JPS58180467A - ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 - Google Patents
ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法Info
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- JPS58180467A JPS58180467A JP6419982A JP6419982A JPS58180467A JP S58180467 A JPS58180467 A JP S58180467A JP 6419982 A JP6419982 A JP 6419982A JP 6419982 A JP6419982 A JP 6419982A JP S58180467 A JPS58180467 A JP S58180467A
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- Japan
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- butyl
- methylphenol
- hydroxy
- compound
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Carbonaceous Fuels (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(I)
(式中、損はメチル基またはエチル基を、Rgは炭素数
2〜Bのアルキル基を、R8は炭素数10〜20のアル
キル基を示す) (2) で示されるビスフェノール誘導体およびその製造法に関
する。
2〜Bのアルキル基を、R8は炭素数10〜20のアル
キル基を示す) (2) で示されるビスフェノール誘導体およびその製造法に関
する。
従来よりポリオレフィン、AB8樹脂、ポリスチレン、
ハイインパクトポリスチレン、アクリロニトリル−スチ
レン共重合物、ポリアミド、ポリアセタールおよびエチ
レン−プロピレン共重合物などの合成樹脂、天然ゴムお
よびポリブタジェンゴム、イソプレンゴム、イソプレン
−イソブチレン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重
合ゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、エ
チレン−プロピレン共重合ゴムなどの合成ゴム、潤滑油
、燃料油などの石油製品、油脂およびグリースなどの各
種の有機物質は熱、光および酸素などにより劣化を受は
易く、かかる劣化を抑制するtコめに、各種の劣化防止
剤、たとえばn−オクタデシル(8,5−ジーも一ブチ
ルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,1
.8−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−
ブチルフェニル)ブタン等のフェノール系酸化防止剤お
よびジラウリル8.8′−チオジプロピオネート等のイ
オウ系酸化防止剤を配合することも周知である。しかし
、これらは回れも高温度で長時間有機物質中に保持され
た場合に効果の持続性に乏しいという欠点があった。
ハイインパクトポリスチレン、アクリロニトリル−スチ
レン共重合物、ポリアミド、ポリアセタールおよびエチ
レン−プロピレン共重合物などの合成樹脂、天然ゴムお
よびポリブタジェンゴム、イソプレンゴム、イソプレン
−イソブチレン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重
合ゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、エ
チレン−プロピレン共重合ゴムなどの合成ゴム、潤滑油
、燃料油などの石油製品、油脂およびグリースなどの各
種の有機物質は熱、光および酸素などにより劣化を受は
易く、かかる劣化を抑制するtコめに、各種の劣化防止
剤、たとえばn−オクタデシル(8,5−ジーも一ブチ
ルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,1
.8−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−
ブチルフェニル)ブタン等のフェノール系酸化防止剤お
よびジラウリル8.8′−チオジプロピオネート等のイ
オウ系酸化防止剤を配合することも周知である。しかし
、これらは回れも高温度で長時間有機物質中に保持され
た場合に効果の持続性に乏しいという欠点があった。
本発明はこのような欠点を改良し、有機物質の劣化防止
に優れた性能を有する化合物の開発を目的とした研究の
結果完成されたものであって、本発明の一般式(1)で
示されるビスフェノール誘導体は文献未記載の新規化合
物であり、有機物質用劣化防出剤として極めて優れた効
果を有する。
に優れた性能を有する化合物の開発を目的とした研究の
結果完成されたものであって、本発明の一般式(1)で
示されるビスフェノール誘導体は文献未記載の新規化合
物であり、有機物質用劣化防出剤として極めて優れた効
果を有する。
一般式(I)で示されるビスフェノール誘導体は、一般
式(n) (式中、R1および勘は前記と同じ意味を有する) で示されろビスフェノールモノアクリレート化合物と炭
素数10〜20のアルカンチオールをえハ2 、2’−
ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、2.2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−エチルフェノール)、2.2”−プロピリデンビス(
6−も−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−
プロピリデンビス(6−t−ブチル−4−エチルフェノ
ール)、2.2’−イソブチリデンビス(6−も−ブチ
ル−4−メチルフェノール)および2.2′−イソブチ
リデンビス(6−t−ブチル−4−エチルフェノール)
等のビスフェノール類と塩化アクリロイルを、不活性溶
媒中で脱塩化水素剤の存在下に反応させることによって
製造することができる。
式(n) (式中、R1および勘は前記と同じ意味を有する) で示されろビスフェノールモノアクリレート化合物と炭
素数10〜20のアルカンチオールをえハ2 、2’−
ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、2.2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−エチルフェノール)、2.2”−プロピリデンビス(
6−も−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−
プロピリデンビス(6−t−ブチル−4−エチルフェノ
ール)、2.2’−イソブチリデンビス(6−も−ブチ
ル−4−メチルフェノール)および2.2′−イソブチ
リデンビス(6−t−ブチル−4−エチルフェノール)
等のビスフェノール類と塩化アクリロイルを、不活性溶
媒中で脱塩化水素剤の存在下に反応させることによって
製造することができる。
ビスフェノールモノアクリレート化合物の製造法におい
て、不活性溶媒としてはn−ヘキサン、n−へブタン等
の脂肪族炭化水素、ベンザ(5) ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン等の脂m 式次化水素、ジクロ
ロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素および
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類
が例示される。
て、不活性溶媒としてはn−ヘキサン、n−へブタン等
の脂肪族炭化水素、ベンザ(5) ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン等の脂m 式次化水素、ジクロ
ロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素および
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類
が例示される。
また、脱塩化水素剤としては、トリエチルアミン等の第
三アミン類、ピリジン類またはN、N−ジアルキルアニ
リン等が用いられ、その使用量はビスフェノール類1モ
ルに対して0,9〜1.8モルの範囲である。反応温度
は一5〜60℃の範囲であり、また、ビスフェノール類
と塩化アクリロイルの反応モル比は1対0.9〜1.8
の範囲である。
三アミン類、ピリジン類またはN、N−ジアルキルアニ
リン等が用いられ、その使用量はビスフェノール類1モ
ルに対して0,9〜1.8モルの範囲である。反応温度
は一5〜60℃の範囲であり、また、ビスフェノール類
と塩化アクリロイルの反応モル比は1対0.9〜1.8
の範囲である。
また、炭素数lO〜20のアルカンチオールとしてはド
デカンチオール、n−ヘキサデカンチオールおよびn−
オクタデカンチオールなどが例示される。
デカンチオール、n−ヘキサデカンチオールおよびn−
オクタデカンチオールなどが例示される。
本発明においてビスフェノールモノアクリレート化合物
とアルカンチオールとの反応は通常溶媒中で行われ、か
かる溶媒としてはメタノ−(6) ル、エタノールおよびも一ブタノール等のアルコール類
、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化
水素が用いられるが、好ましであり、かかる触媒とし−
Cは炭素数1〜4の低級アルコールのアルカリ金属アル
コキシド(たとえばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドおよびカリウムt−ブトキシド)、トリエチ
ルアミンなどの第三アミン類、水酸化ヘンシルトリメチ
ルアンモニウムなどが通常用いられ、特に好ましいのは
すトリウムメトキシドである。
とアルカンチオールとの反応は通常溶媒中で行われ、か
かる溶媒としてはメタノ−(6) ル、エタノールおよびも一ブタノール等のアルコール類
、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化
水素が用いられるが、好ましであり、かかる触媒とし−
Cは炭素数1〜4の低級アルコールのアルカリ金属アル
コキシド(たとえばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドおよびカリウムt−ブトキシド)、トリエチ
ルアミンなどの第三アミン類、水酸化ヘンシルトリメチ
ルアンモニウムなどが通常用いられ、特に好ましいのは
すトリウムメトキシドである。
これらの塩基性触媒を使用する場合、その使用麓は通常
ビスフェノールモノアクリレート化合物に対して0.5
〜5重鳳%である。
ビスフェノールモノアクリレート化合物に対して0.5
〜5重鳳%である。
反応温度は通常lO℃から使用した溶媒の還流温度の範
囲であるが、多くの場合に還流温度で行われる。
囲であるが、多くの場合に還流温度で行われる。
両反応原料の反応モル比は、一般的にはアルカンチオー
ルに対してビスフェノールモノアクリレート化合物が1
〜1.1モル倍である。
ルに対してビスフェノールモノアクリレート化合物が1
〜1.1モル倍である。
反応終了後は、使用した触媒を酸類で中和した後、中性
になるまで水洗、分散し、有機層のクロロ中ルムを留去
I7、生成物を取り出し、その精製には、再結晶法、溶
媒洗浄法、場合によってはカラムクロマト法が用いられ
る。
になるまで水洗、分散し、有機層のクロロ中ルムを留去
I7、生成物を取り出し、その精製には、再結晶法、溶
媒洗浄法、場合によってはカラムクロマト法が用いられ
る。
かくして製造されろ一般式(I)で示されるビスフェノ
ール誘導体として具体的には、6−t−ブチル−2−[
:1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)ブチル〕−4−メチルフェノール〆4−チア
ヘキサデカノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8
−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル)
ブチル]−4−エチルフェノール 4−チアヘキサデカ
ノエート、6−t−ブチル−2−〔1−(8−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブチル〕−
4−メチルフェノール 4−チアエイコサノエート、6
−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒド
ロキシ−5−エチルフェニル)ブチル〕−4−エチルフ
ェノール 4−チアエイコづフェート、6−t−ブチル
−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)フチル]−4−メチルフェノール 4
−チアドコサノエート、6−t−ブチル−2−[1−(
8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル
)フチル]−4−エチルフェノール 4−チアエイコサ
ノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピル]
−4−メチルフェノール 4−チアヘキサデカノエート
、6〜t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−
ヒドロキシ−5−エチルフェニル)プロピル〕−4−エ
チルフェノール 4−チアヘキサデカノエート、6−t
−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)プロピル〕−4−メチルフェ
ノール 4−チアエイコサノエ−1・、6−も−ブチル
−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−(9
) 5−エチルフェニル)プロピル〕−4−エチルフェノー
ル 4−チアエイコサノエー)、6−t−ブチル−2−
[1−(8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)プロピル〕−4−メチルフェノール 4−チ
アドコサノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8−
t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル)プ
ロピル〕−4−エチルフェノール 4−チアドコサノエ
ート、6−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)イソブチル〕−
4−メチルフェノール 4−チアヘキサデカノエート、
6−を−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)イソブチル]−4−メ
チルフェノール 4−チアエイコサノエートおよび6−
t−ブチル−2−[1−(8−も−ブチル−2−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)イソブチル〕−4−メチル
フェノール4−チアドコサノエートなどが例示される。
ール誘導体として具体的には、6−t−ブチル−2−[
:1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)ブチル〕−4−メチルフェノール〆4−チア
ヘキサデカノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8
−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル)
ブチル]−4−エチルフェノール 4−チアヘキサデカ
ノエート、6−t−ブチル−2−〔1−(8−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブチル〕−
4−メチルフェノール 4−チアエイコサノエート、6
−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒド
ロキシ−5−エチルフェニル)ブチル〕−4−エチルフ
ェノール 4−チアエイコづフェート、6−t−ブチル
−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)フチル]−4−メチルフェノール 4
−チアドコサノエート、6−t−ブチル−2−[1−(
8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル
)フチル]−4−エチルフェノール 4−チアエイコサ
ノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピル]
−4−メチルフェノール 4−チアヘキサデカノエート
、6〜t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−
ヒドロキシ−5−エチルフェニル)プロピル〕−4−エ
チルフェノール 4−チアヘキサデカノエート、6−t
−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)プロピル〕−4−メチルフェ
ノール 4−チアエイコサノエ−1・、6−も−ブチル
−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−(9
) 5−エチルフェニル)プロピル〕−4−エチルフェノー
ル 4−チアエイコサノエー)、6−t−ブチル−2−
[1−(8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)プロピル〕−4−メチルフェノール 4−チ
アドコサノエート、6−t−ブチル−2−[1−(8−
t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフェニル)プ
ロピル〕−4−エチルフェノール 4−チアドコサノエ
ート、6−t−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)イソブチル〕−
4−メチルフェノール 4−チアヘキサデカノエート、
6−を−ブチル−2−[1−(8−t−ブチル−2−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)イソブチル]−4−メ
チルフェノール 4−チアエイコサノエートおよび6−
t−ブチル−2−[1−(8−も−ブチル−2−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)イソブチル〕−4−メチル
フェノール4−チアドコサノエートなどが例示される。
かくして得られる本発明の一般式(I)で示され(10
) るビスフェノール聰導体は、有機物質用劣化防止剤とし
て有用であるが、天然ならびに合成ポリマーの熱的およ
び酸化的劣化の防止に特に有用である。
) るビスフェノール聰導体は、有機物質用劣化防止剤とし
て有用であるが、天然ならびに合成ポリマーの熱的およ
び酸化的劣化の防止に特に有用である。
一般式(I)で示されるビスフェノールII導体は、そ
れ単独の使用でも有機物質の安定化に有効であるが、そ
の他の添加剤、たとえば酸化防止剤、含イオウ化合物、
含リン化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、可塑剤、金属
石鹸類、顔料、染料、充填剤、および腐蝕防止剤、防錆
剤、流動点降下剤、消泡剤、清浄分散剤、極圧剤などの
ような油剤添加剤および金属キレート剤などをそれぞれ
の目的に応じて併用してもよい。
れ単独の使用でも有機物質の安定化に有効であるが、そ
の他の添加剤、たとえば酸化防止剤、含イオウ化合物、
含リン化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、可塑剤、金属
石鹸類、顔料、染料、充填剤、および腐蝕防止剤、防錆
剤、流動点降下剤、消泡剤、清浄分散剤、極圧剤などの
ような油剤添加剤および金属キレート剤などをそれぞれ
の目的に応じて併用してもよい。
以下、本発明を実施例により説明する。
原料製造例1ど
温度計、攪拌装置、滴下漏斗をそなえた800d四日フ
ラスコに2.2′−ブチリデンビス(6−t−’/チル
ー4−メチルフェノール)86.05g(0,094モ
ル)、トリエチルアミン11.68f(0,119モル
)およびトルエン100gを仕込み、容器内の空気を窒
素置換した後、8〜12℃に冷却し、滴下漏斗から塩化
アクリロイル10.401 (0,119モル)を2時
間かけて滴下する。滴下終了後、希塩酸で酸性にし、中
性になるまで水洗、分液したのち、トルエン層から溶媒
を減圧留去すると、無色粘稠油状物として、88.17
1/(収率98%)の2,2′−ブチリデンビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)が得られた。
ラスコに2.2′−ブチリデンビス(6−t−’/チル
ー4−メチルフェノール)86.05g(0,094モ
ル)、トリエチルアミン11.68f(0,119モル
)およびトルエン100gを仕込み、容器内の空気を窒
素置換した後、8〜12℃に冷却し、滴下漏斗から塩化
アクリロイル10.401 (0,119モル)を2時
間かけて滴下する。滴下終了後、希塩酸で酸性にし、中
性になるまで水洗、分液したのち、トルエン層から溶媒
を減圧留去すると、無色粘稠油状物として、88.17
1/(収率98%)の2,2′−ブチリデンビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)が得られた。
元素分析 OgeH4oOa ()内針算値01
79.57%(79,77%) Hj9.2B%(9,85%) マススペクトル(FD−MS) 486に親イオンのピークを確認した。
79.57%(79,77%) Hj9.2B%(9,85%) マススペクトル(FD−MS) 486に親イオンのピークを確認した。
赤外線吸収スペクトル(直接法)
(単位 cnl)
8440(ν。−8)、178B(ν。−8)、168
0(ν。−6)990(6面外)、 850(δ面外
c −Haro+n C−1() 舊目ヰ GPC(島津H8G−15、’l’HF、 1mj/分
)27、06分 純度99% なお、2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブチル−
4−メチルフェノール)と塩化アクリロイルを上記原料
製造例1に示したと全く同様な方法により、2,2−プ
ロピリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)モノアクリレートを製造することができる。
0(ν。−6)990(6面外)、 850(δ面外
c −Haro+n C−1() 舊目ヰ GPC(島津H8G−15、’l’HF、 1mj/分
)27、06分 純度99% なお、2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブチル−
4−メチルフェノール)と塩化アクリロイルを上記原料
製造例1に示したと全く同様な方法により、2,2−プ
ロピリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)モノアクリレートを製造することができる。
実施例1
温度計、攪拌装置、冷却管をそなえた10〇−四ロフラ
スコに、 2 、2’−ブチリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)モノアクリレ−)8.78
g(0,020モル)、オクタデカンチオール5.78
g(0,020モル)およびクロロホルム50Iiを仕
込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量%ナト
リウムメトキシドメタノールmMo、xy(0,000
5モル)を仕込み、昇温し、60(18) 〜62℃で4時間保温する。その後、25℃まで冷却し
、希塩酸で触媒を中和し、クロロホルム層を水洗、分液
したのち、有機層からクロロホルムを減圧留去すること
によって淡黄色油状の6−t−ブチル−2−(1−(8
−も−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ブチル〕−4−メチルフェノール4−チアドコサノエー
ト18.8f(収率96%、高滓GPO用カラムH8G
−15、T)fFl−7分で24.08分にピークを
与え、純度97%)を得た。仁れを化合物(1)−1と
するGPC(島津H8G−15、THF、1−7分)2
4.08分 純度97% 元素分析 0nfIyaOs8 ()内針算値0
+ 77.98%(78,06%)H+IO,98%(
10,87%) 8+4.40%(4,48%) マススペクトル(F’D−MS) 722に親イオンピークを確認した。
スコに、 2 、2’−ブチリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)モノアクリレ−)8.78
g(0,020モル)、オクタデカンチオール5.78
g(0,020モル)およびクロロホルム50Iiを仕
込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量%ナト
リウムメトキシドメタノールmMo、xy(0,000
5モル)を仕込み、昇温し、60(18) 〜62℃で4時間保温する。その後、25℃まで冷却し
、希塩酸で触媒を中和し、クロロホルム層を水洗、分液
したのち、有機層からクロロホルムを減圧留去すること
によって淡黄色油状の6−t−ブチル−2−(1−(8
−も−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ブチル〕−4−メチルフェノール4−チアドコサノエー
ト18.8f(収率96%、高滓GPO用カラムH8G
−15、T)fFl−7分で24.08分にピークを
与え、純度97%)を得た。仁れを化合物(1)−1と
するGPC(島津H8G−15、THF、1−7分)2
4.08分 純度97% 元素分析 0nfIyaOs8 ()内針算値0
+ 77.98%(78,06%)H+IO,98%(
10,87%) 8+4.40%(4,48%) マススペクトル(F’D−MS) 722に親イオンピークを確認した。
(14)
赤外線吸収スペクトル(直接法)
(単位 t’m ’ )
8520(ν)、1740(ν。=o)、16oo(ν
。−6)−H 1185(ν )、 860(δ面外C−4aro
rn、C−(()、720(シ、−8)実施例2 2.2’−−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−エ
チルフェノール)モノアクリレートおよびオクタデカン
チオールを用いる以外は実施例1と同様な条件で反応さ
せることにより、淡黄色油状の6−t−ブチル−2−〔
1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフ
ェニル)フチル〕−4−メチルフェノール 4−チアド
コサノエート、14.42g(収率96%)が得られた
。これを(I) −2とする。
。−6)−H 1185(ν )、 860(δ面外C−4aro
rn、C−(()、720(シ、−8)実施例2 2.2’−−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−エ
チルフェノール)モノアクリレートおよびオクタデカン
チオールを用いる以外は実施例1と同様な条件で反応さ
せることにより、淡黄色油状の6−t−ブチル−2−〔
1−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−エチルフ
ェニル)フチル〕−4−メチルフェノール 4−チアド
コサノエート、14.42g(収率96%)が得られた
。これを(I) −2とする。
GPo 28.98分 純度98に
元素分析 0t9Ha2088 ()内針算値C!
i78.80蟹(78,84%) Hill、05%(11,00%) S;4.82%(4,27%) マススペクトル(FD−MS) 750に親イオンビークを確認した。
i78.80蟹(78,84%) Hill、05%(11,00%) S;4.82%(4,27%) マススペクトル(FD−MS) 750に親イオンビークを確認した。
赤外線吸収スペクトル(直接法)
(単位 備−L)
8510(ν )、1785(νC−() )、160
0(。=。)−H 118B(シC−0)、860(δ農(u C−H)、
720(シC−8)実施例8 2−2/−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレートとドデカンチオールを
用いる以外は実施例1と同様な条件で反応させることに
より、淡黄色粘稠油状物として、6−t−ブチル−2−
El−(8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)ブチル〕−4−メチルフェノール 4−チア
ヘキサデカノエート12.14y(収率95%)が得ら
れtこ。これを化合物(I) −8とする。
0(。=。)−H 118B(シC−0)、860(δ農(u C−H)、
720(シC−8)実施例8 2−2/−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレートとドデカンチオールを
用いる以外は実施例1と同様な条件で反応させることに
より、淡黄色粘稠油状物として、6−t−ブチル−2−
El−(8−1−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)ブチル〕−4−メチルフェノール 4−チア
ヘキサデカノエート12.14y(収率95%)が得ら
れtこ。これを化合物(I) −8とする。
QPO24,25分(純度95%)
元素分析 0+tMaeOa8 ()内針算値0 +
77.18% (77,06>H;10.80%
(10,41) 8+5.08% (5,02) マススペクトル(FD−MS) 638に親イオンビークを確認した。
77.18% (77,06>H;10.80%
(10,41) 8+5.08% (5,02) マススペクトル(FD−MS) 638に親イオンビークを確認した。
赤外線吸収スペクトル(直接法)
(単位 t−m−1)
8520 (シ0−11)、1788 (ν。−6)、
1594 (ν。−6)1185(νC−6)、860
’lI’F(! C−H)、720(ν。−8)実施例
4 2.2′−プロピリチンビス(6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール)モノアクリレートとオクタデカンチオ
ールを用いる以外は実施例1と同様な条件で反応させる
ことにより、淡黄色油状物として、6−t−ブチル−2
−[l−8−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピル1−4−メチルフェノール
4−チアドコサノエート13.19f(収率93%)を
得た。
1594 (ν。−6)1185(νC−6)、860
’lI’F(! C−H)、720(ν。−8)実施例
4 2.2′−プロピリチンビス(6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール)モノアクリレートとオクタデカンチオ
ールを用いる以外は実施例1と同様な条件で反応させる
ことにより、淡黄色油状物として、6−t−ブチル−2
−[l−8−(8−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピル1−4−メチルフェノール
4−チアドコサノエート13.19f(収率93%)を
得た。
GPO24,18分 純ff 959c元素分析 04
aH7aOa8 ()内針算値(17) C+ 77.80% (77,91%)H+10.
85% (10,80%)8+4.50% (4,
52%) マススペクトル(FD−MS) 708に親イオンビークを確認 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位 ロー1) 8520 (シ0−H)、1785 (νC=0 )、
1595 (ν。4)面外 1140 (ν。→)、 860(δarOm C−H
)、722(ν。−8)参考例1 下記化合物を【キサ−で5分間混練した後シリンダー温
[280〜240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転
数20 rpnoの押出機によって溶融混練して造粒し
た。こうして得られたペレットを210℃の熱プレスで
厚さ1+mのシートに成形し、40 X 40 X 1
mの試験片を作成した。
aH7aOa8 ()内針算値(17) C+ 77.80% (77,91%)H+10.
85% (10,80%)8+4.50% (4,
52%) マススペクトル(FD−MS) 708に親イオンビークを確認 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位 ロー1) 8520 (シ0−H)、1785 (νC=0 )、
1595 (ν。4)面外 1140 (ν。→)、 860(δarOm C−H
)、722(ν。−8)参考例1 下記化合物を【キサ−で5分間混練した後シリンダー温
[280〜240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転
数20 rpnoの押出機によって溶融混練して造粒し
た。こうして得られたペレットを210℃の熱プレスで
厚さ1+mのシートに成形し、40 X 40 X 1
mの試験片を作成した。
160℃のギヤーオーブン中で試験片面積の80%が脆
化するまでの時間を測定し、熱および酸化安定性を評価
した。
化するまでの時間を測定し、熱および酸化安定性を評価
した。
(18)
その結果を表−1に示す。
く配合〉
未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部ステアリ
ン酸カルシウム 0.1供試化合物
変量なお、表−1において供試化合物の記
号は以下の化合物を示すものである。
ン酸カルシウム 0.1供試化合物
変量なお、表−1において供試化合物の記
号は以下の化合物を示すものである。
AO−In−オクタデシル(8,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシ フェニル)プロピオネート AO−21,1,8−)リス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−t− ブチルフェニル)ブタン AO−1ジラウリル 8,8′−チオジプロピオネート 添加Jil(PHR)と80%脆化時間市)(20完)
4−ヒドロキシ フェニル)プロピオネート AO−21,1,8−)リス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−t− ブチルフェニル)ブタン AO−1ジラウリル 8,8′−チオジプロピオネート 添加Jil(PHR)と80%脆化時間市)(20完)
Claims (2)
- (1)一般式 (式中、R1はメチル基またはエチル基を、R2は炭素
数2〜Bのアルキル基を、指は炭素数10〜20のアル
キル基を示す) で示されるビスフェノール誘導体 - (2)一般式 (式中、R1はメチル基またはエチル基を、R8は炭素
数2〜Bのアルキル基を示す)(1) で示されるビスフェノールモノアクリレート化合物と炭
素数10〜20のアルカンチオールを反応させることを
特徴とする一般式(式中、損およびR2は前記と同じ意
味を有し、石は炭素数lθ〜20のアルキル基を示す) で示されるビスフェノール誘導体の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6419982A JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6419982A JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180467A true JPS58180467A (ja) | 1983-10-21 |
JPH0318619B2 JPH0318619B2 (ja) | 1991-03-13 |
Family
ID=13251157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6419982A Granted JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58180467A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0716076A3 (ja) * | 1994-12-05 | 1996-07-24 | Ciba Geigy Ag | |
JP2008529003A (ja) * | 2005-01-28 | 2008-07-31 | ヴァルコ インスツルメンツ カンパニー, インク. | フェラル連結型加圧嵌合ナット |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101588713B (zh) | 2006-08-25 | 2012-07-04 | 株式会社富永树脂工业所 | 水槽用溢流装置 |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP6419982A patent/JPS58180467A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0716076A3 (ja) * | 1994-12-05 | 1996-07-24 | Ciba Geigy Ag | |
JP2008529003A (ja) * | 2005-01-28 | 2008-07-31 | ヴァルコ インスツルメンツ カンパニー, インク. | フェラル連結型加圧嵌合ナット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0318619B2 (ja) | 1991-03-13 |
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