JPS58175025A - 溶液濃度調整装置 - Google Patents

溶液濃度調整装置

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Publication number
JPS58175025A
JPS58175025A JP5676482A JP5676482A JPS58175025A JP S58175025 A JPS58175025 A JP S58175025A JP 5676482 A JP5676482 A JP 5676482A JP 5676482 A JP5676482 A JP 5676482A JP S58175025 A JPS58175025 A JP S58175025A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
pump
specific gravity
liquid
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP5676482A
Other languages
English (en)
Inventor
Mamoru Ogaki
小垣 守
Mitsunari Nagase
長瀬 光成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
METSUKU KK
Original Assignee
METSUKU KK
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Filing date
Publication date
Application filed by METSUKU KK filed Critical METSUKU KK
Priority to JP5676482A priority Critical patent/JPS58175025A/ja
Publication of JPS58175025A publication Critical patent/JPS58175025A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D21/00Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
    • G05D21/02Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は溶液績度ai!i!ll装置に関するものであ
り、更に詳しく云えば金属加工等の際に研磨液、切削液
等OII環使用される溶液の濃度(ま7tは比′IL)
を一定に維持するための溶液濃度調整装置に関するもの
1ある。
研磨液、切削液勢の加工用溶液は使用中に溶剤の蒸発に
よりその濃度が高くなるため、一定時間ごとに比重を測
定して蒸発した分だけ溶剤を補充して所望の濃度を維持
するようにする必要があり、これを自動的に行う装置と
して従来1例えば第2図に示すような装置が広く用いら
れている。丁なわち、それぞれヂンゾ4’Y有する溶液
タンク1′−稀釈液(11剤)タンク2−混合タンク1
1v設けて、加工用溶液および稀釈液vy9r望の一定
濃度の混合液が形成されるような割合!混合タンク1“
に給送し、攪拌機5′で充分攪拌して給液部分6′、例
えば研磨ロールに循環供給する。研磨作業の進行につれ
て溶剤蒸発により加工用溶液の濃度(比重)が増大する
と、混合タンク1′内に設けられた比重センナ6′と連
動して電路ケ開閉てる機構を介して、稀釈液タンク2′
のIンゾ4′が作動し、同5#に溶液タンク1′のポン
プを停止し、また何等かの原因1濡液比1f11減少す
ると浴液タンク1′のポンプが作動し、稀釈液タンク2
′のポンプな停止するようにして加工用溶液および稀釈
液の供給割合を変化させ溶液濃度の詞!11v行5よう
になっている。なお、溶液の濃度は比重と比例関係があ
つ【、比重の変化により一度の変化を知ることができる
ことは周知である。
このような従来の装置lにおいては、混合タンク1#は
所望濃度の溶液の貯槽として不可欠のものであり、この
ためには混合タンクは充分の容量ならびに混合能力を持
つことが必要である。
その上、各タンクには独立してポンプをそれぞれ設ける
必要があり、これらのことから装置全体の据付面積なら
びに維持費が増大するという不利益があつ九。
本発明によればこれらの不利益が排除され、装置全体を
小型化し、しかも唯1台のポンプだけ1正確かつ迅速に
溶液濃度の維持、調整を行うことが1きる。
以下に本発明の実施例を第1図によって説明すると、1
は浴液タンク、2は稀釈液タンク、6は研磨ロール醇の
給液部分1ある。溶液タンク1の上方に設置され友ポン
プ4は溶液タンクの吸込管5に連結されていて、また分
岐管6′%:介して稀釈液タンク2内にも通じており、
分岐管O途中には電磁弁7が設けられている。またポン
プ4の吐出口に連結されている送液管8は開閉弁9を介
して給液部分3に達していて、この送液管8の上端には
1つの箱体よりなる比重検知室10が開閉弁11を介し
て形成され、その内部に比重センサ12が散りつけられ
ている。ま友送液管8には開閉弁16を介して還流管1
4が設けられている。そして比重センサ12と電磁弁7
とは電気的に接続されており、比1センサ12により溶
液比重の変化が検知されると電磁弁7が開閉されるよう
になっている。なお、図中、15は流量調節管、16は
その開閉弁、17は比重検知室10の溢流排出管フある
O 本発明による上記構成の装fljは次のように運転され
る。送液管8Y介して給液部分3に給送される厳戒が所
望の濃度t#1持しているときには、電磁弁7は内部の
バネにより閉鎖状態となっており、し友がって浴液タン
ク1の溶液がポンプ4により給液部分に循環供給されて
いる。いま溶剤の蒸発等により液の濃度が所望値以上に
高くなると、比重検知室10円の比重センサ12を介し
て電磁弁7に電流が送られ、/2ネに抗して弁口が開放
される丸め、ポンプ4の吸込口は溶液タンク1および稀
釈液タンク2の両方に連通し、両タンク内の液が同時に
吸い上げられるが、稀釈液よりも溶液の方が比重が大き
いの1当然稀釈液の方がより多量に吸い上げられること
になり、両液はポンプで混合され、溶液濃度は次第に低
くなる。
高濃度溶液と稀釈液はポンプ4t−通過するときに既に
曳く混合されるが、この混合を更によくする皮めにポン
プ4の上方に還流管14′l¥:設け、その開閉弁15
Y予め適当に調節しておくことにより上昇液の一部を環
流管14t−介してポンプ1に戻し循環させるのがよい
こうして送液管8中の階液濃度が低下して所望値に達す
るとセンサ12Y介して電磁弁7は閉鎖し、再び溶液タ
ンク1円の溶液のみが給液部分に給送されることになる
ナオ、弁?、11.16は常圧開放されていて一定割合
フ給液部分6および比重検知1[10に分配供給されて
おり、溶液タンク1内の溶液濃度がセンサ12により常
に監視されるようになっている。
本発明の装置においては、上記のように、加工用溶液と
稀釈剤との混合攪拌Vw流管14′ft介して行5xめ
、従来の機械的攪拌に比べてはるかに効率よくかつ均一
に両液の混合が達成され、しかも攪拌動力が不l!1あ
る上に、この環流管14に連なる開閉弁13Y調節する
ことにより循環量のほか部分6に対する給送量も容易に
調節できて、ポンプ過負荷のかかるおそれがない。なお
、比重検知!10H比重センサ12に対して液の滞留部
が形成される程度の小型のもので充分である。
本発明の装置によれば、特別の混合タンクおよび混合装
置v必要とせず、溶液濃度(比1)の調節は極めて迅速
かつ正確に行うことが1きる。例えば比重a、96の加
工用溶液と比重0.786の活剤と1用い【、咳浴液の
比重な常に0.96±0.01の値に自動的に維持する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
11に11Nは、本発明の実施例馨示す説明図、wJ2
図は従来の装置の一例を示す説明図1ある。 図中符号=1は溶液タンク、2は稀釈液タンク、SFi
給液部分、4はポンプ、5は吸込管、6は分岐管、7は
電磁弁、8は送液管、10は比重検知室、12II′i
比重センサ、16開閉弁、14は還流管Y示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 溶液タンク1とポンプ4と給液部分6とからなる循環系
    、溶液タンク1とポンプ4と開閉弁16と還流管14と
    からなる循環系、および溶液タンク1とポンプ4と比重
    検知室10とからなる循環系を含み、比重検知内の比重
    センサ12により稀釈液Yポンプ4に供給するための電
    磁弁7の開閉を制御するよ5になっていること′4I:
    %徴とする溶液濃度調整装置。
JP5676482A 1982-04-07 1982-04-07 溶液濃度調整装置 Pending JPS58175025A (ja)

Priority Applications (1)

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JP5676482A JPS58175025A (ja) 1982-04-07 1982-04-07 溶液濃度調整装置

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JP5676482A JPS58175025A (ja) 1982-04-07 1982-04-07 溶液濃度調整装置

Publications (1)

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JPS58175025A true JPS58175025A (ja) 1983-10-14

Family

ID=13036557

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5676482A Pending JPS58175025A (ja) 1982-04-07 1982-04-07 溶液濃度調整装置

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