研摩剤ルミノックス（清７’ （＋
−，・ツ・株式会社製）で研摩し、別途鉱酸として１＼
Ｉ−＋１２Ｓｏ、を、還ＩＱ剤として］ｗＬ％のｔ’
ｅ Ｃ’、 Ｉ ２をＮむ洗浄液を・１０°０に加熱し
たものにＱ ？ａ １．で、卸音波をかけながら２分間
洗浄した また二の基を反に６１屈クロ１１をスパッタ
ー【た際に、２００倍の顕微鏡で見える表面異物え数え
た枯県を１２ ３に示す。比較例として従来ｔｊなわＪ
ｌている０、１％のＨＦ溶液で上記基板を洗浄した。本
発明による方法でガラスを洗浄すると、従来行なわれて
いる方法によるものよりも欅めて清浄な研摩面が得られ
ることがわかる１、 ＊２００の顕＊＊で見えるものをすべてカウント以−ヒ
のように本発明の硬ゼイ材料の洗浄方法に上１ｔば、ｔ
ｉめで高精度な表面品質を要求される。ｌｉｌ、ｓｌ用
マスク基板の洗浄が可能で、高品質のものが得られる。
イヒせリウ１１系の研摩剤ルミノックス（清７’ （＋
−，・ツ・株式会社製）で研摩し、別途鉱酸として１＼
Ｉ−＋１２Ｓｏ、を、還ＩＱ剤として］ｗＬ％のｔ’
ｅ Ｃ’、 Ｉ ２をＮむ洗浄液を・１０°０に加熱し
たものにＱ ？ａ １．で、卸音波をかけながら２分間
洗浄した また二の基を反に６１屈クロ１１をスパッタ
ー【た際に、２００倍の顕微鏡で見える表面異物え数え
た枯県を１２ ３に示す。比較例として従来ｔｊなわＪ
ｌている０、１％のＨＦ溶液で上記基板を洗浄した。本
発明による方法でガラスを洗浄すると、従来行なわれて
いる方法によるものよりも欅めて清浄な研摩面が得られ
ることがわかる１、 ＊２００の顕＊＊で見えるものをすべてカウント以−ヒ
のように本発明の硬ゼイ材料の洗浄方法に上１ｔば、ｔ
ｉめで高精度な表面品質を要求される。ｌｉｌ、ｓｌ用
マスク基板の洗浄が可能で、高品質のものが得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、酸化セリウムを含有する研摩剤で硬ゼイ材料を研摩
する場合において、前記硬ゼイ材料表面に付着した研摩
剤を、還元剤を含む鉱酸溶液によって溶解することを特
徴とする硬ゼイ材料の洗浄方法。 ２、硬ゼイ材料が、ガラス基板である特許請求の範囲第
１項記載の硬ゼイ材料の洗浄方法。 ３、還元剤が、第１鉄化合物である特許請求の範囲第１
項または第２項記載の硬ゼイ材料の洗浄方法。 ・１．鉱酸が、温度３０’Ｃ〜５０”Ｃの２．０規定稈
度の鉱酸である、特許請求の範囲第１項乃至第：３項の
いずれかに記載の硬ゼイ材料部品洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081977A JPS58198599A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 硬ゼイ材料の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081977A JPS58198599A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 硬ゼイ材料の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58198599A true JPS58198599A (ja) | 1983-11-18 |
| JPS6133664B2 JPS6133664B2 (ja) | 1986-08-04 |
Family
ID=13761544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57081977A Granted JPS58198599A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 硬ゼイ材料の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58198599A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002163A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法、および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
-
1982
- 1982-05-14 JP JP57081977A patent/JPS58198599A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002163A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法、および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6133664B2 (ja) | 1986-08-04 |
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