JPS58180436A - 含酸素化合物の製造方法 - Google Patents
含酸素化合物の製造方法Info
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- JPS58180436A JPS58180436A JP6234482A JP6234482A JPS58180436A JP S58180436 A JPS58180436 A JP S58180436A JP 6234482 A JP6234482 A JP 6234482A JP 6234482 A JP6234482 A JP 6234482A JP S58180436 A JPS58180436 A JP S58180436A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、−酸化炭素と水素の混合ガス(以下、合成ガ
スという)を原料とする液相直接法による含酸素化合物
の製造方法に関する。
スという)を原料とする液相直接法による含酸素化合物
の製造方法に関する。
詳しくは、本発明は、合成ガスを原料とする液相直接法
によるメタノール、エタノール、酢酸およびこれらのエ
ステル類の製造方法に関し、特に、エタノールおよび酢
酸(エステル類を含む)を選択的に製造するための改良
法に関する。
によるメタノール、エタノール、酢酸およびこれらのエ
ステル類の製造方法に関し、特に、エタノールおよび酢
酸(エステル類を含む)を選択的に製造するための改良
法に関する。
エタノール、酢酸および酢酸エステルは工業薬品や溶媒
として工業的に有用な物質であり、合成ガスを原料とし
て、このような含酸素化合物を直接に製造する方法(い
わゆる直接法)を開発する試みがなされている。
として工業的に有用な物質であり、合成ガスを原料とし
て、このような含酸素化合物を直接に製造する方法(い
わゆる直接法)を開発する試みがなされている。
近年、ルテニウムを用いた液相直接法によって含酸素化
合物を製造する方法が開示された。これらの公知技術の
目的生成物は、多くの場合、エチレングリコール、エタ
ノールおよびアセトアルデヒドなどの炭素数2の含酸素
化合物であるが、これらの目的物のいずれかを選択的に
製造する方法は末だ完成されておらず、さらにメタノー
ル等の他の副生物も相当量生成することが知られている
。
合物を製造する方法が開示された。これらの公知技術の
目的生成物は、多くの場合、エチレングリコール、エタ
ノールおよびアセトアルデヒドなどの炭素数2の含酸素
化合物であるが、これらの目的物のいずれかを選択的に
製造する方法は末だ完成されておらず、さらにメタノー
ル等の他の副生物も相当量生成することが知られている
。
本発明者らは、ルテニウムとそれ以外の触媒金属化合物
を含有する多元触媒系において、非プロトン性溶媒と特
定のリン化合物を用いることによって、合成ガスからエ
タノールおよび/または酢酸を選択的に製造し得ること
を見出した3、本発明の分野においては、既に公知技術
として、たとえば、特開昭55−9088号公報および
特開昭55−1071217号公報の方法がある。すな
わち、カルボン酸含有液体媒体、およびルテニウムおよ
び/またはオスミウムからなる触媒によってアルコール
類ヲカルボン酸溶媒とのエステルとして製造する方法で
あり、さらには、生成したエチルエステルの熱分解によ
ってエチレンを製造する方法を開示している。助触媒と
して、アルカリ金属塩、第4級ホスホニウム塩、イミニ
ウム塩などの塩およびホスフィンやホスファイトなどの
リン化合物を用いることができる。この方法はカルボン
酸溶媒を用いることによって、比較的良好なエチルエス
テル選択性が得られているが、カルボン酸溶媒の還元や
触媒活性が末だ低いという点が問題である。また、特開
昭55−11.5834号公報および特開昭56−16
6133号公報には、ルテニウム、助触媒および溶媒か
らなる触媒系を用いてアルコール類およびアセトアルデ
ヒドなどを製造する方法が開示されている。好ましくは
、助触媒としてハロゲン塩、溶媒としてエーテル類また
は非プロト−j − ン性有機アミド類などを用いる例が多い。これらの方法
におけるエタノール選択性は、多くの場合末だ十分とは
言えない。さらに、特開昭56−123925号公報に
は、ルテニウムと第■族金族を組合わせて用いる方法が
開示されているが、エチレングリコールの製造方法であ
って、エタノールいるところであり、冊近、本発明者ら
は液相直接法による酢酸の選択的製造方法を開発し既に
出願した(特願昭56−163447号)。本発明は、
さらに、本発明者らがルテニウム触媒系において、特定
の溶媒および特定のリン化合物を組合わせて用いること
によって、エタノール、酢酸およびこれらのエステル類
が高選択率で効率よく得られ、しかもメタンのような不
都合な炭化水素の副生が極めて少ないことを見出して完
成したものである。
を含有する多元触媒系において、非プロトン性溶媒と特
定のリン化合物を用いることによって、合成ガスからエ
タノールおよび/または酢酸を選択的に製造し得ること
を見出した3、本発明の分野においては、既に公知技術
として、たとえば、特開昭55−9088号公報および
特開昭55−1071217号公報の方法がある。すな
わち、カルボン酸含有液体媒体、およびルテニウムおよ
び/またはオスミウムからなる触媒によってアルコール
類ヲカルボン酸溶媒とのエステルとして製造する方法で
あり、さらには、生成したエチルエステルの熱分解によ
ってエチレンを製造する方法を開示している。助触媒と
して、アルカリ金属塩、第4級ホスホニウム塩、イミニ
ウム塩などの塩およびホスフィンやホスファイトなどの
リン化合物を用いることができる。この方法はカルボン
酸溶媒を用いることによって、比較的良好なエチルエス
テル選択性が得られているが、カルボン酸溶媒の還元や
触媒活性が末だ低いという点が問題である。また、特開
昭55−11.5834号公報および特開昭56−16
6133号公報には、ルテニウム、助触媒および溶媒か
らなる触媒系を用いてアルコール類およびアセトアルデ
ヒドなどを製造する方法が開示されている。好ましくは
、助触媒としてハロゲン塩、溶媒としてエーテル類また
は非プロト−j − ン性有機アミド類などを用いる例が多い。これらの方法
におけるエタノール選択性は、多くの場合末だ十分とは
言えない。さらに、特開昭56−123925号公報に
は、ルテニウムと第■族金族を組合わせて用いる方法が
開示されているが、エチレングリコールの製造方法であ
って、エタノールいるところであり、冊近、本発明者ら
は液相直接法による酢酸の選択的製造方法を開発し既に
出願した(特願昭56−163447号)。本発明は、
さらに、本発明者らがルテニウム触媒系において、特定
の溶媒および特定のリン化合物を組合わせて用いること
によって、エタノール、酢酸およびこれらのエステル類
が高選択率で効率よく得られ、しかもメタンのような不
都合な炭化水素の副生が極めて少ないことを見出して完
成したものである。
すなわち、本発明は、合成ガスをルテニウム化4−
金物、元素周期律表第■α族、第Vll a族および第
■a族元素から選ばれた少なくとも1種の金属の化合物
ならびに助触媒を含有する液体媒体中、加熱、加圧下に
おいて接触反応させるにあたり、液体媒体中に非プロト
ン性溶媒および一般式(’I)で表わされるリン化合物
および/′または一般式(TI)で表わされるリン化合
物 (一般式〇)、(旧において、A、 B、 C,Dおよ
びEは水素原子、・・ロゲン原子、炭素原子数1〜20
のアルキル基・置換アルキル基・アIJ−ていてもよい
。但し、一般式〇)においては、AlB、Cのうち少な
(とも1つは・・ロゲン原子、−OR+基、−8R11
基または−N(alll)、、基である。
■a族元素から選ばれた少なくとも1種の金属の化合物
ならびに助触媒を含有する液体媒体中、加熱、加圧下に
おいて接触反応させるにあたり、液体媒体中に非プロト
ン性溶媒および一般式(’I)で表わされるリン化合物
および/′または一般式(TI)で表わされるリン化合
物 (一般式〇)、(旧において、A、 B、 C,Dおよ
びEは水素原子、・・ロゲン原子、炭素原子数1〜20
のアルキル基・置換アルキル基・アIJ−ていてもよい
。但し、一般式〇)においては、AlB、Cのうち少な
(とも1つは・・ロゲン原子、−OR+基、−8R11
基または−N(alll)、、基である。
Zは酸素原子または硫黄原子を示す。また、A、1(、
Cのうちの2個以上が、またはり、Eが互に結びついて
環を形成してもよい。なお、前記のI(l。
Cのうちの2個以上が、またはり、Eが互に結びついて
環を形成してもよい。なお、前記のI(l。
i、jllおよびR111は水素原子、炭素原子数1〜
2oの置喚基を有することもあるアルキル基もしくはア
リール基またはアシル基である)を含有することを特徴
とするメタノール、エタノニル、酢酸およびこれらのエ
ステル類の製造方法、特に、エタノールおよび酢酸(エ
ステルを含む)の選択的製造方法である。
2oの置喚基を有することもあるアルキル基もしくはア
リール基またはアシル基である)を含有することを特徴
とするメタノール、エタノニル、酢酸およびこれらのエ
ステル類の製造方法、特に、エタノールおよび酢酸(エ
ステルを含む)の選択的製造方法である。
本発明の方法によって得られる酢酸メチルおよび酢酸エ
チルは、それら自体工業薬品や溶媒として有用であるが
、心間ならば容易に+I[I水分解して酢酸とアルコー
ルに転化することができる。以下、総称する。
チルは、それら自体工業薬品や溶媒として有用であるが
、心間ならば容易に+I[I水分解して酢酸とアルコー
ルに転化することができる。以下、総称する。
1本発明の触媒は、本発明の方法において反応過程中に
生成する液相触媒組成物であって、どの触媒のFiv分
、戊分比旧よび反応条件などを調節することにより、メ
タノール、エタノールおよび酢酸のうちいずれかの目的
物を有利に製造することができる。特に、これらの液相
触媒組成物を非プロトン性溶媒と一般式(■)で表わさ
れるリン化合物および/または一般式(丁[)で表わさ
れるリン化合物とを組合わせて用いることによって、前
記公知技術の多くのものより比較的低い反応圧力または
低い反応温度におし・てでさえも、エタノールおよび/
または酢酸の生成速度および選択率を増大させることが
できろ。すなわち、本発明の方法はエタノールまたは酢
酸の選択的製造方法およびこれらの併産方法として特徴
を有するものである。
生成する液相触媒組成物であって、どの触媒のFiv分
、戊分比旧よび反応条件などを調節することにより、メ
タノール、エタノールおよび酢酸のうちいずれかの目的
物を有利に製造することができる。特に、これらの液相
触媒組成物を非プロトン性溶媒と一般式(■)で表わさ
れるリン化合物および/または一般式(丁[)で表わさ
れるリン化合物とを組合わせて用いることによって、前
記公知技術の多くのものより比較的低い反応圧力または
低い反応温度におし・てでさえも、エタノールおよび/
または酢酸の生成速度および選択率を増大させることが
できろ。すなわち、本発明の方法はエタノールまたは酢
酸の選択的製造方法およびこれらの併産方法として特徴
を有するものである。
本発明の方法において用いられる一般式(TI)で表わ
されるリン化合物は、次式の平衡において容易に生成す
る一般式(Dで表わされるリン化合物の異性体であると
言える(ここで、Zは酸素原子これらの一般式(i)$
;よび一般式((()で表わされるリン化合物は、助触
媒として用いるほかの塩基性化合物にくらべ、助触媒と
しての効果が予想:外に優れている。すなわち、本発明
のリン化合物″0)助触媒効果の特徴は、■触媒活性を
大巾に向上させ、■(エタノール+酢酸) /′(メタ
ノール)の生成モル比を大l〕に増大させ、さらに■(
エタノール)/′(酢酸)の生成モル比を調節すること
ができることなどである。
されるリン化合物は、次式の平衡において容易に生成す
る一般式(Dで表わされるリン化合物の異性体であると
言える(ここで、Zは酸素原子これらの一般式(i)$
;よび一般式((()で表わされるリン化合物は、助触
媒として用いるほかの塩基性化合物にくらべ、助触媒と
しての効果が予想:外に優れている。すなわち、本発明
のリン化合物″0)助触媒効果の特徴は、■触媒活性を
大巾に向上させ、■(エタノール+酢酸) /′(メタ
ノール)の生成モル比を大l〕に増大させ、さらに■(
エタノール)/′(酢酸)の生成モル比を調節すること
ができることなどである。
本発明の方法に用いられるリン化合物として、次のよう
なものが例示される。すなわち、(])リンのオキシ酸
−によびリンのノ\ロゲン化物:亜リン酸、ホスホン酸
、亜ホスホン酸、ホスフィン酸(次亜リン酸)、亜ホス
フィン酸、酸化ホスフィンおよびその他の酸化数3以下
のリン原子を含むオキシ酸類。さらに、PF3、PCl
3、PBr3、PI3、PBr2C1,l州rC(’、
などのリンのハjjゲン化物など、 (2)有機リン化合物のオキシ酸およびそのエステル:
たとえば、ポリビニルアルコールの亜リン酸エステルの
ような高分子量のオキシ酸エステルも用いることができ
るが、一般には、炭素数1〜20のエニルホスファイト
、トリーP−クロロフェニルホスファイト、ジメチルエ
チルホスファイト、1゜2− [(C21−1,0)、
、 PO]2C,l−15、[(C,R50)、、PO
CI−1,。
なものが例示される。すなわち、(])リンのオキシ酸
−によびリンのノ\ロゲン化物:亜リン酸、ホスホン酸
、亜ホスホン酸、ホスフィン酸(次亜リン酸)、亜ホス
フィン酸、酸化ホスフィンおよびその他の酸化数3以下
のリン原子を含むオキシ酸類。さらに、PF3、PCl
3、PBr3、PI3、PBr2C1,l州rC(’、
などのリンのハjjゲン化物など、 (2)有機リン化合物のオキシ酸およびそのエステル:
たとえば、ポリビニルアルコールの亜リン酸エステルの
ような高分子量のオキシ酸エステルも用いることができ
るが、一般には、炭素数1〜20のエニルホスファイト
、トリーP−クロロフェニルホスファイト、ジメチルエ
チルホスファイト、1゜2− [(C21−1,0)、
、 PO]2C,l−15、[(C,R50)、、PO
CI−1,。
びその縮合化合物、たとえば、ジメチルホスファえば、
2−クロロエチルホスファイト、フェニルホスファイト
、メチルホスファイトなどの亜リン酸モノエステル、た
とえば、トリアセチルホスファイト、モノアセチルホス
ファイト、ブチルシアどのアシルホスファイト類、たと
えばジフェニルホスホネート、[(CH,0)P(0)
(1−1)01]2 (CH2)2、(C,、I−1
,0)P(0) (H)OP(0)(QC21−1,)
2などのホスホン酸エステルおよびその縮合化合物、
また、たとえば、フェニル亜ホスホン酸、エチル亜ホス
ホン酸、ベンジル亜ホスホン酸、ジフェニル亜ホスフィ
ン酸、ジエチル亜ホスフィン酸、ジシクロヘキシル亜ホ
スフィン酸、フェニルホスフィン酸、を−ブチルホスフ
ィン酸などの有機リン化合物のオキシ酸、また、ジメチ
ルフェニルホスホナイト、メチルブチルフェニルホスホ
ナイト、フェニルエチルホスホナイト、n−プチルジフ
ェニルポスフイナイト、メチルジエチルホスフィナイト
、ジアセチルフェニルホスホナイト、(C130)(0
)P(1−1)(CaHi ) すどのオキシ酸のエス
テル類ナト、チ、レンクロロホスファイト、フェニル亜
ホスホン酸〉ロライド、フェニル亜ホスホン酸メチルブ
ロマイド、ジフェニル亜ホスフイン酸クロライド、ジエ
チル亜ホスフイン酸ブロマイドなど、(4)前記(1)
〜0)に例示した化合物類において、酸素額子の一部ま
たは全部をイオウ原子で置換した化合物、たとえば、ト
リメチルチオホスファイト、トリベンジルチオホスファ
イト、(C21(、S)、、 (C,H。
2−クロロエチルホスファイト、フェニルホスファイト
、メチルホスファイトなどの亜リン酸モノエステル、た
とえば、トリアセチルホスファイト、モノアセチルホス
ファイト、ブチルシアどのアシルホスファイト類、たと
えばジフェニルホスホネート、[(CH,0)P(0)
(1−1)01]2 (CH2)2、(C,、I−1
,0)P(0) (H)OP(0)(QC21−1,)
2などのホスホン酸エステルおよびその縮合化合物、
また、たとえば、フェニル亜ホスホン酸、エチル亜ホス
ホン酸、ベンジル亜ホスホン酸、ジフェニル亜ホスフィ
ン酸、ジエチル亜ホスフィン酸、ジシクロヘキシル亜ホ
スフィン酸、フェニルホスフィン酸、を−ブチルホスフ
ィン酸などの有機リン化合物のオキシ酸、また、ジメチ
ルフェニルホスホナイト、メチルブチルフェニルホスホ
ナイト、フェニルエチルホスホナイト、n−プチルジフ
ェニルポスフイナイト、メチルジエチルホスフィナイト
、ジアセチルフェニルホスホナイト、(C130)(0
)P(1−1)(CaHi ) すどのオキシ酸のエス
テル類ナト、チ、レンクロロホスファイト、フェニル亜
ホスホン酸〉ロライド、フェニル亜ホスホン酸メチルブ
ロマイド、ジフェニル亜ホスフイン酸クロライド、ジエ
チル亜ホスフイン酸ブロマイドなど、(4)前記(1)
〜0)に例示した化合物類において、酸素額子の一部ま
たは全部をイオウ原子で置換した化合物、たとえば、ト
リメチルチオホスファイト、トリベンジルチオホスファ
イト、(C21(、S)、、 (C,H。
o)p、〔(C2H50)2 P ’32 EE+、[
(C21(、)NC(S)S−”J3P、(CI−13
0)2PSH、Cl−13SPC12、(C,I−1,
S)2 ]〕(4,7工ニルチオ亜ホスホン酸など、 (5)同様に、窒素−リン結合を有する化合物、たとえ
ば、[(CI−13)2N)3P、 [(CH3)2
N)2 POC21−1s、〔(C113)2N〕2
POI上 (Ca ト1.NH)2 POI−1,(C
H30)2 PN(CII3)2、(C2’(!l )
2 NPC4などのアミド化合物があげられる。これら
のリン化合物のうち、好ましくは前記(1)〜(3)に
記載の化合物である。また、一般式(I)および一般式
(旧において、リン原子(P)が−p−o−(p)結合
、=p−o−(p)結合、三S i −0−(P )結
合、三5n−0−(P)結合、三〇e −0・当然、有
効に用いられる。
(C21(、)NC(S)S−”J3P、(CI−13
0)2PSH、Cl−13SPC12、(C,I−1,
S)2 ]〕(4,7工ニルチオ亜ホスホン酸など、 (5)同様に、窒素−リン結合を有する化合物、たとえ
ば、[(CI−13)2N)3P、 [(CH3)2
N)2 POC21−1s、〔(C113)2N〕2
POI上 (Ca ト1.NH)2 POI−1,(C
H30)2 PN(CII3)2、(C2’(!l )
2 NPC4などのアミド化合物があげられる。これら
のリン化合物のうち、好ましくは前記(1)〜(3)に
記載の化合物である。また、一般式(I)および一般式
(旧において、リン原子(P)が−p−o−(p)結合
、=p−o−(p)結合、三S i −0−(P )結
合、三5n−0−(P)結合、三〇e −0・当然、有
効に用いられる。
・ i
・1;本発明の方法におけるルテニウム化合物とは、′
=酸化炭素を配位子として錯体を形成するものであり
、反応条件下において一酸化炭素配位子を有するルテニ
ウム錯体となり、使用する液体媒体に溶解する。この錯
体は腫々のルテニウム化合物を前駆体として用いて、反
応条件下で生成させることができる。この前駆体として
のルテニウム化合物は、反応条件下において一酸化炭素
配位子を有するルテニウム錯体を生成するものであれば
、いずれも使用することができる。これらの例としては
、金属ルテニウムのほかに、二酸化ルテニウムや四酸化
ルテニウムなどのルテニウム酸化物、これらの水和物、
塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウムの
ようなルテニウムの鉱酸塩、酢酸ルテニウム、プロピオ
ン酸ルテニウムなどのルテニウムの有機酸塩などがある
。また、ルテニウム化合物は、配位化合物の形のもので
も直接用いることができ、これらの例としては、トリル
テニウムドデカカルボニルのようなルテニウムカルその
塩類などがあげられる。
=酸化炭素を配位子として錯体を形成するものであり
、反応条件下において一酸化炭素配位子を有するルテニ
ウム錯体となり、使用する液体媒体に溶解する。この錯
体は腫々のルテニウム化合物を前駆体として用いて、反
応条件下で生成させることができる。この前駆体として
のルテニウム化合物は、反応条件下において一酸化炭素
配位子を有するルテニウム錯体を生成するものであれば
、いずれも使用することができる。これらの例としては
、金属ルテニウムのほかに、二酸化ルテニウムや四酸化
ルテニウムなどのルテニウム酸化物、これらの水和物、
塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウムの
ようなルテニウムの鉱酸塩、酢酸ルテニウム、プロピオ
ン酸ルテニウムなどのルテニウムの有機酸塩などがある
。また、ルテニウム化合物は、配位化合物の形のもので
も直接用いることができ、これらの例としては、トリル
テニウムドデカカルボニルのようなルテニウムカルその
塩類などがあげられる。
これらのルテニウム化合物の中でも、ルテニウム酸化物
、ルテニウムハロゲン化物、ルテニウムカルボニル、あ
るいは、ルテニウムカルボニルの少くとも一部の一酸化
炭素配位子を、他の配位子でおきかえたルテニウム錯体
などが好ましい。
、ルテニウムハロゲン化物、ルテニウムカルボニル、あ
るいは、ルテニウムカルボニルの少くとも一部の一酸化
炭素配位子を、他の配位子でおきかえたルテニウム錯体
などが好ましい。
゛本発明の方法における元素周期律表第VIa族、第、
VIIa族および第Vlllα族から選ばれた少なくと
も1種の金属の化合物とは、クロム、モリブデン、タン
グステン、マンガン、レニウム、鉄、オスミウム、コバ
ルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムお
よび白金(以後、これらを添加触媒金属と称する)から
選ばれた少なくとも1種以上の化合物であって、やはり
反応条件下において、使用する液体媒体に溶解するよう
な一酸化炭素を含む配位子を有する金属錯体を形成する
ものである。この金属錯体はルテニウムの場合と同様に
、これらの金属元素の多種の金属化合物前駆体を甲いて
反応条件下で生成させることができる。
VIIa族および第Vlllα族から選ばれた少なくと
も1種の金属の化合物とは、クロム、モリブデン、タン
グステン、マンガン、レニウム、鉄、オスミウム、コバ
ルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムお
よび白金(以後、これらを添加触媒金属と称する)から
選ばれた少なくとも1種以上の化合物であって、やはり
反応条件下において、使用する液体媒体に溶解するよう
な一酸化炭素を含む配位子を有する金属錯体を形成する
ものである。この金属錯体はルテニウムの場合と同様に
、これらの金属元素の多種の金属化合物前駆体を甲いて
反応条件下で生成させることができる。
したがって、前駆体としての金属化合物は、反応元素状
態、酸化物、水酸什物、#、酸塩、有機酸塩、配位化合
物などがあげられる。これらの中でも、ルト、ヨウ化コ
バルト、硝酸コバルトのようなコバルト有機酸塩、酢酸
コバルト、安息香酸コバルト、ナフテン酸コバルトのよ
うなコバルトの有機、酸塩などがある。−また、このほ
か、配位化合物も使用することが可能で、この例として
は、ジコバルトオクタカルボニル、テトラコバルトドデ
カカルボニル、シクロペンタジエニルコバルトシヵルボ
ニルのよウナコバルト力ルボニルヤ、コバルトに酸素、
硫黄、ハロゲン、窒素、リン、ヒ素、アンチモニー、ビ
スマスなどを含む配位子などを配位させたコバルト錯体
や、その塩類などがあげられる。これらのコバルト化合
物の中でもコバルト酸化物、コバルトハロゲン(l<物
、コバルトカルボニル、コバルト有機酸塩、あるいは、
コバルトカルボニルの少くとも一部の一酸化炭素配位子
を仙の配位子でおきか六−たコバルト錯体などが好まし
C0)1□1M(CoR,u、(Co)、3、(ここに
、Mは水素もしくけ陽イオンである)などのルテニウム
・コバルトの異種核クラスターがあげられる。
態、酸化物、水酸什物、#、酸塩、有機酸塩、配位化合
物などがあげられる。これらの中でも、ルト、ヨウ化コ
バルト、硝酸コバルトのようなコバルト有機酸塩、酢酸
コバルト、安息香酸コバルト、ナフテン酸コバルトのよ
うなコバルトの有機、酸塩などがある。−また、このほ
か、配位化合物も使用することが可能で、この例として
は、ジコバルトオクタカルボニル、テトラコバルトドデ
カカルボニル、シクロペンタジエニルコバルトシヵルボ
ニルのよウナコバルト力ルボニルヤ、コバルトに酸素、
硫黄、ハロゲン、窒素、リン、ヒ素、アンチモニー、ビ
スマスなどを含む配位子などを配位させたコバルト錯体
や、その塩類などがあげられる。これらのコバルト化合
物の中でもコバルト酸化物、コバルトハロゲン(l<物
、コバルトカルボニル、コバルト有機酸塩、あるいは、
コバルトカルボニルの少くとも一部の一酸化炭素配位子
を仙の配位子でおきか六−たコバルト錯体などが好まし
C0)1□1M(CoR,u、(Co)、3、(ここに
、Mは水素もしくけ陽イオンである)などのルテニウム
・コバルトの異種核クラスターがあげられる。
塩基性化合物の絹合わせが用いられる。ハロゲン化物と
しては、金属元素および非金属元素の無機ハロゲン化物
や一般式(rfl) R1 馬−P−11,、X (TTr)R8 (一般式()I)において、R1、為、R3およびR4
は炭素数1〜20個を有するアルキル基、ア17−ル基
、アルカリール基、またはシクロアルキル基であり、X
はハロゲン陰イオンを示す)で表わされる4級ホスホニ
ウム塩、さらに、一般式(In)において、リン原子を
窒素園子でおきかえた4級アンモニウム塩などがあげら
れる。また、このほかに、環状アミンを含む4級アンモ
ニウム塩、アミンのハロゲン化水素塩およびイミニウム
塩などの形のハロゲン化物も本発明の目的を達成するの
に有効である。
しては、金属元素および非金属元素の無機ハロゲン化物
や一般式(rfl) R1 馬−P−11,、X (TTr)R8 (一般式()I)において、R1、為、R3およびR4
は炭素数1〜20個を有するアルキル基、ア17−ル基
、アルカリール基、またはシクロアルキル基であり、X
はハロゲン陰イオンを示す)で表わされる4級ホスホニ
ウム塩、さらに、一般式(In)において、リン原子を
窒素園子でおきかえた4級アンモニウム塩などがあげら
れる。また、このほかに、環状アミンを含む4級アンモ
ニウム塩、アミンのハロゲン化水素塩およびイミニウム
塩などの形のハロゲン化物も本発明の目的を達成するの
に有効である。
更に好ましく用いられるハロゲン化物の例としては、ヨ
ウ化ナトリウム、シュウ化リチウム、塩化セシウム、ヨ
ウ化バリウムなどのアルカリ金属テトラフェニルホスホ
ニウムクロライド、n−ヘプチルトリフェニルホスホニ
ウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロライド、ベンジルトリーローブチルホスホニウムクロ
ライド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイドな
どのホスホニウムハライド、ビス(トリフェニルホスフ
ィン)イミニウムクロライドのようなイミニウムハライ
ドなどがあげられる。
ウ化ナトリウム、シュウ化リチウム、塩化セシウム、ヨ
ウ化バリウムなどのアルカリ金属テトラフェニルホスホ
ニウムクロライド、n−ヘプチルトリフェニルホスホニ
ウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロライド、ベンジルトリーローブチルホスホニウムクロ
ライド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイドな
どのホスホニウムハライド、ビス(トリフェニルホスフ
ィン)イミニウムクロライドのようなイミニウムハライ
ドなどがあげられる。
本発明の方法では助触媒として、さらに塩基性化合物を
必要に応じて用いられる。用いられる塩るために、必ず
しもこの塩基性化合物の添加を必要としないh”−1触
媒の活性、選択性を調節する目的で、これらの塩基性化
合物を選択して使用することができる。このような周期
律表Vb族元素の少なくとも1種を含有する化合物とし
ては、たとえば、含窒素化合物として、アミン化合物、
イミノ化合物、ニトリロ化合物、アミド類またはクリプ
タンド類などが挙げられる。また、含リン化合物として
はトリオルガノホスフィン、トリオルガノホスフィンオ
キサイドなどて゛ある。またさらに、トリオルガノアル
シン、トリオルガノスチビンなどが挙げられる。好適な
例としては、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、
ピリジン、ピリミジン、 l、リーn−ブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリーn−プチルホスフ
インオキザイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、
トリフェニルアルシン、トリフェニルスチビンなどがあ
げられる。
必要に応じて用いられる。用いられる塩るために、必ず
しもこの塩基性化合物の添加を必要としないh”−1触
媒の活性、選択性を調節する目的で、これらの塩基性化
合物を選択して使用することができる。このような周期
律表Vb族元素の少なくとも1種を含有する化合物とし
ては、たとえば、含窒素化合物として、アミン化合物、
イミノ化合物、ニトリロ化合物、アミド類またはクリプ
タンド類などが挙げられる。また、含リン化合物として
はトリオルガノホスフィン、トリオルガノホスフィンオ
キサイドなどて゛ある。またさらに、トリオルガノアル
シン、トリオルガノスチビンなどが挙げられる。好適な
例としては、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、
ピリジン、ピリミジン、 l、リーn−ブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリーn−プチルホスフ
インオキザイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、
トリフェニルアルシン、トリフェニルスチビンなどがあ
げられる。
本発明の方法において用いる助触媒の量は、触う゛こと
もある。したがって、添加量の好ましい範囲はルテニウ
ムと添加触媒金属の和に対して次のとおりである。Vb
族元素の少なくとも1種を含有する塩基性化合物につい
ては、ルテニウムと添加触媒金属のダラム原子数の和に
対して0.001〜20倍のモル数で、また、ハロゲン
化物については同じくルテニウムと添す目触媒金属のダ
ラム原子数の和に対して、 0.1〜500倍のモル数
である。
もある。したがって、添加量の好ましい範囲はルテニウ
ムと添加触媒金属の和に対して次のとおりである。Vb
族元素の少なくとも1種を含有する塩基性化合物につい
ては、ルテニウムと添加触媒金属のダラム原子数の和に
対して0.001〜20倍のモル数で、また、ハロゲン
化物については同じくルテニウムと添す目触媒金属のダ
ラム原子数の和に対して、 0.1〜500倍のモル数
である。
さらに好ましくは、それぞれ0001〜10倍モル、1
1.1〜250倍モルの範囲である。
1.1〜250倍モルの範囲である。
、パ・げた、本発明の方法において用いる一般式(I)
の)リン化合物およびその平衡異性体である一般式([
[)のリン化合物は、ルテニウムと添加触媒金属のダラ
ム原子数の和に対して、一般式(I)およびまたは一般
式(n)のリン化合物をリン原子として0.001〜2
0倍、好ましくは0.01〜10倍の原子比になる範囲
で使用する。
の)リン化合物およびその平衡異性体である一般式([
[)のリン化合物は、ルテニウムと添加触媒金属のダラ
ム原子数の和に対して、一般式(I)およびまたは一般
式(n)のリン化合物をリン原子として0.001〜2
0倍、好ましくは0.01〜10倍の原子比になる範囲
で使用する。
本発明の方法を実施するには、非プロトン性溶媒を含有
する液体媒体が使用される。このような液体媒体は、非
プロトン性溶媒を20%以上含有ン、灯油、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ジュレン、ヘキサメチルベンゼン
などの飽和炭化水素および芳香族炭化水素、クロロペン
タン、O−ジクロロベンゼン、P−クロロトルエン、フ
ルオロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、ジオキサン
、=20= チロラクトンなどのエステル類、アセトン、アセトフェ
ノンなどのケトン類、N−メチルピロリジン−2−オン
、N−エチルピロリジン−2−オン、N、N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピペリドン、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミドなどのN−置換アミド類、N、N
−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジン
、キノリンなどの3級アミン類、スルホランなどのスル
ホン類、ジメチルスルホキサイドなどのスルホキサイド
類、などが挙げられる。さらに、シリコーンオイルおよ
び特殊な例として第4級アンモニウム塩やホスホニウム
塩の熔融塩なども挙げられる。これらの非プロトン性溶
媒は、学独で使用しても、2種類以−ヒを混合して使用
してもよい。
する液体媒体が使用される。このような液体媒体は、非
プロトン性溶媒を20%以上含有ン、灯油、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ジュレン、ヘキサメチルベンゼン
などの飽和炭化水素および芳香族炭化水素、クロロペン
タン、O−ジクロロベンゼン、P−クロロトルエン、フ
ルオロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、ジオキサン
、=20= チロラクトンなどのエステル類、アセトン、アセトフェ
ノンなどのケトン類、N−メチルピロリジン−2−オン
、N−エチルピロリジン−2−オン、N、N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピペリドン、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミドなどのN−置換アミド類、N、N
−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジン
、キノリンなどの3級アミン類、スルホランなどのスル
ホン類、ジメチルスルホキサイドなどのスルホキサイド
類、などが挙げられる。さらに、シリコーンオイルおよ
び特殊な例として第4級アンモニウム塩やホスホニウム
塩の熔融塩なども挙げられる。これらの非プロトン性溶
媒は、学独で使用しても、2種類以−ヒを混合して使用
してもよい。
また、液体媒体としては、前記の非プロトン性溶媒だけ
を用いてもよく、本発明の反応生成物であるメタノール
、エタノール、酢酸などのプロトン件の物質を混合して
用いることができる。したがって、反応器から取り出さ
れた反応液を、液体媒体として再び反応器へ循環して供
給することも可能である。さらに、前記以外のアルコー
ル、たとえばブタノール、シクロヘキサノールなど、お
よび前記以外のカルボン酸、たとえばプロピオン酸、安
息香酸なとも同様に非プロトン性溶媒と混合して使用す
ることができる。
を用いてもよく、本発明の反応生成物であるメタノール
、エタノール、酢酸などのプロトン件の物質を混合して
用いることができる。したがって、反応器から取り出さ
れた反応液を、液体媒体として再び反応器へ循環して供
給することも可能である。さらに、前記以外のアルコー
ル、たとえばブタノール、シクロヘキサノールなど、お
よび前記以外のカルボン酸、たとえばプロピオン酸、安
息香酸なとも同様に非プロトン性溶媒と混合して使用す
ることができる。
本発明の方法において反応温度は、特に制限はないが、
下限は実用的な反応速度を与える温度に、また、上限温
度は触媒としてのルテニウム化合物および添加触媒金属
の化合物が可溶化されるに必要な一酸化炭素分圧が極端
に高くならないよう、助触媒の分解や反応を抑制するよ
う、装置を構成する材料の機械的な強度が著しく低下し
ないよう、該材料の腐食が著しく速くならないよう、お
よび、メタンなどを生成する好ましくない副反応を抑制
するように決定すればよい。通常、反応温度の範囲は、
150〜300’C,好ましくは170〜280°Cま
た、本発明の方法において、反応圧力は主触媒として作
用するルテニウム化合物および添加触媒金属の化合物を
反応器f(Eにおいて可溶化させるに必要な畢低限の一
酸化炭素分圧と、実用的な反応速度を保つために必吟な
嘴低限の水素分圧の和からその下限が制限され、また、
反応装置の耐圧や、合成原料としての一酸化炭素および
水素の圧る。
下限は実用的な反応速度を与える温度に、また、上限温
度は触媒としてのルテニウム化合物および添加触媒金属
の化合物が可溶化されるに必要な一酸化炭素分圧が極端
に高くならないよう、助触媒の分解や反応を抑制するよ
う、装置を構成する材料の機械的な強度が著しく低下し
ないよう、該材料の腐食が著しく速くならないよう、お
よび、メタンなどを生成する好ましくない副反応を抑制
するように決定すればよい。通常、反応温度の範囲は、
150〜300’C,好ましくは170〜280°Cま
た、本発明の方法において、反応圧力は主触媒として作
用するルテニウム化合物および添加触媒金属の化合物を
反応器f(Eにおいて可溶化させるに必要な畢低限の一
酸化炭素分圧と、実用的な反応速度を保つために必吟な
嘴低限の水素分圧の和からその下限が制限され、また、
反応装置の耐圧や、合成原料としての一酸化炭素および
水素の圧る。
また、合成原料として使用する一酸化炭素と水素のモル
比は、化学量論的には1:1であるが、これ以外のモル
比においても反叱は充分進行する。。
比は、化学量論的には1:1であるが、これ以外のモル
比においても反叱は充分進行する。。
このモル比の範囲を制限する要因としては、例えば、反
応速度、酢酸)巽択性などがあり、これらを考慮して通
常は1: 10〜10:1の範囲が用いられる。しかし
、極端な例として、水の存在下、純−酸化炭素の使用や
、また二酸化炭素の存在下24− 純水素の使用であっても、反晦条件を選択するこたとえ
ばメタン車床を含有していても差し支えはない。
応速度、酢酸)巽択性などがあり、これらを考慮して通
常は1: 10〜10:1の範囲が用いられる。しかし
、極端な例として、水の存在下、純−酸化炭素の使用や
、また二酸化炭素の存在下24− 純水素の使用であっても、反晦条件を選択するこたとえ
ばメタン車床を含有していても差し支えはない。
また、本発明の方法において使用するルテニウム化合物
および添加触媒金属の化合物の液体媒体中における濃度
は通常、純ルテニウムおよび純添加触媒金属に喚算した
重量の和として、液体媒体1000重険部あたり0.1
〜100重量部の範囲である。また、ルテニウム化合物
と添加触媒金属の化合物の使用比率は原子比でルテニウ
ム:添加触媒金属が300 : ]〜1: 10の範囲
である。
および添加触媒金属の化合物の液体媒体中における濃度
は通常、純ルテニウムおよび純添加触媒金属に喚算した
重量の和として、液体媒体1000重険部あたり0.1
〜100重量部の範囲である。また、ルテニウム化合物
と添加触媒金属の化合物の使用比率は原子比でルテニウ
ム:添加触媒金属が300 : ]〜1: 10の範囲
である。
本発明の方法は、バッチ方式、半連続方式または連続方
式のいずれの方式によっても実施することかで詫る。ル
テニウム化合物、添加触媒金属の化合物、助触媒、リン
化合物および非プロトン性溶媒などは、反応器にバッチ
方式で加えてもよく、半連続式または連続式に供給する
こともできる。
式のいずれの方式によっても実施することかで詫る。ル
テニウム化合物、添加触媒金属の化合物、助触媒、リン
化合物および非プロトン性溶媒などは、反応器にバッチ
方式で加えてもよく、半連続式または連続式に供給する
こともできる。
生成物は公知の方法、たとえば蒸留、ストリッピングな
どの方法で取り出すことができ、場合によっては生成し
た酢酸エステルを力日水分解により酢酸とアルコールに
分解して、夫々を取り出すこともできる。また、必要に
応じて、触媒、助触媒、リン化合物、溶媒などを含む液
体溶媒は、再び反応器へ循環させて使用できる。
どの方法で取り出すことができ、場合によっては生成し
た酢酸エステルを力日水分解により酢酸とアルコールに
分解して、夫々を取り出すこともできる。また、必要に
応じて、触媒、助触媒、リン化合物、溶媒などを含む液
体溶媒は、再び反応器へ循環させて使用できる。
以下、実施例によって、本発明の方法をさらにパイレッ
クスガラス製ライナー使用)に、ルテニプロマイド3,
1ノ(7ミリモル)、ビス(トリフェニルホスフィン)
イミニウムクロライド2.01 ’;’(3,5ミリモ
ル)、トリフェニルホスファイト0.087シの、28
ミリモル)およびトルエン 15−を装入し、合成ガス
(CO:H2のモル比1:1)を室温にて330 kg
/AJゲージまで圧入した。攪拌下でオートクレーブを
加熱し内温か240°Cに達したところで一宇温度に保
ち、圧力調制弁を用いて合成ガスを導入することによっ
てオートクレーブ内の圧力を4501c9/酬ゲージに
保ち、2時間反応を行わせた。次いで、オートクレーブ
の加熱および合成ガスの導入を市め、室温まで冷却した
後、反応ガスおよび反応液を取り出し、ガスクロマトグ
ラフによって分析した。ただし、反応液は固形物を含ん
でおり、N−メチルピロリドンを加えて溶解して均一溶
液とした後分析した。反応液中に、酢酸12.8ミリモ
ノペ酢酸メチル0.5ミリモル、モルと炭酸ガスがわず
か検出された。
クスガラス製ライナー使用)に、ルテニプロマイド3,
1ノ(7ミリモル)、ビス(トリフェニルホスフィン)
イミニウムクロライド2.01 ’;’(3,5ミリモ
ル)、トリフェニルホスファイト0.087シの、28
ミリモル)およびトルエン 15−を装入し、合成ガス
(CO:H2のモル比1:1)を室温にて330 kg
/AJゲージまで圧入した。攪拌下でオートクレーブを
加熱し内温か240°Cに達したところで一宇温度に保
ち、圧力調制弁を用いて合成ガスを導入することによっ
てオートクレーブ内の圧力を4501c9/酬ゲージに
保ち、2時間反応を行わせた。次いで、オートクレーブ
の加熱および合成ガスの導入を市め、室温まで冷却した
後、反応ガスおよび反応液を取り出し、ガスクロマトグ
ラフによって分析した。ただし、反応液は固形物を含ん
でおり、N−メチルピロリドンを加えて溶解して均一溶
液とした後分析した。反応液中に、酢酸12.8ミリモ
ノペ酢酸メチル0.5ミリモル、モルと炭酸ガスがわず
か検出された。
実施例2
“・−)1ifll ] l/l°%fi゛j/<#“
/l/yN =/110)”527− りに塩化白金(IT)酸カリ(K2 P tc14 )
(1,093ミ’Jモルを用い、トリフェニルホスフ
ァイトの代りに亜リン酸(H3PO3) 0.28 ミ
+)モルを用いて、さら、にオートクレーブ内温を22
00Cに変更した以外は、吋様に実施した。分析の結果
、反応液中にメタノ゛−5し5.09ミリモル、エタノ
ール7.90ミリモル、n−フロパノール0.45 ミ
リモル、酢酸メチル0.64ミリモル、酢酸エチル0.
60ミリモル、酢酸0.06ミリモルおよび微量のギ酸
メチルが含まれていた。気相中には少量のメタンと炭酸
ガスがわずか検出された。
/l/yN =/110)”527− りに塩化白金(IT)酸カリ(K2 P tc14 )
(1,093ミ’Jモルを用い、トリフェニルホスフ
ァイトの代りに亜リン酸(H3PO3) 0.28 ミ
+)モルを用いて、さら、にオートクレーブ内温を22
00Cに変更した以外は、吋様に実施した。分析の結果
、反応液中にメタノ゛−5し5.09ミリモル、エタノ
ール7.90ミリモル、n−フロパノール0.45 ミ
リモル、酢酸メチル0.64ミリモル、酢酸エチル0.
60ミリモル、酢酸0.06ミリモルおよび微量のギ酸
メチルが含まれていた。気相中には少量のメタンと炭酸
ガスがわずか検出された。
実施例3〜11
実施例1で甲いたオートクレーブに、ルテニウムカルボ
ニル0.159 (RuとしてO07ミリグラム原子)
、コバルトカルボニル0.069 (Coとして0.2
3 ミIJグラム原子)、n−へブチルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド1.55 !7. ヒス(トリフ
ェニルホスフィン)イミニウムクロライド2.01 g
、第1表に示したリン化合物(0,23ガス(CO:
I−1,のモル比1:1)を室温にて290kg/ar
l ゲージまで圧入した。攪拌下でオートクレーブを加
熱し、内温か220℃に達したところで一一実施例3〜
11と同様に実施した結果を第1表に輌2表に示した量
のルテニウムカルボニル、添加′癩媒金属化合物、助触
媒、リン化合物と溶媒としてトルエン15郁を用いて、
実施例3〜11と同様に実施した。ただし、添加触媒金
属化合物としてCO2(CO)8、Cr(Co)、、R
e2(CO)1o1RH6(Co)+aおよびに2Pt
C4を用いた。結果を第2表に示す。
ニル0.159 (RuとしてO07ミリグラム原子)
、コバルトカルボニル0.069 (Coとして0.2
3 ミIJグラム原子)、n−へブチルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド1.55 !7. ヒス(トリフ
ェニルホスフィン)イミニウムクロライド2.01 g
、第1表に示したリン化合物(0,23ガス(CO:
I−1,のモル比1:1)を室温にて290kg/ar
l ゲージまで圧入した。攪拌下でオートクレーブを加
熱し、内温か220℃に達したところで一一実施例3〜
11と同様に実施した結果を第1表に輌2表に示した量
のルテニウムカルボニル、添加′癩媒金属化合物、助触
媒、リン化合物と溶媒としてトルエン15郁を用いて、
実施例3〜11と同様に実施した。ただし、添加触媒金
属化合物としてCO2(CO)8、Cr(Co)、、R
e2(CO)1o1RH6(Co)+aおよびに2Pt
C4を用いた。結果を第2表に示す。
実施例26
溶媒としてトルエンの代わりにn−へブタンを用いた以
外は実施例12〜25と同様に実施した。
外は実施例12〜25と同様に実施した。
結果を第2表に示す。
実施例27
溶媒としてトルエンの代わりにP−クロロトルエンを用
い、反応温度を240℃とした以外は実施例12〜25
と同様に実施した。ただし、添加触媒金属化合物として
Mn2(Co)10を用いた。結果を第2表に示す。
い、反応温度を240℃とした以外は実施例12〜25
と同様に実施した。ただし、添加触媒金属化合物として
Mn2(Co)10を用いた。結果を第2表に示す。
比較例J −m
ムカルボニル0.069 (Ruとして0.28ミリグ
ラム原子)、添加触媒金属化合物、助触媒、リン化合物
、および溶媒としてN−エチルピロリジン−2−オフ
l 5 rnlを装入し、合成ガス(Co :H,。
ラム原子)、添加触媒金属化合物、助触媒、リン化合物
、および溶媒としてN−エチルピロリジン−2−オフ
l 5 rnlを装入し、合成ガス(Co :H,。
のモル比1:1.5)を室温にて315 kg/εM
ゲージ他の反応条件と結果を第3表に示す。
ゲージ他の反応条件と結果を第3表に示す。
実施例31
オートクレーブに合成ガスを導入する圧力調制弁を用い
て、反応圧力を290kg1ct& ゲージに保った
μ外は実施例28〜30と同様に実施した。その他の反
応条件と結果を第3表に示す。
て、反応圧力を290kg1ct& ゲージに保った
μ外は実施例28〜30と同様に実施した。その他の反
応条件と結果を第3表に示す。
比較例n−1
実施例28〜30と同様に実施した。その他の反応条件
と結果を第3表に示す。ただし、比較例0〜史について
は、ルテニウム化合物として〔RuCl2(CO)、〕
2を用いた。
と結果を第3表に示す。ただし、比較例0〜史について
は、ルテニウム化合物として〔RuCl2(CO)、〕
2を用いた。
第1〜3表において、生成物の生成量は、エステルで生
成したものを、相当するアルコールおよび酢酸に換算し
、各々をメタノール、エタノールおよび酢酸に加えて、
その合量として表示した、また、生成物モル比のC2/
CIは(エタノール+酢酸)/(メタノール)を示す、
さらに、リン化合物の項において、phはフェニル基、
phoはフェノキシ基、EtOはエトキシ基、BuOは
n−ブトキシ基、phsはフェニルチオ基およびMe2
Nはジメチルアミノ基を示し、助触媒の項にお℃・て、
PPNClはビス(トリフェニルホスフィン)イミニウ
ムクロライド、HTBrはn−ヘプチルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド、TBBrはテトラ−n−ブチル
ホスホニウムブロマイド、BB(J’はベンジルトリー
−n−ブチルホスホニウムクロライドを示す。
成したものを、相当するアルコールおよび酢酸に換算し
、各々をメタノール、エタノールおよび酢酸に加えて、
その合量として表示した、また、生成物モル比のC2/
CIは(エタノール+酢酸)/(メタノール)を示す、
さらに、リン化合物の項において、phはフェニル基、
phoはフェノキシ基、EtOはエトキシ基、BuOは
n−ブトキシ基、phsはフェニルチオ基およびMe2
Nはジメチルアミノ基を示し、助触媒の項にお℃・て、
PPNClはビス(トリフェニルホスフィン)イミニウ
ムクロライド、HTBrはn−ヘプチルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド、TBBrはテトラ−n−ブチル
ホスホニウムブロマイド、BB(J’はベンジルトリー
−n−ブチルホスホニウムクロライドを示す。
特許量、願人 工業技術院長
35−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)−酸化炭素および水素を、ルテニウム化合物、元素
周期律表第■α族、第■α族および第■ユ族元素から選
ばれた少なくとも1種の金属の化合物ならびに助触媒を
含有する液体媒体中、加熱、加圧下において接触反応さ
せるにあたり〜液体媒体中に非プロトン性溶媒および一
般式(■)で表わされるリン化を物および/゛または一
般式(n)で表わされるリン化合物、 (I) (n) (一般式(I)、(I[)において、A、B、C,Dお
よびEは水素原子、・・ロゲン原子、炭素原子数1〜2
0のアルキル基・置換アルキル基eアリール基・置換ア
リール基またはアシル基、あるいはB、Cのうち少なく
とも1つはハロゲン原子、−OR+基、 5RII基ま
たは−N(R111)2基である。 Zは酸素原子または硫黄原子を示す。また、A、B、C
のうちの2個頃上が、またはり、 Eが互いに結びつい
て環を形成1.でもよい。なお、前記の、R1、R11
およびRI IIは水素原子−炭素原子数1〜20の置
換基を有することもあるアルキル基もしくはアリール基
またはアシル基である)を含有することを特徴とする含
酸素化合物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6234482A JPS58180436A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 含酸素化合物の製造方法 |
US06/633,507 US4569948A (en) | 1981-10-15 | 1984-07-23 | Preparation process of acetic acid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6234482A JPS58180436A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 含酸素化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180436A true JPS58180436A (ja) | 1983-10-21 |
JPS6110454B2 JPS6110454B2 (ja) | 1986-03-29 |
Family
ID=13197407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6234482A Granted JPS58180436A (ja) | 1981-10-15 | 1982-04-16 | 含酸素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58180436A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161935A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Agency Of Ind Science & Technol | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 |
JPS61218538A (ja) * | 1985-03-23 | 1986-09-29 | Agency Of Ind Science & Technol | 一価アルコ−ルの製造方法 |
JPS61218540A (ja) * | 1985-03-23 | 1986-09-29 | Agency Of Ind Science & Technol | エタノ−ルの製造方法 |
JPS61249939A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-07 | Agency Of Ind Science & Technol | C↓2含酸素化合物の製造方法 |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP6234482A patent/JPS58180436A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161935A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Agency Of Ind Science & Technol | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 |
JPS61218538A (ja) * | 1985-03-23 | 1986-09-29 | Agency Of Ind Science & Technol | 一価アルコ−ルの製造方法 |
JPS61218540A (ja) * | 1985-03-23 | 1986-09-29 | Agency Of Ind Science & Technol | エタノ−ルの製造方法 |
JPS632941B2 (ja) * | 1985-03-23 | 1988-01-21 | Kogyo Gijutsuin | |
JPS61249939A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-07 | Agency Of Ind Science & Technol | C↓2含酸素化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6110454B2 (ja) | 1986-03-29 |
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