JPS58181257A - カラ−受像管 - Google Patents
カラ−受像管Info
- Publication number
- JPS58181257A JPS58181257A JP6249182A JP6249182A JPS58181257A JP S58181257 A JPS58181257 A JP S58181257A JP 6249182 A JP6249182 A JP 6249182A JP 6249182 A JP6249182 A JP 6249182A JP S58181257 A JPS58181257 A JP S58181257A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- shadow mask
- bridge
- slit holes
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は／ヤドウマスク形カラー受像管に関し、特にシ
ャドウマスクの構造に関するもので有る。
ャドウマスクの構造に関するもので有る。
発明の技術的背景と問題点
通常の／ヤドウマスク形カラー受像管は第１図に示す如
くパネル（１）及びファンネル（２）全接合した外囲器
よりなシ、パネル内面には螢光体ストライプ（３）が被
着され、パネル内面側に近接対向してシャドウマスク（
４）が支持枠（５）ヲ介して係止されている。一方フア
ンネル（２）のネック部には電子銃（６）が配置され前
記電子銃（６）から射出された′電子ビーム（力は偏向
ヨーク（図示せず）により偏向されシャドウマスク（４
）のスリット孔を通り螢光体ストライプ（３）に達する
。
くパネル（１）及びファンネル（２）全接合した外囲器
よりなシ、パネル内面には螢光体ストライプ（３）が被
着され、パネル内面側に近接対向してシャドウマスク（
４）が支持枠（５）ヲ介して係止されている。一方フア
ンネル（２）のネック部には電子銃（６）が配置され前
記電子銃（６）から射出された′電子ビーム（力は偏向
ヨーク（図示せず）により偏向されシャドウマスク（４
）のスリット孔を通り螢光体ストライプ（３）に達する
。
衆知の如くシャドウマスクのスリット孔は垂直方向がブ
リッジ部により分割され、ブリッヂ部の側壁はほぼ垂直
な傾斜をなしている。
リッジ部により分割され、ブリッヂ部の側壁はほぼ垂直
な傾斜をなしている。
即ち第２図（ａｌ 、 （ｂ）及び（ｃｌに示す如くス
リット孔断面よりブリッヂ厚（Ｂｔ）ｒ、ｊ、シャドウ
マスク板の厚さくＴ）と同じで有シ、シャドウマスク有
効部の長辺部（８）及び対角部（９）の周辺において電
子ビーム（７）がブリッヂ部の表面端部００）、α１）
により遮蔽され、螢光体ストライプ（３）に達する電子
ビーム量は少くなる。これはカラー受像管画面周辺で輝
度を落す要固となる。又螢光体ストライプ（３）全形成
する場合に於いても画面周辺で螢光体ストライプにくび
れを生じ画面の品位を低下きせている。
リット孔断面よりブリッヂ厚（Ｂｔ）ｒ、ｊ、シャドウ
マスク板の厚さくＴ）と同じで有シ、シャドウマスク有
効部の長辺部（８）及び対角部（９）の周辺において電
子ビーム（７）がブリッヂ部の表面端部００）、α１）
により遮蔽され、螢光体ストライプ（３）に達する電子
ビーム量は少くなる。これはカラー受像管画面周辺で輝
度を落す要固となる。又螢光体ストライプ（３）全形成
する場合に於いても画面周辺で螢光体ストライプにくび
れを生じ画面の品位を低下きせている。
Ｌ記解決策としてブリッヂ厚をシャドウマスク板厚より
薄くする方法が考えられる。
薄くする方法が考えられる。
例えば実公昭５１−３７３３号公報に示す如く螢光体ス
トライプ側の隣接するスリット孔を連結する方法で有る
。
トライプ側の隣接するスリット孔を連結する方法で有る
。
しかし竿に螢光体ストライプ側の隣接するスリット孔を
連結した場合その実施例に示す如くンヤドウマスク板厚
０．１５ｍｍにおいてブリッヂ厚が０．０６ｎと非常に
小さくなる。これは、シャドウマスク製造時のネガ原版
が電子銃側の小スリット側はスリット形状、螢光面側の
大スリット側は単線ラインを使用する為で有る。
連結した場合その実施例に示す如くンヤドウマスク板厚
０．１５ｍｍにおいてブリッヂ厚が０．０６ｎと非常に
小さくなる。これは、シャドウマスク製造時のネガ原版
が電子銃側の小スリット側はスリット形状、螢光面側の
大スリット側は単線ラインを使用する為で有る。
通常シャドウマスクのエツチングは大スリット、小スリ
ット両側よりエツチングされる。エツチング流量（又は
圧力）は小スリット側を１．０とすると大スリット側は
１．２〜１．５としている。前述の大小スリットネガを
使用してエツチングすると大スリット幅、小スリット幅
は、所定のネガ原版により所望の寸法が得られるが、ブ
リッヂ部特に大ブリッヂ側はネガ原版が単線２インの為
大スリット側のエツチング流量に直接影響を受はブリッ
ヂ厚はエツチング流量によりほぼ決定され前述の如くシ
ャドウマスク板１１０．１５ｍｍに対しブリッヂ厚が０
．０６ｇｍとなる。
ット両側よりエツチングされる。エツチング流量（又は
圧力）は小スリット側を１．０とすると大スリット側は
１．２〜１．５としている。前述の大小スリットネガを
使用してエツチングすると大スリット幅、小スリット幅
は、所定のネガ原版により所望の寸法が得られるが、ブ
リッヂ部特に大ブリッヂ側はネガ原版が単線２インの為
大スリット側のエツチング流量に直接影響を受はブリッ
ヂ厚はエツチング流量によりほぼ決定され前述の如くシ
ャドウマスク板１１０．１５ｍｍに対しブリッヂ厚が０
．０６ｇｍとなる。
又犬スリット側が単線ラインの為、大側ブリッヂ方向の
エツチングがフリーとなシ、通常エツチング時に問題と
しているエツチング液の溜シによるエツチング速度のば
らつきが即ブリッヂ部へ影響し、ブリッヂ幅寸法のばら
つきを大きくする。
エツチングがフリーとなシ、通常エツチング時に問題と
しているエツチング液の溜シによるエツチング速度のば
らつきが即ブリッヂ部へ影響し、ブリッヂ幅寸法のばら
つきを大きくする。
Ｌ記シャドウマスクをプレス成形すると、ブリッヂ幅寸
法のばらつきによりスリット孔の伸びが不均一となシ、
成形後のマスクむら品位を低下させる。
法のばらつきによりスリット孔の伸びが不均一となシ、
成形後のマスクむら品位を低下させる。
又スリット孔伸びの最大となるマスク周辺部は従来マス
クよシ更にスリット孔が拡がシ、所望のスリット寸法を
得ることが難しくなる。
クよシ更にスリット孔が拡がシ、所望のスリット寸法を
得ることが難しくなる。
以りにより螢光体ストライプは周辺で所望寸法よシ大き
くなシ、又マスクむら品位の低下によシ画面品位を非常
に見苦しいものとする。
くなシ、又マスクむら品位の低下によシ画面品位を非常
に見苦しいものとする。
発明の目的
本発明は以との点ＶＣ鑑みてなされたもので、マスク成
形後のむら品位の低下を防し、且つ画面周辺の輝度向と
を目的とする。
形後のむら品位の低下を防し、且つ画面周辺の輝度向と
を目的とする。
発明の概要
本発明は螢光体スクリーン側の大スリット孔は垂直方向
がブリッヂ部により分割され、更にブリッヂ部は連結溝
により連結され、連結溝の両端に凸部を有するように構
成することによって、ブリッヂ厚及びブリッヂ幅を任意
に制御するものである。
がブリッヂ部により分割され、更にブリッヂ部は連結溝
により連結され、連結溝の両端に凸部を有するように構
成することによって、ブリッヂ厚及びブリッヂ幅を任意
に制御するものである。
発明の実施例
第３図に本発明のカラー受像管に適用されるシャドウマ
スクのスリット孔構造を示す。歯、本発明のカラー受像
管はシャドウマスク以外は第１図に示すものと同様であ
るので省略しここでは繰り返して説明しない。第３図に
示すように螢光体ストライプ側の隣接するスリット孔を
連結溝αつにより連結し連結溝の両端に四部０３）を形
成する。前記四部はブリッヂ厚（Ｂｔ）とほぼ同じ位置
となっている。ブリッヂ厚寸法は前記凹部の凹み量によ
りコントロールする。
スクのスリット孔構造を示す。歯、本発明のカラー受像
管はシャドウマスク以外は第１図に示すものと同様であ
るので省略しここでは繰り返して説明しない。第３図に
示すように螢光体ストライプ側の隣接するスリット孔を
連結溝αつにより連結し連結溝の両端に四部０３）を形
成する。前記四部はブリッヂ厚（Ｂｔ）とほぼ同じ位置
となっている。ブリッヂ厚寸法は前記凹部の凹み量によ
りコントロールする。
以下本発明のマスクスリット孔の具体例につき説明する
。
。
第４図（ａ）及び（ｂ）に示す螢光面側大スリットネガ
α荀と゛藏子銃側小スリットネガα最を一対のネガ原版
とし、例えば板厚０．１８ｙ＋ｍの金属板に感光膜を塗
布し前記一対のネガ原版を露光し次いで現像、乾燥、バ
ーニング処理し最終的に大小ネガを同時にエツチング液
でエツチングすることにより得られる。
α荀と゛藏子銃側小スリットネガα最を一対のネガ原版
とし、例えば板厚０．１８ｙ＋ｍの金属板に感光膜を塗
布し前記一対のネガ原版を露光し次いで現像、乾燥、バ
ーニング処理し最終的に大小ネガを同時にエツチング液
でエツチングすることにより得られる。
大スリットネガα荀及び小スリットネガａ５１の寸法は
サイドエッチ量（サイドエッチ量＝マスク寸法−ネガ寸
法）によシ決まシ、例えば板厚０．１８ｍｇの金属板の
サイドエッチ量は大ブリッヂ＝ ０．１１０闘、大スリ
ット” ０．１１７１１１１１１．小ブリッヂ−０，０
７３ｉｉ及び小スリット： ０．０９０ ｘｍとなる。
サイドエッチ量（サイドエッチ量＝マスク寸法−ネガ寸
法）によシ決まシ、例えば板厚０．１８ｍｇの金属板の
サイドエッチ量は大ブリッヂ＝ ０．１１０闘、大スリ
ット” ０．１１７１１１１１１．小ブリッヂ−０，０
７３ｉｉ及び小スリット： ０．０９０ ｘｍとなる。
小スリットネガα句及び大スリットネガの大スリット幅
（１６）は所望のマスク寸法−サイドエッチ量で決まる
。
（１６）は所望のマスク寸法−サイドエッチ量で決まる
。
大スリットネガの大ブリッヂ幅αηはブリッヂ厚を決め
る要因で所望のブリッヂ厚及びサイドエッチ量で決まる
。例えば大スリットネガの大ブリツヂ幅αη寸法を０．
０９龍とすると０．０９−０．１１０ ＝−０，０２と
成り板厚よシ薄くなることがわかる。
る要因で所望のブリッヂ厚及びサイドエッチ量で決まる
。例えば大スリットネガの大ブリツヂ幅αη寸法を０．
０９龍とすると０．０９−０．１１０ ＝−０，０２と
成り板厚よシ薄くなることがわかる。
大スリットブリッヂ部のエツチングの進行状態は第５図
（ａ）に示す如くエツチング前は感光膜α印と鉄板α優
は密着している。エツチングが進行すると第５図の）に
示す如く破線部内が連結しエツチングされる。エツチン
グ終了時は第３図に示す如く、連結溝ａつ両端に凹部０
３）を生じる。
（ａ）に示す如くエツチング前は感光膜α印と鉄板α優
は密着している。エツチングが進行すると第５図の）に
示す如く破線部内が連結しエツチングされる。エツチン
グ終了時は第３図に示す如く、連結溝ａつ両端に凹部０
３）を生じる。
前述の如く大スリットネガの大ブリッヂ幅αηの寸法を
小さくすると連結溝の連結速度が早まりブリッヂ厚は小
さくなる。又大スリットネガの大ブリッヂ幅０７）の寸
法を大きくすると連結溝の連結は遅くなりブリッヂ厚は
大きくなる。
小さくすると連結溝の連結速度が早まりブリッヂ厚は小
さくなる。又大スリットネガの大ブリッヂ幅０７）の寸
法を大きくすると連結溝の連結は遅くなりブリッヂ厚は
大きくなる。
以上の如く、大スリットネガの大ブリッヂ幅面によりブ
リッヂ厚を制御し所望のブリッヂ厚が得られる。又ブリ
ッヂ幅に対してもエツチング初めは感光膜によりエツチ
ング速度が規定される為、エツチング液の溜シの影響が
少なく、ばらつきの少ないブリッヂ幅が得られる。′□ 発明の効果 以上の如く螢光体ストライプ側の隣接するスリット孔を
連結溝によシ連結し連結溝の両端に凹部を用ける事によ
シ所望のブーリッヂ厚及びブリッヂ幅のばらつき減小し
たシャドウマスクが得られた。
リッヂ厚を制御し所望のブリッヂ厚が得られる。又ブリ
ッヂ幅に対してもエツチング初めは感光膜によりエツチ
ング速度が規定される為、エツチング液の溜シの影響が
少なく、ばらつきの少ないブリッヂ幅が得られる。′□ 発明の効果 以上の如く螢光体ストライプ側の隣接するスリット孔を
連結溝によシ連結し連結溝の両端に凹部を用ける事によ
シ所望のブーリッヂ厚及びブリッヂ幅のばらつき減小し
たシャドウマスクが得られた。
本発明によシブレス成形後のむら品位の低下、マスク周
辺部のスリット孔伸びを防止することが出来、かつカラ
ー受像管の画面周辺の輝度低下の防止、螢光体ストライ
プのくびれ防止が出来た。
辺部のスリット孔伸びを防止することが出来、かつカラ
ー受像管の画面周辺の輝度低下の防止、螢光体ストライ
プのくびれ防止が出来た。
第１図は通常のシャドウマスク形カラー受像管の構成を
示す概略断面図、第２図（闇及びら）は夫々通常のスリ
ット孔を示す部分概略平面図及び断面図、第２図（Ｃ）
はシャドウマスクの有効部を示す概略平面図、第３図は
本発明に適用されるシャドウマスクスリット孔構造を示
す概略斜視図、第４図（ａｌ及び（ｂＪは第３図のスリ
ット孔を得るためのネガ原版の小スリットネガ及び大ス
リットネガを示す概略図、第５図（ａ）及びら）は第３
図のスリット孔の製造工程を説明するための概略斜視図
である。 （１）パネル α渇 連結溝 （２）ファンネル ０３）四部 （３）螢光体ストライプ ａａ 大スリットネガ（４
） ンヤドウマスク ０！５１ 小スリットネガ
（５）支持枠 ａＯ大スリット幅（６）
電子銃 ａＤ 大ブリッヂ幅（力 重子ビ
ーム 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（はが１名）第 １
図 第２図 （０−） （１，）
示す概略断面図、第２図（闇及びら）は夫々通常のスリ
ット孔を示す部分概略平面図及び断面図、第２図（Ｃ）
はシャドウマスクの有効部を示す概略平面図、第３図は
本発明に適用されるシャドウマスクスリット孔構造を示
す概略斜視図、第４図（ａｌ及び（ｂＪは第３図のスリ
ット孔を得るためのネガ原版の小スリットネガ及び大ス
リットネガを示す概略図、第５図（ａ）及びら）は第３
図のスリット孔の製造工程を説明するための概略斜視図
である。 （１）パネル α渇 連結溝 （２）ファンネル ０３）四部 （３）螢光体ストライプ ａａ 大スリットネガ（４
） ンヤドウマスク ０！５１ 小スリットネガ
（５）支持枠 ａＯ大スリット幅（６）
電子銃 ａＤ 大ブリッヂ幅（力 重子ビ
ーム 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（はが１名）第 １
図 第２図 （０−） （１，）
Claims (1)
- 少なくとも螢光体スクリーンと電子銃とこれらの間に配
設されてなる多数のスリット孔を有するシャドウマスク
形カラー受像管に於いて、前記シャドウマスクの螢光本
スクリーン側のスリット孔は垂直方向がブリッヂ部によ
り分割され、前記ブリッヂ部は連結溝によシ連結され、
前記連結溝の両端に凸部を有することを特徴とするシャ
ドウマスク形カラー受像管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6249182A JPS58181257A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | カラ−受像管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6249182A JPS58181257A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | カラ−受像管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58181257A true JPS58181257A (ja) | 1983-10-22 |
Family
ID=13201689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6249182A Pending JPS58181257A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | カラ−受像管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58181257A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534906B1 (en) | 1998-08-24 | 2003-03-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color cathode ray tube with tensioned shadow mask |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5765650A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Shadow mask |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP6249182A patent/JPS58181257A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5765650A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Shadow mask |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534906B1 (en) | 1998-08-24 | 2003-03-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color cathode ray tube with tensioned shadow mask |
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