JPH0318619B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、一般式()
(式中、R1はメチル基またはエチル基を、R2
は炭素数2〜3のアルキル基を、R3は炭素数10
〜20のアルキル基を示す) で示されるビスフエノール誘導体およびその製造
法に関する。 従来よりポリオレフイン、ABS樹脂、ポリス
チレン、ハイインパクトポリスチレン、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合物、ポリアミド、ポリ
アセタールおよびエチレン−プロピレン共重合体
などの合成樹脂、天然ゴムおよびポリブタジエン
ゴム、イソプレンゴム、イソプレン−イソブチレ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、
エチレン−プロピレン共重合ゴムなどの合成ゴ
ム、潤滑油、燃料油などの石油製品、油脂および
グリースなどの各種の有機物質は熱、光および酸
素などにより劣化を受け易く、かかる劣化を抑制
するために、各種の劣化防止剤、たとえばn−オ
クタデシル(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロピオネート、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−
ブチルフエニル)ブタン等のフエノール系酸化防
止剤およびジラウリル3,3′−チオジプロピオネ
ート等のイオウ系酸化防止剤を配合することも周
知である。しかし、これらは何れも高温度で長時
間有機物質中に保持された場合に効果の持続性に
乏しいという欠点があつた。 本発明はこのような欠点を改良し、有機物質の
劣化防止に優れた性能を有する化合物の開発を目
的とした研究の結果完成されたものであつて、本
発明の一般式()で示されるビスフエノール誘
導体は文献未記載の新規化合物であり、有機物質
用劣化防止剤として極めて優れた効果を有する。 一般式()で示されるビスフエノール誘導体
は、一般式() (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有す
る) で示されるビスフエノールモノアクリレート化合
物と炭素数10〜20のアルカンチオールを反応させ
ることにより製造することができる。ビスフエノ
ールモノアクリレート化合物は、たとえば2,
2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール)、2,2′−ブチリデンビス(6−
t−ブチル−4−エチルフエノール)、2,2′−
プロピリデンビス(6−t−ブチル−4−メチル
フエノール)、2,2′−プロピリデンビス(6−
t−ブチル−4−エチルフエノール)、2,2′−
イソブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール)および2,2′−イソブチリデンビ
ス(6−t−ブチル−4−エチルフエノール)等
のビスフエノール類と塩化アクリロイルを、不活
性溶媒中で脱塩化水素剤の存在下に反応させるこ
とによつて製造することができる。 ビスフエノールモノアクリレート化合物の製造
法において、不活性溶媒としてはn−ヘキサン、
n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素およびジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類が例示される。また、脱塩化水
素剤としては、トリエチルアミン等の第三級アミ
ン類、ピリジン類またはN,N−ジアルキルアニ
リン等が用いられ、その使用量はビスフエノール
類1モルに対して0.9〜1.3モルの範囲である。反
応温度は−5〜60℃の範囲であり、また、ビスフ
エノール類と塩化アクリロイルの反応モル比は1
対0.9〜1.3の範囲である。 また、炭素数10〜20のアルカンチオールとして
はドデカンチオール、n−ヘキサデカンチオール
およびn−オクタデカンチオールなどが例示され
る。 本発明においてビスフエノールモノアクリレー
ト化合物とアルカンチオールとの反応は通常溶媒
中で行われ、かかる溶媒としてはメタノール、エ
タノールおよびt−ブタノール等のアルコール
類、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素が用いられるが、好ましいのはクロ
ロホルムである。 この反応において塩基性触媒の存在はより有効
であり、かかる触媒としては炭素数1〜4の低級
アルコールのアルカリ金属アルコキシド(たとえ
ばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
およびカリウムt−ブトキシド)、トリエチルア
ミンなどの第三級アミン類、水酸化ベンジルトリ
メチルアンモニウムなどが通常用いられ、特に好
ましいのはナトリウムメトキシドである。 これらの塩基性触媒を使用する場合、その使用
量は通常ビスフエノールモノアクリレート化合物
に対して0.5〜5重量%である。 反応温度は通常10℃から使用した溶媒の還流温
度の範囲であるが、多くの場合に還流温度で行わ
れる。 両反応原料の反応モル比は、一般的にはアルカ
ンチオールに対してビスフエノールモノアクリレ
ート化合物が1〜1.1モル倍である。 反応終了後は、使用した触媒を酸類で中和した
後、中性になるまで水洗、分液し、有機層のクロ
ロホルムを留去し、生成物を取り出し、その精製
には、再結晶法、溶媒洗浄法、場合によつてはカ
ラムクロマト法が用いられる。 かくして製造される一般式()で示されるビ
スフエノール誘導体として、具体的には次のよう
なものが例示される。 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアヘキサデカノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアエイコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアドコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、および 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート。 かくして得られる本発明の一般式()で示さ
れるビスフエノール誘導体は、有機物質用劣化防
止剤として有用であるが、天然ならびに合成ポリ
マーの熱的および酸化的劣化の防止に特に有用で
ある。 一般式()で示されるビスフエノール誘導体
は、それ単独の使用でも有機物質の安定化に有効
であるが、その他の添加剤、たとえば酸化防止
剤、含イオウ化合物、含リン化合物、紫外線吸収
剤、光安定剤、可塑剤、金属石鹸類、顔料、染
料、充填剤、および腐食防止剤、防錆剤、流動点
降下剤、消泡剤、清浄分散剤、極圧剤などのよう
な油用添加剤および金属キレート剤などをそれぞ
れの目的に応じて併用してもよい。 以下、本発明を実施例により説明する。 原料製造例 1 温度計、撹拌装置、滴下漏斗をそなえた300ml
四口フラスコに2,2′−ブチリデンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフエノール)36.05g
(0.094モル)、トリエチルアミン11.63g(0.119モ
ル)およびトルエン100gを仕込み、容器内の空
気を窒素置換した後、8〜12℃に冷却し、滴下漏
斗から塩化アクリロイル10.40g(0.119モル)を
2時間かけて滴下する。滴下終了後、希塩酸で酸
性にし、中性になるまで水洗、分液したのち、ト
ルエン層から溶液を減圧留去すると、無色粘稠油
状物として、38.17g(収率93%)の2,2′−ブ
チリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフエ
ノール)モノアクリレートが得られた。 元素分析 C29H40O3 ( )内計算値 C;79.57%(79.77%) H; 9.35%( 9.23%) マススペクトル(FD−MS) 436に親イオンのピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3440(νC=O)、1733(νC=O)、1630(νC=C)1580
(νarom C=C)、1165、1150(νC=O)、990(δ面外C-H
)、850
(δ面外arpn C-H) GPC(島津HSG−15、THF、1ml/分)27.06
分 純度99% なお、2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフエノール)と塩化アクリロイ
ルを上記原料製造例1に示したと全く同様な方法
で反応させることにより、2,2′−プロピリデン
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフエノール)
モノアクリレートを製造することができる。 実施例 1 温度計、撹拌装置、冷却管をそなえた100ml四
口フラスコに、2,2′−ブチリデンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフエノール)モノアクリレ
ート8.73g(0.020モル)、オクタデカンチオール
5.73g(0.020モル)およびクロロホルム50gを
仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量
%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.1g
(0.0005モル)を仕込み、昇温し、60〜62℃で4
時間保温する。その後、25℃まで冷却し、希塩酸
で触媒を中和し、クロロホルム層を水洗、分液し
たのち、有機層からクロロホルムを減圧留去する
ことによつて淡黄色油状の6−t−ブチル−2−
〔1−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メ
チルフエニル)ブチル)−4−メチルフエニル
4−チアドコサノエート13.8g(収率95%、島津
GPC用カラムHSG−15、THF1ml/分で24.08分
にピークを与え、純度97%)を得た。これを化合
物()−1とする GPC(鳥津HSG−15、THF、1ml/分)24.08
分 純度97% 元素分析 C47H78O3S ( )内計算値 C;77.93%(78.06%) H;10.98%(10.87%) S; 4.40%( 4.43%) マススペクトル(FD−MS) 722に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO=H)、1740(νC=O)、1600(νarom C=C)、1
135
(νC-O)、860(δ面 外 arom.C=H)、720(νC-S) 実施例 2 2,2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−エチルフエノール)モノアクリレートおよびオ
クタデカンチオールを用いる以外は実施例1と同
様な条件で反応させることにより、淡黄色油状の
6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−2
−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕−
4−エチルフエノール 4−チアドコサノエー
ト、14.42g(収率96%)が得られた。これを
()−2とする。 GPC 23.93分 純度98% 元素分析 C49H82O3S ( )内計算値 C;78.30%(78.34%) H;11.05%(11.00%) S; 4.32%( 4.27%) マススペクトル(FD−MS) 750に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3510(νO=H)、1735(νC=O)、1600(νarom C=C)、1
133
(νC-O)、860(δ面 外 arom.C=H)、720(νC-S) 実施例 3 2−2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−メチルフエノール)モノアクリレートとドデカ
ンチオールを用いる以外は実施例1と同様な条件
で反応させることにより、淡黄色粘稠油状物とし
て、6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル
−2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート12.14g(収率95%)が得られた。これ
を化合物()−3とする。 GPC 24.25分(純度95%) 元素分析 C41H66O3S ( )内計算値 C;77.13%(77.06) H;10.30%(10.41) S; 5.03%( 5.02) マススペクトル(FD−MS) 638に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO-H)、1738(νC=O)、1594(νarom C=C)113
5
(νC-O)、860(δ面 外 arom,C−H)、720(νC-S) 実施例 4 2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブチル−
4−メチルフエノール)モノアクリレートとオク
タデカンチオールを用いる以外は実施例1と同様
な条件で反応させることにより、淡黄色油状物と
して、6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロ
ピル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノ
エート13.19g(収率93%)を得た。 GPC 24.13分 純度95% 元素分析 C46H76O3S ( )内計算値 C;77.80%(77.91%) H;10.85%(10.80%) S; 4.50%( 4.52%) マススペクトル(FD−MS) 708に親イオンピークを確認 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO-H)、1735(νC=O)、1595(νarom C=C)114
0
(νC-O)、860(δ面 外 arom,C−H)、722(νC-S) 参考例 1 下記配合物をミキサーで5分間混練した後シリ
ンダー温度230〜240℃、ヘツドダイス温度250℃、
回転数20rpmの押出機によつて溶融混練して造粒
した。こうして得られたペレツトを210℃の熱プ
レスで厚さ1mmのシートに成形し、40×40×1mm
の試験片を作成した。 160℃のギヤーオーブン中で試験片面積の30%
が脆化するまでの時間を測定し、熱および酸化安
定性を評価した。 その結果を表−1に示す。 <配合> 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 供試化合物 変量 なお、表−1において供試化合物の記号は以下
の化合物を示すものである。 AO−1 n−オクタデシル(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プ
ロピオネート AO−2 1,1,3−トリス(2−メチル−4
−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニ
ル)ブタン AO−3 ジラウリル 3,3′−チオジプロピオ
ネート
は炭素数2〜3のアルキル基を、R3は炭素数10
〜20のアルキル基を示す) で示されるビスフエノール誘導体およびその製造
法に関する。 従来よりポリオレフイン、ABS樹脂、ポリス
チレン、ハイインパクトポリスチレン、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合物、ポリアミド、ポリ
アセタールおよびエチレン−プロピレン共重合体
などの合成樹脂、天然ゴムおよびポリブタジエン
ゴム、イソプレンゴム、イソプレン−イソブチレ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、
エチレン−プロピレン共重合ゴムなどの合成ゴ
ム、潤滑油、燃料油などの石油製品、油脂および
グリースなどの各種の有機物質は熱、光および酸
素などにより劣化を受け易く、かかる劣化を抑制
するために、各種の劣化防止剤、たとえばn−オ
クタデシル(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロピオネート、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−
ブチルフエニル)ブタン等のフエノール系酸化防
止剤およびジラウリル3,3′−チオジプロピオネ
ート等のイオウ系酸化防止剤を配合することも周
知である。しかし、これらは何れも高温度で長時
間有機物質中に保持された場合に効果の持続性に
乏しいという欠点があつた。 本発明はこのような欠点を改良し、有機物質の
劣化防止に優れた性能を有する化合物の開発を目
的とした研究の結果完成されたものであつて、本
発明の一般式()で示されるビスフエノール誘
導体は文献未記載の新規化合物であり、有機物質
用劣化防止剤として極めて優れた効果を有する。 一般式()で示されるビスフエノール誘導体
は、一般式() (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有す
る) で示されるビスフエノールモノアクリレート化合
物と炭素数10〜20のアルカンチオールを反応させ
ることにより製造することができる。ビスフエノ
ールモノアクリレート化合物は、たとえば2,
2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール)、2,2′−ブチリデンビス(6−
t−ブチル−4−エチルフエノール)、2,2′−
プロピリデンビス(6−t−ブチル−4−メチル
フエノール)、2,2′−プロピリデンビス(6−
t−ブチル−4−エチルフエノール)、2,2′−
イソブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール)および2,2′−イソブチリデンビ
ス(6−t−ブチル−4−エチルフエノール)等
のビスフエノール類と塩化アクリロイルを、不活
性溶媒中で脱塩化水素剤の存在下に反応させるこ
とによつて製造することができる。 ビスフエノールモノアクリレート化合物の製造
法において、不活性溶媒としてはn−ヘキサン、
n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素およびジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類が例示される。また、脱塩化水
素剤としては、トリエチルアミン等の第三級アミ
ン類、ピリジン類またはN,N−ジアルキルアニ
リン等が用いられ、その使用量はビスフエノール
類1モルに対して0.9〜1.3モルの範囲である。反
応温度は−5〜60℃の範囲であり、また、ビスフ
エノール類と塩化アクリロイルの反応モル比は1
対0.9〜1.3の範囲である。 また、炭素数10〜20のアルカンチオールとして
はドデカンチオール、n−ヘキサデカンチオール
およびn−オクタデカンチオールなどが例示され
る。 本発明においてビスフエノールモノアクリレー
ト化合物とアルカンチオールとの反応は通常溶媒
中で行われ、かかる溶媒としてはメタノール、エ
タノールおよびt−ブタノール等のアルコール
類、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素が用いられるが、好ましいのはクロ
ロホルムである。 この反応において塩基性触媒の存在はより有効
であり、かかる触媒としては炭素数1〜4の低級
アルコールのアルカリ金属アルコキシド(たとえ
ばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
およびカリウムt−ブトキシド)、トリエチルア
ミンなどの第三級アミン類、水酸化ベンジルトリ
メチルアンモニウムなどが通常用いられ、特に好
ましいのはナトリウムメトキシドである。 これらの塩基性触媒を使用する場合、その使用
量は通常ビスフエノールモノアクリレート化合物
に対して0.5〜5重量%である。 反応温度は通常10℃から使用した溶媒の還流温
度の範囲であるが、多くの場合に還流温度で行わ
れる。 両反応原料の反応モル比は、一般的にはアルカ
ンチオールに対してビスフエノールモノアクリレ
ート化合物が1〜1.1モル倍である。 反応終了後は、使用した触媒を酸類で中和した
後、中性になるまで水洗、分液し、有機層のクロ
ロホルムを留去し、生成物を取り出し、その精製
には、再結晶法、溶媒洗浄法、場合によつてはカ
ラムクロマト法が用いられる。 かくして製造される一般式()で示されるビ
スフエノール誘導体として、具体的には次のよう
なものが例示される。 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアヘキサデカノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアエイコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチル〕
−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕
−4−エチルフエニル 4−チアドコサノエー
ト、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロピ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)プロピ
ル〕−4−エチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート、 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアエイコサノ
エート、および 6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−
2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)イソブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノエ
ート。 かくして得られる本発明の一般式()で示さ
れるビスフエノール誘導体は、有機物質用劣化防
止剤として有用であるが、天然ならびに合成ポリ
マーの熱的および酸化的劣化の防止に特に有用で
ある。 一般式()で示されるビスフエノール誘導体
は、それ単独の使用でも有機物質の安定化に有効
であるが、その他の添加剤、たとえば酸化防止
剤、含イオウ化合物、含リン化合物、紫外線吸収
剤、光安定剤、可塑剤、金属石鹸類、顔料、染
料、充填剤、および腐食防止剤、防錆剤、流動点
降下剤、消泡剤、清浄分散剤、極圧剤などのよう
な油用添加剤および金属キレート剤などをそれぞ
れの目的に応じて併用してもよい。 以下、本発明を実施例により説明する。 原料製造例 1 温度計、撹拌装置、滴下漏斗をそなえた300ml
四口フラスコに2,2′−ブチリデンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフエノール)36.05g
(0.094モル)、トリエチルアミン11.63g(0.119モ
ル)およびトルエン100gを仕込み、容器内の空
気を窒素置換した後、8〜12℃に冷却し、滴下漏
斗から塩化アクリロイル10.40g(0.119モル)を
2時間かけて滴下する。滴下終了後、希塩酸で酸
性にし、中性になるまで水洗、分液したのち、ト
ルエン層から溶液を減圧留去すると、無色粘稠油
状物として、38.17g(収率93%)の2,2′−ブ
チリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフエ
ノール)モノアクリレートが得られた。 元素分析 C29H40O3 ( )内計算値 C;79.57%(79.77%) H; 9.35%( 9.23%) マススペクトル(FD−MS) 436に親イオンのピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3440(νC=O)、1733(νC=O)、1630(νC=C)1580
(νarom C=C)、1165、1150(νC=O)、990(δ面外C-H
)、850
(δ面外arpn C-H) GPC(島津HSG−15、THF、1ml/分)27.06
分 純度99% なお、2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフエノール)と塩化アクリロイ
ルを上記原料製造例1に示したと全く同様な方法
で反応させることにより、2,2′−プロピリデン
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフエノール)
モノアクリレートを製造することができる。 実施例 1 温度計、撹拌装置、冷却管をそなえた100ml四
口フラスコに、2,2′−ブチリデンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフエノール)モノアクリレ
ート8.73g(0.020モル)、オクタデカンチオール
5.73g(0.020モル)およびクロロホルム50gを
仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量
%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.1g
(0.0005モル)を仕込み、昇温し、60〜62℃で4
時間保温する。その後、25℃まで冷却し、希塩酸
で触媒を中和し、クロロホルム層を水洗、分液し
たのち、有機層からクロロホルムを減圧留去する
ことによつて淡黄色油状の6−t−ブチル−2−
〔1−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メ
チルフエニル)ブチル)−4−メチルフエニル
4−チアドコサノエート13.8g(収率95%、島津
GPC用カラムHSG−15、THF1ml/分で24.08分
にピークを与え、純度97%)を得た。これを化合
物()−1とする GPC(鳥津HSG−15、THF、1ml/分)24.08
分 純度97% 元素分析 C47H78O3S ( )内計算値 C;77.93%(78.06%) H;10.98%(10.87%) S; 4.40%( 4.43%) マススペクトル(FD−MS) 722に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO=H)、1740(νC=O)、1600(νarom C=C)、1
135
(νC-O)、860(δ面 外 arom.C=H)、720(νC-S) 実施例 2 2,2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−エチルフエノール)モノアクリレートおよびオ
クタデカンチオールを用いる以外は実施例1と同
様な条件で反応させることにより、淡黄色油状の
6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル−2
−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ブチル〕−
4−エチルフエノール 4−チアドコサノエー
ト、14.42g(収率96%)が得られた。これを
()−2とする。 GPC 23.93分 純度98% 元素分析 C49H82O3S ( )内計算値 C;78.30%(78.34%) H;11.05%(11.00%) S; 4.32%( 4.27%) マススペクトル(FD−MS) 750に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3510(νO=H)、1735(νC=O)、1600(νarom C=C)、1
133
(νC-O)、860(δ面 外 arom.C=H)、720(νC-S) 実施例 3 2−2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4
−メチルフエノール)モノアクリレートとドデカ
ンチオールを用いる以外は実施例1と同様な条件
で反応させることにより、淡黄色粘稠油状物とし
て、6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチル
−2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ブチ
ル〕−4−メチルフエニル 4−チアヘキサデカ
ノエート12.14g(収率95%)が得られた。これ
を化合物()−3とする。 GPC 24.25分(純度95%) 元素分析 C41H66O3S ( )内計算値 C;77.13%(77.06) H;10.30%(10.41) S; 5.03%( 5.02) マススペクトル(FD−MS) 638に親イオンピークを確認した。 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO-H)、1738(νC=O)、1594(νarom C=C)113
5
(νC-O)、860(δ面 外 arom,C−H)、720(νC-S) 実施例 4 2,2′−プロピリデンビス(6−t−ブチル−
4−メチルフエノール)モノアクリレートとオク
タデカンチオールを用いる以外は実施例1と同様
な条件で反応させることにより、淡黄色油状物と
して、6−t−ブチル−2−〔1−(3−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)プロ
ピル〕−4−メチルフエニル 4−チアドコサノ
エート13.19g(収率93%)を得た。 GPC 24.13分 純度95% 元素分析 C46H76O3S ( )内計算値 C;77.80%(77.91%) H;10.85%(10.80%) S; 4.50%( 4.52%) マススペクトル(FD−MS) 708に親イオンピークを確認 赤外線吸収スペクトル(直接法) (単位cm-1) 3520(νO-H)、1735(νC=O)、1595(νarom C=C)114
0
(νC-O)、860(δ面 外 arom,C−H)、722(νC-S) 参考例 1 下記配合物をミキサーで5分間混練した後シリ
ンダー温度230〜240℃、ヘツドダイス温度250℃、
回転数20rpmの押出機によつて溶融混練して造粒
した。こうして得られたペレツトを210℃の熱プ
レスで厚さ1mmのシートに成形し、40×40×1mm
の試験片を作成した。 160℃のギヤーオーブン中で試験片面積の30%
が脆化するまでの時間を測定し、熱および酸化安
定性を評価した。 その結果を表−1に示す。 <配合> 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 供試化合物 変量 なお、表−1において供試化合物の記号は以下
の化合物を示すものである。 AO−1 n−オクタデシル(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プ
ロピオネート AO−2 1,1,3−トリス(2−メチル−4
−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニ
ル)ブタン AO−3 ジラウリル 3,3′−チオジプロピオ
ネート
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1はメチル基またはエチル基を、R2
は炭素数2〜3のアルキル基を、R3は炭素数10
〜20のアルキル基を示す) で示されるビスフエノール誘導体。 2 一般式 (式中、R1はメチル基またはエチル基を、R2
は炭素数2〜3のアルキル基を示す) で示されるビスフエノールモノアクリレート化合
物と炭素数10〜20のアルカンチオールを反応させ
ることを特徴とする一般式 (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有し、
R3は炭素数10〜20のアルキル基を示す) で示されるビスフエノール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6419982A JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6419982A JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180467A JPS58180467A (ja) | 1983-10-21 |
JPH0318619B2 true JPH0318619B2 (ja) | 1991-03-13 |
Family
ID=13251157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6419982A Granted JPS58180467A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58180467A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008023513A1 (fr) | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Kabushiki Kaisha Tominaga Jyushi Kogyosho | Dispositif de trop-plein pour un réservoir d'eau |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW303381B (ja) * | 1994-12-05 | 1997-04-21 | Ciba Sc Holding Ag | |
US7316777B2 (en) * | 2005-01-28 | 2008-01-08 | Valco Instruments Co., Inc. | Compression fitting nut with interlocked ferrule |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP6419982A patent/JPS58180467A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008023513A1 (fr) | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Kabushiki Kaisha Tominaga Jyushi Kogyosho | Dispositif de trop-plein pour un réservoir d'eau |
WO2008023512A1 (fr) | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Kabushiki Kaisha Tominaga Jyushi Kogyosho | Dispositif de trop-plein pour un réservoir d'eau |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58180467A (ja) | 1983-10-21 |
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