JPS581954Y2 - イオン発生装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、プラズマ室が設けられた筐体の気密を破る
ことなく、プラズマ室内のフィラメントの位置の微調整
を行ない得るようにしたイオン発生装置に関する。

一般に、イオン発生装置は、ガス導入パイプからガスを
プラズマ室内に導入し、プラズマ室内をガス圧１０−３
〜１０−’Ｔｏｒｒ程度にしてプラズマ室内のフィラメ
ントに５０〜１００Ａの電流を流し、フィラメントを熱
して多量の熱電子を放電させ、その熱電子がガス分子と
衝突してガスをイオン化し、プラズマ室内をプラズマで
充満し、そのプラズマに静電界をかけ、イオンをプラズ
マ室より引き出すようにしている。

なお、ガスのイオン化時、コイルによりプラズマ室内に
均一な磁界をかけ、フィラメントから発生する熱電子を
フィラメントの１わりにスパイラル運動させ、熱電子の
平均自由行程を長くし、ガスのイオン化効率を高めてい
る。

ところで、フィラメントとプラズマ室とはカソードとア
ノードの関係にあたるため、フィラメントの位置によっ
てアーク電流量が異なり、ガスのイオン化効率も異なる
。

したがって、フィラメントを最適な位置に微調整し、イ
オン化効率を最大にする必要があるが、従来、フィラメ
ントは、プラズマ室に固定されていて微調整ができなく
、渣た微調整ができる場合でも、プラズマ室が設けられ
た筐体の真空状態を破って行なっているため、作業性が
悪い。

この考案は、以上の点に留意し、筐体の真空状態を破る
ことなく、フィラメントの位置の微調整を行ない得るよ
うにしたものであり、つぎにこの考案を、その実施例を
示した図面とともに詳細に説明する。

普ず、ｌ実施例を示した第１図ないし第３図について説
明する。

１はイオン発生装置の基板、２は基板１に固着された筐
体であり、吸気口（図示せず）から吸気され筐体２内が
真空にされる。

３はイオン取出部４に臨んで筐体２の前板２′に形成さ
れたイオン取出孔、５は筐体２の前板２′側に設けられ
たプラズマ室であり、プラズマ室５の開口５′はイオン
取出孔３に臨んでいる。

６は大気中から気密に筐体２の後板７を貫通しプラズマ
室５内に連通したガス導入パイプであり、ガス導入バイ
ブロからガスをプラズマ室５に導入し、プラズマ室５内
をガス圧１０−３〜１Ｏ−４Ｔｏｒｒ程度にする。

８，８はプラズマ室５の上、下壁に形成された透孔、９
はプラズマ室５の上壁督よび下壁の上面釦よび下面に形
成された断面台形状のスライド溝、１０，１０は一面に
断面台形状のスライド体１１が形成された調整スライド
であり、スライド体１１がスライド溝９に摺動自在に嵌
合され、調整スライド１０がプラズマ室５の上、下面に
摺動自在に設けられる。

１２，１２は調整スライド１０，１０に形成された透孔
、１３はプラズマ室５内に挿通されたフィラメントであ
り、フィラメント１３の両端は、プラズマ室５の壁面に
触れることなくプラズマ室５の透孔８，８を遊通し、調
整スライド１０，１０の透孔１２，１２内に絶縁物１４
．１４を介在して調整スライド１０．１０に支持される
。

１５゜１５は基体２の外部から端子１６，１６を介して
フィラメント１３の両端に接続された銅の撚り線等のリ
ード線であり、リード線１５，１５を介してフィラメン
ト１３に５０〜１００Ａの電流が流され、フィラメント
１３が熱せられて多量の熱電子を放出し、その熱電子が
プラズマ室５内のガス分子と衝突してガスをイオン化し
、プラズマ室５内をプラズマで充満し、そのプラズマに
静電界をかけ、イオンをプラズマで充満し、そのプラズ
マに静電界をかけ、イオンをプラズマ室５からイオン取
出部４に引き出す。

１７は筐体２の外面に設けられたコイルであり、コイル
１７によりプラズマ室５内に均一な磁界をかけ、フィラ
メント１３から発生する熱電子をフィラメント１３のま
わりにスパイラル運動させ、熱電子の平均自由行程を長
くし、ガスのイオン化効率を高める。

１８，１８はそれぞれ筐体２の後板７を貫通し調整スラ
イド１０．１０の後部に連結された調整棒、ｉ９．ｉ９
は調整スライドｉ ｏ、ｉｏに形成されたピン穴２０゜
２０に嵌着され調整棒１８，１８の先端の外周に形成さ
れた溝に嵌挿されるピンであり、ピン１９により調整棒
１８が調整スライド１０に離脱することなく回転自在に
連結される。

２１・・・は後板７の調整棒１８との摺動面に形成され
たリング溝、２２・・・はリン名苛２１に嵌合されたＯ
リングであり、０す／グ２２により調整棒１８と後板７
との間が気密にされる。

２３・・・は調整棒１８に嵌挿されて後板７の両側面に
固着されＯリング２２を押さえるリング押え、２４．２
４は後板７の後面に固着され調整棒１８，１Ｂが螺通し
たガイドであり、調整棒１８を回転することによりガイ
ド２４を基点として調整棒１８が前後動する。

２５．２５は調整棒１８，１Ｂの後端に固着された調整
ダイヤルであり、調整ダイヤル２５には調整棒１８の回
転に対応する調整棒１８の移動距離が刻印されている。

そして、フィラメント１３を最適な位置に微調整する時
は、両調整ダイヤル２５，２５を回転して調整棒１Ｂ、
１Ｂを前後動し、両調整スライドｉｏ、ｉｏを前後に摺
動し、フィラメント１３を最適な位置に位置決めして微
調整を行なう。

つぎに、他の実施例を示した第４図について説明する。

調整スライドに回転自在に連結された調整棒１８を、筐
体の後板７に貫通して調整板２６に固着し、後板７と調
整板２６との間に伸縮自在のベローズ２７を設けて調整
棒１８を被覆し、筐体内の気密を維持する。

さらに、調整板２６に螺通された移動軸２８．２８を後
板Ｉに回転自在に支持し、移動軸２Ｂ、２８の後端に、
移動軸２８．２８の回転に対応する調整棒１８の移動距
離が刻印された調整ダイヤル２５，２５を固着する。

そして、フィラメントを最適な位置に微調整する時は、
調整ダイヤル２５を回転して調整板２６を前後動し、そ
の調整板２６の移動により調整棒１８を介して調整スラ
イドを前後に摺動し、フィラメントを最適な位置に位置
決めして微調整する。

その時、ベローズ２Ｔが伸縮するため、筐体内の気密は
保たれる。

以上のように、この考案のイオン発生装置によると、真
空筐体にプラズマ室を設け、そのプラズマ室の上、下面
にそれぞれ調整スライドを摺動自在に設け、プラズマ室
内に位置するフィラメントの両端を、プラズマ室と絶縁
して両調整スライドにより支持し、かつ、両調整スライ
ドにそれぞれ筐体を気密に貫通した調整棒を連結し、両
調整棒により両調整スライドを移動自在にすることによ
り、筐体の真空状態を破ることなく、フィラメントの微
調整を行なうことができ、最適なフィラメントとプラズ
マ室との間の放電条件を得ることができ、調整操作も容
易で作業性も向上する。

【図面の簡単な説明】

図面は、この考案のイオン発生装置の実施例を示し、第
１図はｌ実施例の切断側面図、第２図ａ図は第１図の一
部拡大図、同す図は同ａ図の一部右側面図、第３図は第
１図の一部分解斜視図、第４図は他の実施例の一部拡大
切断側面図である。 ２・・・・・・筐体、５・・・・・・プラズマ室、１ｏ
・・・・・・調整スライ ド、 １３・・・・・・フィラメント、 ８・・・・・・調整 棒。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 真空筐体にプラズマ室を設け、前記プラズマ室のと、下
   面にそれぞれ調整スライドを摺動自在に設け、プラズマ
   室内に位置するフィラメントの両端を、プラズマ室と絶
   縁して前記両調整スライドにより支持し、かつ、両調整
   スライドにそれぞれ前記筐体を気密に貫通した調整棒を
   連結し、前記両調整棒により両調整スライドを移動自在
   にしたイオン発生装置。