JPS5818845A - カラ−陰極線管 - Google Patents
カラ−陰極線管Info
- Publication number
- JPS5818845A JPS5818845A JP11526481A JP11526481A JPS5818845A JP S5818845 A JPS5818845 A JP S5818845A JP 11526481 A JP11526481 A JP 11526481A JP 11526481 A JP11526481 A JP 11526481A JP S5818845 A JPS5818845 A JP S5818845A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- line
- shadow mask
- shadow masks
- centers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/80—Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching
- H01J29/81—Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching using shadow masks
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は複数の色選択電極、即ちシャドウマスクを有す
るカラー陰極線管に関する。
るカラー陰極線管に関する。
カラー陰極線管１ｃ卦いては、電子銃からの３本の電子
ビームを夫々所定の発光色を有する螢光体に正確に照射
させて正しく発色させる為に色選択電極、即ちシャドウ
マスクが電子銃と螢光面との間に設けられている。この
シャドウマスクには電子ビームを通過させるための多数
の透孔と、電子ビームｔ−遁断するためのマスク部分、
即ち透孔以外の部分とが設けられており、正確な電子ビ
ームのランディング状Ｗを得るために非常に高度の形状
精度が求められる。シャドウマスクＶＣは通常非常に薄
い金属板が用９られ、エツチング等により透孔が形成′
されるが、この精度は一般に金ｇ板の厚さが薄いほど高
ｉものが得られる。しかし乍ら電子ビームの半分を大幅
にこえる分がこのシャドウマスクの透孔外の部分に照射
されており、このためにシャドウマスクは加熱され、熱
変形を生じて正常なランディング状態から逸脱する不都
＆１生じ、この現象はシャドウマスクの厚さが薄いほど
大きなもの七なる。このような不都合の解決策として、
例えばシャドウマスクをバイメタルを介してパネルガラ
スに固定してシャドウマスクの加熱による変位を補正し
ている。しかしこの方法は ゛マスク全体の変位
補正に対しては有効であるが、局部的な電子ビームの入
射による熱変形に対しては解決策とはならない。従って
この解決策としてシャドウマスクの板厚を厚くすれば良
いが、逆に電子ビーム透孔の加工精度を低下させてしま
うことしこなる。
ビームを夫々所定の発光色を有する螢光体に正確に照射
させて正しく発色させる為に色選択電極、即ちシャドウ
マスクが電子銃と螢光面との間に設けられている。この
シャドウマスクには電子ビームを通過させるための多数
の透孔と、電子ビームｔ−遁断するためのマスク部分、
即ち透孔以外の部分とが設けられており、正確な電子ビ
ームのランディング状Ｗを得るために非常に高度の形状
精度が求められる。シャドウマスクＶＣは通常非常に薄
い金属板が用９られ、エツチング等により透孔が形成′
されるが、この精度は一般に金ｇ板の厚さが薄いほど高
ｉものが得られる。しかし乍ら電子ビームの半分を大幅
にこえる分がこのシャドウマスクの透孔外の部分に照射
されており、このためにシャドウマスクは加熱され、熱
変形を生じて正常なランディング状態から逸脱する不都
＆１生じ、この現象はシャドウマスクの厚さが薄いほど
大きなもの七なる。このような不都合の解決策として、
例えばシャドウマスクをバイメタルを介してパネルガラ
スに固定してシャドウマスクの加熱による変位を補正し
ている。しかしこの方法は ゛マスク全体の変位
補正に対しては有効であるが、局部的な電子ビームの入
射による熱変形に対しては解決策とはならない。従って
この解決策としてシャドウマスクの板厚を厚くすれば良
いが、逆に電子ビーム透孔の加工精度を低下させてしま
うことしこなる。
またシャドウマスクの発熱をパネル〃ラスの方へ熱放射
させて放熱効果を良好にする九めに螢光向のアルミメタ
ルバックの面を更に黒色にする等の手段も用いら几るが
、之等の手段では何れも電子ビームの正確なランディン
グを維持するための根本的解決とは言いＪｉｌｔ／−ａ
ものである。
させて放熱効果を良好にする九めに螢光向のアルミメタ
ルバックの面を更に黒色にする等の手段も用いら几るが
、之等の手段では何れも電子ビームの正確なランディン
グを維持するための根本的解決とは言いＪｉｌｔ／−ａ
ものである。
また特公昭５５−２６９８号公報には電子ビームの軌道
軸に沿って透孔を配置した二重マスクにより加熱変形に
よるランディング劣化を防止する技術が示されている。
軸に沿って透孔を配置した二重マスクにより加熱変形に
よるランディング劣化を防止する技術が示されている。
しかし乍らこの方式では、単にｍ２のマスクが電子ビー
ムｔＳ蔽するのみであシ、二重構造のマスクに各々異な
る電位が印加されていても遮蔽マスクが熱変形を生じた
場合、電界の変化により電子ビームがかえってずれ、ラ
ンディングが激しく劣化する欠点を有している。
ムｔＳ蔽するのみであシ、二重構造のマスクに各々異な
る電位が印加されていても遮蔽マスクが熱変形を生じた
場合、電界の変化により電子ビームがかえってずれ、ラ
ンディングが激しく劣化する欠点を有している。
本発明は以上の点に鑑みてなされたもので％複数のシャ
ドウマスクを用い、特に周辺部の対応する電子ビーム透
過孔対の各々の中心を結ぶ透孔中心軸が電子ビーム軌道
軸に対して傾きを有するように構成することによって、
透孔部に非対称電子レンズを形成し、且つこの非対称電
子レンズ全シャドウマスクの熱変形に合せて前記傾きｉ
ｌを変化させる様に構成し正確なランディング状態を維
持するカラー陰極線管を提供することを目的とするもの
である。
ドウマスクを用い、特に周辺部の対応する電子ビーム透
過孔対の各々の中心を結ぶ透孔中心軸が電子ビーム軌道
軸に対して傾きを有するように構成することによって、
透孔部に非対称電子レンズを形成し、且つこの非対称電
子レンズ全シャドウマスクの熱変形に合せて前記傾きｉ
ｌを変化させる様に構成し正確なランディング状態を維
持するカラー陰極線管を提供することを目的とするもの
である。
以下本発明の一実施例について図面に従い詳細に説明す
る。第１図は本発明のカラー陰極線管の特にシャドウマ
スク近傍の基本的構成を示す概略図である。第１図にお
いて、カラー陰極線管のガラスフェースプレー） （１
）の内面には螢光向（２）が形成され、螢光面（２）は
各色に発光する螢光体（３）とその残余の面ｔ−ａう黒
色光吸収体層（４）とから構成される。この螢光面（２
）と複数の電子ビームを発射する電子銃（図示せず）と
の間にあって螢光面（２）に近接して電子ビーム（５）
を正しく対応する所定の螢光体（３）に照射するための
シャドウマスク（６）が配設される。さらにこのシャド
ウマスク（６）の電子銃側に近接して第２のシャドウマ
スク（ＩＱが配役され、之等の２つのシャドウマスク（
６）及び０（ＩＫは異なる電位が印加される。之等の２
つのシャドウマスクの対応する透孔センター（７）及び
０１）は、その螢光面に対して垂直な透孔軸（８）及び
（９）が異なる様に、即ち透孔センター（７）及び０１
）を結ぶ透孔中心軸線ａ２は螢光面に対して非垂直とな
るように構成され、さらにこの透孔中心軸線ａ３は電子
ビーム（５）の入射軌道軸に対して非平行となる様罠、
即ち傾きを有する様に構成される。以上のような配列構
成のクヤドウマδり７を有するカッ−陰極線管において
、アノード電圧Ｅｂ）サブフォーカス電圧Ｖｇとなるよ
うに電圧が印加されているので入射する電子ビーム（５
）は、シャドウマスク（６）の透孔セン・ター（７）と
第２のシャドウマスクＱＧの透孔センタ′−ａυを結ぶ
透孔中心軸ＳａＷの方向に沿うように曲げられる。この
時の電子ビーム（５）の入射軌道軸に対する透孔中心軸
ｗａａｓとのなす角度の変化量＃は概略ΔＤ Ｅｂ θ″″＝ＫＸ丁×互 で表わされる。但しＫＨシャドウマスク（６） 、！：
＠ ２のシャドウマスクＱａとの間隔ｔＭとアノード
電圧ｇｂ及びサブフォーカス電圧Ｖｇ により定まる定
数、Ｄはタヤドウマスク（６）と第２のシャト°ウマス
ク（ＩＩの透孔径である。
る。第１図は本発明のカラー陰極線管の特にシャドウマ
スク近傍の基本的構成を示す概略図である。第１図にお
いて、カラー陰極線管のガラスフェースプレー） （１
）の内面には螢光向（２）が形成され、螢光面（２）は
各色に発光する螢光体（３）とその残余の面ｔ−ａう黒
色光吸収体層（４）とから構成される。この螢光面（２
）と複数の電子ビームを発射する電子銃（図示せず）と
の間にあって螢光面（２）に近接して電子ビーム（５）
を正しく対応する所定の螢光体（３）に照射するための
シャドウマスク（６）が配設される。さらにこのシャド
ウマスク（６）の電子銃側に近接して第２のシャドウマ
スク（ＩＱが配役され、之等の２つのシャドウマスク（
６）及び０（ＩＫは異なる電位が印加される。之等の２
つのシャドウマスクの対応する透孔センター（７）及び
０１）は、その螢光面に対して垂直な透孔軸（８）及び
（９）が異なる様に、即ち透孔センター（７）及び０１
）を結ぶ透孔中心軸線ａ２は螢光面に対して非垂直とな
るように構成され、さらにこの透孔中心軸線ａ３は電子
ビーム（５）の入射軌道軸に対して非平行となる様罠、
即ち傾きを有する様に構成される。以上のような配列構
成のクヤドウマδり７を有するカッ−陰極線管において
、アノード電圧Ｅｂ）サブフォーカス電圧Ｖｇとなるよ
うに電圧が印加されているので入射する電子ビーム（５
）は、シャドウマスク（６）の透孔セン・ター（７）と
第２のシャドウマスクＱＧの透孔センタ′−ａυを結ぶ
透孔中心軸ＳａＷの方向に沿うように曲げられる。この
時の電子ビーム（５）の入射軌道軸に対する透孔中心軸
ｗａａｓとのなす角度の変化量＃は概略ΔＤ Ｅｂ θ″″＝ＫＸ丁×互 で表わされる。但しＫＨシャドウマスク（６） 、！：
＠ ２のシャドウマスクＱａとの間隔ｔＭとアノード
電圧ｇｂ及びサブフォーカス電圧Ｖｇ により定まる定
数、Ｄはタヤドウマスク（６）と第２のシャト°ウマス
ク（ＩＩの透孔径である。
今、電子銃から発射された電子ビーム（５）によりシャ
ドウマスクの熱変形が生じたとすると、シャドウマスク
の熱変形により螢光面（２）の所定の螢光体（３１上に
位置していた電子ビームは＠１図において右側方向へ移
動し、且つ同時にシャト°ウマスク（６）と第２のシャ
ドウマスクａ・との間隔ｔＭｄｉ変イヒし定数に−の値
が大きくなる。定数にの値が大きくなると電子ビーム（
５）の入射軌道軸に対する透孔中心軸線αのとのなす偏
向角０が太きくな少、シャドウマスクの熱変形によって
電子ビーム（５１力（移動する量とほぼ同等量分の逆方
向の補正量を得ることができる。
ドウマスクの熱変形が生じたとすると、シャドウマスク
の熱変形により螢光面（２）の所定の螢光体（３１上に
位置していた電子ビームは＠１図において右側方向へ移
動し、且つ同時にシャト°ウマスク（６）と第２のシャ
ドウマスクａ・との間隔ｔＭｄｉ変イヒし定数に−の値
が大きくなる。定数にの値が大きくなると電子ビーム（
５）の入射軌道軸に対する透孔中心軸線αのとのなす偏
向角０が太きくな少、シャドウマスクの熱変形によって
電子ビーム（５１力（移動する量とほぼ同等量分の逆方
向の補正量を得ることができる。
第２図乃至第４図は本発明の実施例を示すもので、第１
図と共通の、要素は同一番号で示しである。
図と共通の、要素は同一番号で示しである。
即ち、第２図はシャドウマスクの孔形状が円形のンヤド
ウマスクに本発明を適用した場合であり、Ｍ３図は同じ
く矩形状のシャドウマスクに本発明を適用した場合であ
り、第４図は同じく画面の喬直線に沿って切れ目のない
金属線状を張ったいわゆるアパーチャーグリル形状の／
ヤドウマスクに本発明を適用した場合であり、何れの場
合もその基本的構成及び作用は第１図に示すものと−じ
である。また複数のシャドウマスクに第２図乃至第４図
に示す孔形状のシャドウマスクを組合せて用いても良い
ことＦｉ百５までもなり。
ウマスクに本発明を適用した場合であり、Ｍ３図は同じ
く矩形状のシャドウマスクに本発明を適用した場合であ
り、第４図は同じく画面の喬直線に沿って切れ目のない
金属線状を張ったいわゆるアパーチャーグリル形状の／
ヤドウマスクに本発明を適用した場合であり、何れの場
合もその基本的構成及び作用は第１図に示すものと−じ
である。また複数のシャドウマスクに第２図乃至第４図
に示す孔形状のシャドウマスクを組合せて用いても良い
ことＦｉ百５までもなり。
以上のように本発明によれに、シャドウマスクの熱変形
によっても正確な電子ビームのランディノグを有するカ
ラー陰極線管を得ることができる。
によっても正確な電子ビームのランディノグを有するカ
ラー陰極線管を得ることができる。
第１図は本発明のカラー陰極線管の特にシャドウマスク
近傍の基本的構成を示す部分概略構成図、第２図乃至第
４図は本発明の実施例を示す部分概略構成図である。 （１）・・・ガラスフェースプレート （２）・・・螢
ｆ、ｍ（３）・・・螢光体 （４）・・・光吸
収体層（５）・・・電子ビーム （６）、Ｑｌ・・
・シャドウマスク（７）、Ｑυ・・・透孔センター ＋
８１．（９）・・・透孔軸ａり・・・透孔中心軸線 （７３１７）代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名
）第２図 第 ４ 図 第３図
近傍の基本的構成を示す部分概略構成図、第２図乃至第
４図は本発明の実施例を示す部分概略構成図である。 （１）・・・ガラスフェースプレート （２）・・・螢
ｆ、ｍ（３）・・・螢光体 （４）・・・光吸
収体層（５）・・・電子ビーム （６）、Ｑｌ・・
・シャドウマスク（７）、Ｑυ・・・透孔センター ＋
８１．（９）・・・透孔軸ａり・・・透孔中心軸線 （７３１７）代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名
）第２図 第 ４ 図 第３図
Claims (1)
- 螢光面と電子銃の間に複数のシャドウマスクが配置＆さ
れ、之等のシャドウマスクに異なる電位を印加するカラ
ー陰極線管において、前記複数のシャドウマスクの周辺
部の対応する電子ビーム透過孔対の各々の中心を結ぶ透
孔中心軸が前記シャドウマスクの電子ビーム透過孔対に
入射する電子ビーム軌導軸に対して傾きを有することを
特徴とするカラー陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11526481A JPS5818845A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | カラ−陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11526481A JPS5818845A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | カラ−陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5818845A true JPS5818845A (ja) | 1983-02-03 |
Family
ID=14658361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11526481A Pending JPS5818845A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | カラ−陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5818845A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE34556E (en) * | 1985-01-23 | 1994-03-01 | Smith & Nephew Dyonics Inc. | Surgical system for powered instruments |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552698A (en) * | 1978-06-22 | 1980-01-10 | Parcor | Thienooor furopyridone derivative* its manufacture and therapeutic composition containing it |
-
1981
- 1981-07-24 JP JP11526481A patent/JPS5818845A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552698A (en) * | 1978-06-22 | 1980-01-10 | Parcor | Thienooor furopyridone derivative* its manufacture and therapeutic composition containing it |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE34556E (en) * | 1985-01-23 | 1994-03-01 | Smith & Nephew Dyonics Inc. | Surgical system for powered instruments |
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