FI117276B - Nesteenkäsittelyjärjestelmä - Google Patents
Nesteenkäsittelyjärjestelmä Download PDFInfo
- Publication number
- FI117276B FI117276B FI971535A FI971535A FI117276B FI 117276 B FI117276 B FI 117276B FI 971535 A FI971535 A FI 971535A FI 971535 A FI971535 A FI 971535A FI 117276 B FI117276 B FI 117276B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- dosing
- sample
- scd
- main
- flow
- Prior art date
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 24
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000008394 flocculating agent Substances 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 2
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 1
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000015895 biscuits Nutrition 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000003311 flocculating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5209—Regulation methods for flocculation or precipitation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/34—Paper
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0329—Mixing of plural fluids of diverse characteristics or conditions
- Y10T137/0335—Controlled by consistency of mixture
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0329—Mixing of plural fluids of diverse characteristics or conditions
- Y10T137/034—Controlled by conductivity of mixture
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/2496—Self-proportioning or correlating systems
- Y10T137/2499—Mixture condition maintaining or sensing
- Y10T137/2501—Dividing and recombining flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/2496—Self-proportioning or correlating systems
- Y10T137/2499—Mixture condition maintaining or sensing
- Y10T137/2506—By viscosity or consistency
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/2496—Self-proportioning or correlating systems
- Y10T137/2499—Mixture condition maintaining or sensing
- Y10T137/2509—By optical or chemical property
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
117276
Nesteenkäsittelyjärjestelmä Tämä keksintö koskee nesteen pääsyöttörataa pitkin virtaavan nesteen käsittelyjärjestelmää, jossa on ensimmäinen annostelulaite primaarisen kemikaaliannoksen syöttämiseksi nesteeseen annostelupisteessä edellä mai-5 nitulla nesteen pääsyöttöradalla, laite nesteen näytevirtauksen ottamiseksi tietystä pisteestä nesteen pääsyöttöradalla annostelupisteen myötävirtapuolella, virtausilmaisin (SCD), joka on jäljestetty edellä mainittua nestevirtausta varten ja laitteet, jotka mahdollistavat primaarisen kemikaaliannoksen ohjaamisen SCD:n tulosteen mukaan. Keksintöä voidaan soveltaa paperiteollisuudessa, 10 kun hienojakoisista hiukkasista koostuva liete säestetään lisäämällä siihen jokin höytälöitymisaine, jolloin tämän höytälöitymisaineen annostelua ohjataan kuormitusmittauslaitteella suoritettujen mittausten perusteella.
Virtausilmaisin (SCD) on instrumentti, jota käytetään ilmaisemaan jonkin nesteen, esimerkiksi veden, kuormitustila. Tällä kuormitusilmaisulla saa-15 tuja tietoja voidaan sitten käyttää erilaisten vesiprosessien valvomiseen ja ohjaamiseen.
Vuosien kuluessa on kehitetty monia instrumentteja, joissa sovelletaan ns. virtausperiaatetta, ja yksi esimerkki niistä julkistetaan GB-patenttijul-kaisussa 2 235 782 ja esitetään oheisten piirustusten kuviossa 1. Esitetyn 20 kammion 10 tuloputkeen 32 syötetään näyte, joka on tullut näytteensyöttöput-kea 20 pitkin päänesteputkesta 15. Näyteneste tulee kanavaksi muodostet-: tuun näytekammioon 33, menee näytekammion 38 läpi ja poistuu poistoaukos- : V ta 34. Eristysrungon 39 reiässä moottorin (ei esitetty) käyttämänä liikkuvan männän 42 edestakainen liike imee toistuvasti pienen nestenäytteen kammion ·:**: 25 33 läpi menevästä nestevirtauksesta mittauskammioon 38 ja tähän liittyvä kuormitusmittaus suoritetaan renkaan muotoisten elektrodien 50 ja 51 avulla, * jotka on sijoitettu eristysrungossa olevan reiän iieriöseinämään.
Edellä selostettua virtauksen ilmaisun yleisperiaatetta, jolloin käytetään edestakaisin liikkuvaa mäntää ja eristysrungon reikään sijoitetussa män-30 nässä olevia, toisistaan erillisiä elektrodeja, sovelletaan monissa virtausil-**;a* maisimia valmistavien tehtaiden rakenteissa.
j.f: Kuviossa 2 esitetyssä nesteenkäsittelyjärjestelmässä, jossa käyte- tään kemikaalia A päänestesyötön käsittelemiseksi nesteen saostamista tai , \e höytälöitymistä varten ja se lisätään päänestevirtaan 15 näytteensyöttöputken 35 poistokohdan vastavirtapuolella, näyte, joka syötetään puheena olevaan virta-** ukseen, sisältää tämän kemikaalin A. Tämä kemikaali muodostaa dominoivan 117276 2 taustakuonmituksen ja signaalin ulostulo SCD-kammiösta, jolloin signaalia voidaan käyttää palautteena annosteluohjauslaitteistossa, kuuluu pääasiassa tähän taustakuormitukseen.
Kuvio 3 on tyypillinen lohkokaavio yksinkertaisesta nesteenkäsittely-5 järjestelmästä. Kun kemikaali on lisätty päänesteeseen, virtausiimaisin määrittää sitten näytteen laadun ja mittaa sitten sekä kemiallisen aineen lisäämisen synnyttämän kuormituksen että näytteen laadun. Jos oletetaan, että kemikaalia A annostellaan tietty määrä, signaalin poikkeaminen etukäteen määrätystä asetusarvosta, joka liittyy annosteiumäärään, voi johtua vain näytteen laadun 10 vaihtelusta. Annostelumäärä voidaan säätää sitten vastaavasti.
Tämä jäijestelmä automatisoidaan kuviossa 3 esitetyllä tavalla. Tässä kuviossa 3 esitetyssä järjestelmässä SCD 10:stä tuleva signaali 11 yhdistetään prosessinohjauslaitteeseen 54, joka ohjaa näytteen muuttuvaa laatua ja säätää päänesteeseen lisättävän kemikaalimäärän SCD-signaalin siirtä-15 miseksi takaisin etukäteen määrättyyn säätökohtaan.
Tätä kuviossa 3 esitetyssä järjestelmässä käytettyä palautteenoh-jaustekniikkaa sovelletaan useimmissa nykyisin käytettävissä saostumisen ohjausjärjestelmissä.
Tämä palautetekniikka nesteen tarkkailemiseksi ja käsittelemiseksi 20 voi olla tyydyttävä, kun sitä käytetään suhteellisen yksinkertaisessa jäijestel- mässä, esimerkiksi vesihuoltovedenpuhdistuslaitoksessa, jossa ei ole muita . huomattavia tekijöitä, jotka vaikuttavat näytenesteen kuormitustasoon, mutta ;;V järjestelmän teho laskee käytettäessä sitä monimutkaisemmissa sovellutuksis- * · · j f sa, esimerkiksi paperiteollisuudessa ja jätevedenkäsittelylaitoksissa. Tällöin *·· · 25 monet muut tekijät ja kemikaalit vaikuttavat koskettavan nesteen syöttämi- seen, esimerkiksi nestemäiseen paperimassaan, jolloin ne vaikuttavat neste- *· : '· näytteen kuormitustilaan ja ylittävät asianomaisen kemikaalin A vaikutuksen :T: (höytälöitymistä/saostamista varten) kokonaiskuormitustilaan. Koska SCD- kammio ei pysty tekemään eroa näiden erilaisten, kuormitustilan vaihtelun ai- : 30 heuttamien tekijöiden välillä, sen ulostulo voisi automaattisen palautesilmukan ** * .·*·. avulla saada aikaan vaihtelua kemikaalin A annosteluun, mikä ei liity oleelli- /·] sesti päänestesyötön varsinaiseen annosteluvaatimukseen.
· Käsiteltävän keksinnön tarkoituksena on lievittää tätä ongelmaa ja tätä varten onkin kehitetty keksinnön mukainen nesteenkäsittelyjärjestelmä, : 35 jolle on tunnusomaista, että siinä on toinen annostelulaite sekundaarisen ke- *·* : mikaaliannoksen syöttämiseksi näytevirtaukseen ja palautteen ohjaussilmuk- * « 3 117276 ka, jossa on edellä mainittu toinen annostelulaite ja näytteen annostelun ohjauslaite, joka on jäljestetty niin, että se ottaa vastaan SCD-tulosteen ja ohjaa toista annostelulaitetta SCD:n tulosteen mukaan.
Kun kemikaalin sekundaarinen annostelu näytteeseen tapahtuu, 5 sen vaikutus nähdään välittömästi SCD:n avulla. Näin ollen voidaan varmistaa, että SCD:n signaalin palauttaminen säätöpisteeseen on tapahtunut näytteen sekundaarisen kemikaaliannostelun oikealta tasolta.
Selostetuissa rakenteissa näytteen annostelun ohjauslaitteen tulostetta (SCD-ohjattua tulostetta) käytetään kemikaalin sekundaarisen annostelun 10 ja pääannostelun ohjaamiseen.
Järjestelmässä, jossa pääannostelua ohjataan automaattisesti SCD-ohjatun tulosteen avulla, kemikaalin pääsyötön annostelumäärä voidaan säätää suhteessa SCD-ohjatun lähtösignaalin vaihteluun; tämä vaihtelu on se vaihtelu, joka tarvitaan kemikaalin sekundaarisessa annostelussa SCD-säätö-15 pisteen säätämiseksi uudelleen.
Nestenäyte on mieluimmin nestevirta, joka virtaa jatkuvasti SCD-kammion läpi.
Joissakin tapauksissa kemikaalin pää- ja sekundaarinen annostelu suoritetaan samaa kemikaalia käyttäen.
20 Keksinnön suositeltavia rakenteita selostetaan nyt esimerkkinä viit taamalla oheisiin piirustuksiin, joissa : ... kuvio 1 esittää SCD-kammion käyttämistä GB-patenttijulkaisun IIV 2 235 782 mukaan nestenäytesyötön ohjaamiseksi, ! kuvio 2 esittää tällaista SCD-kammiota, jota käytetään jo tunnetulla • · * ; 25 tavalla yksinkertaisessa nesteenkäsittelyjärjestelmässä, kuvio 3 esittää SCD-kammiota, jota käytetään jo tunnetussa auto-: '*· maattisessa nesteenkäsittelyjärjestelmässä, v : kuvio 4 esittää kammiota, jota käytetään käsiteltävän keksinnön mu kaisessa nesteenkäsittelyjärjestelmässä pääannostelun ohjauksen tapahtues-: 30 sa käsin, ja kuvio 5 esittää kammiota, jota käytetään toisessa käsiteltävän kek-. \ sinnön mukaisessa nesteenkäsittelyjäijestelmässä pääannostelun ohjauksen tapahtuessa käsin.
***** Katsottaessa ensin kuviota 4, jossa vastaavista järjestelmän kom- : 35 ponenteista käytetään samoja viitenumerolta kuin kuvioissa 1 - 3, nesteenkä- sittelyjärjestelmää sovelletaan päänestevarastoon 15, joka on esimerkiksi nes- * * 117276 4 temäinen paperimassavarasto paperikonetta varten, tai jätenestevarastoon jä-tevedenkäsittelyjärjestelmässä, Näytteensyöttöputki 20 suuntautuu pääneste-varastosta 15 SCD-kammioon 10, kuten ennenkin; jo edellä selostetun kammion 10 rakenteen ja toiminnan selvittämistä uudelleen pidetään tarpeettoma-5 na.
Jälleen tietty pääannos A-kemikaalia, jolla höytälöidään tai saoste-taan suspendoituja hiukkasia käsittävä neste, syötetään päänestevarastoon 15, joka on näytteensyöttöputken 20 poistokohdan vastavirtapuolella. Tässä erikoisrakenteessa annostelupumppua 60, jolla pääannostelukemikaall A syö-10 tetään, ohjataan käsin käsiohjausyksikön 62 avulla.
Sekundaarinen lisäannos kemikaalia syötetään suoraan näytteen-syöttöputkeen 20, joka on SCD-kammion 10 vastavirtapuolella. Sekundaarinen kemikaali, jota nimitetään B-kemikaaliksi ja joka voi olla sama kuin A-ke-mikaali, on myös höytälöintiaine. SCD-kammion 10 lähtösignaaii 11 on yhdis-15 tetty tulosteenohjaussilmukassa 64 omaan ohjauslaitteeseensa 66, jolloin se ohjaa B-kemikaalin annostelua, jonka sekundaarinen annostelupumppu 68 suorittaa, nesteensyöttöputkeen. Ohjauslaite 66 on järjestetty niin, että se ohjaa sekundaarisen kemikaaliannoksen signaalin 11 pitämiseksi etukäteen määrätyssä sisäsäätöpisteessä, joka vastaa haluttua kuormitustilaa, joka voi 20 olla noltakuormrtustila, ts. alalla tunnettu isoelektrinen nolla. Näin ollen sekundaarisen kemikaalin annosteiumäärä on sellainen, että se saa aikaan kuorma-; t. tun näytenesteen neutraloinnin, ja SCD-ohjattu tuloste (ohjauslaitteen 66 tu- " Y loste) on kokonaiskuormitustilan tai päänestevaraston kationitarpeen mitta.
• · 9 \ f Nytkin B-kemikaalin tiettyä annostelumäärää varten signaalin 11 jo- ·** | 25 kainen vaihtelu säätöpisteeseen nähden kuvaa näytenesteen kuormitustilan muutosta ja tämän vuoksi myös päänestevaraston nesteen kuormitustilan • · ; '·· muutosta. A-kemikaalin tiettyä annostelumäärää varten tämä pääsyöttönes- :T: teen kuormitustilan muutos johtuu muista kuormitustilaan kohdistuvista vaiku tuksista (päävirtauksen kationitarve), esimerkiksi muiden lisäaineiden annoste- : 30 lutasojen vaihtelusta.
• ·
Koska ohjaussilmukka 64 toimii SCD:n ympärillä näytteen syötössä, /*·* B-kemikaalin annostelun vaikutus voidaan nähdä suoraan SCD:n avulla ja var- : mistaa, että SCD-signaalin palauttaminen säätöpisteeseen on tapahtunut B- kemikaalin annostelun oikealta tasolta, joka tarvitaan näytesyötön kationitar- : 35 peen tyydyttämiseksi.
• * « · · • ♦♦ ♦ · 117276 5
Kun tunnetaan pää- ja näytenesteen virtausnopeudet ja B-ke-mikaalin annostelumäärä (ts. näytenesteen kationintarve), on helppoa laskea sitten päänesteen kationintarve käyttämällä virtausmääräsuhdetta ja soveltaa sitten tätä parametriä pumpun 60 käsiohjaukseen, joka tapahtuu käsioh-5 jausyksiköllä 62.
Koska A-kemikaalin teho päänestevaraston höytälöintiä/saostusta varten riippuu hyvin paljon päänesteen kationintarpeesta, päävirtauksen kationintarve on pääkemikaalin annostelussa primaarinen, muuttuva ohjauspara-metri. Etukäteen määrätty ohjaustoiminto yhdistää tämän päävirtauksen katio-10 nintarpeen pääkemikaalin annostelumäärään.
Kuvion 4 mukaisen ensimmäisen rakenteen automatisointi voidaan suorittaa kuviossa 5 esitetyllä tavalla lisäämällä rakenteeseen toiminnanoh-jauslaite 70, joka ottaa tulosteen SCD:n palautesilmukkaohjauslaitteesta 66 annosteiupumppuun 68 syötettynä ja soveltaa automaattisesti edellä mainittua 15 suhdetta, ts. päävirtausmäärä:näytteen virtausmäärä, niin että voidaan ohjata annosmäärää päävirtauksen kationintarpeen määrittämiseksi ja pääannoste-lupumpun 60 ohjaamiseksi sopivalla tavalla.
Edellä selostetuilla rakenteilla voidaan ohjata sopivalla tavalla hiuta-loittumis- ja saostusaineen lisäainetta monimutkaisissa nesteenkäsittelyjärjes-20 telmissä, joissa on muita vaikutuksia nesteen kuormitustilaan.
• * « * « « I « ft·· ft ft· S ft · ft ft « ft ft ft · • ft « • ft « «•ft · ft · • · ft « ft ft· • ft · · • ft · « • ft ft · ft · · • ft ft ft ft* ft ft ft « ft · · • ft · • ft · ft ft · ft ·· ft • ft ft ft » ft a ft·· ft ft ft « ft • ft · ··· ft ft ft · · ft ·» ft ft
Claims (10)
1. Nesteen pääsyöttörataa (15) pitkin viilaavan nesteen käsittelyjärjestelmä, jossa on ensimmäinen annostelulaite (60) primaarisen kemikaaliannoksen 5 (A) syöttämiseksi nesteeseen annostelupisteessä edellä mainitulla nesteen pääsyöttöradalla, laite (20) nesteen näytevirtauksen ottamiseksi tietystä pisteestä nesteen pääsyöttöradalla annostelupisteen myötävirtapuolella, virtausilmaisin (SCD) (10), joka on jäljestetty edellä mainittua nes-10 tevirtausta varten ja laitteet (62; 70), jotka mahdollistavat primaarisen kemikaaliannoksen ohjaamisen SCD:n tulosteen mukaan, tunnettu siitä, että siinä on toinen annostelulaite (68) sekundaarisen kemikaaliannoksen (75) syöttämiseksi näytevirtaukseen ja palautteen ohjaussilmukka (64), jossa on edellä mainittu 15 toinen annostelulaite ja näytteen annostelun ohjauslaite (66), joka on jäljestetty niin, että se ottaa vastaan SCD-tulosteen ja ohjaa toista annostelulaitetta SCD:n tulosteen mukaan.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen jäijestelmä, tunnettu siitä, että näytteen annostelun ohjauslaite (66) on jäljestetty ohjaamaan sekä toista 20 annostelulaitetta (68) palautesilmukassa että ensimmäistä annostelulaitetta (60) laitteen (70) ollessa jäljestetty niin, että se ohjaa automaattisesti ensim-: mäistä annostelulaitetta näytteen annostelun ohjauslaitteen tulosteen mukaan. : V
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen jäijestelmä, tunnettu siitä, että SCD (10) on suunniteltu niin, että se ottaa vastaan nestevirtauksen *:*·: 25 ja kuljettaa edelleen sen sisääntulosta (32) sen poistoaukkoon (34) siihen muodostetun kanavan (33) läpi.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen jäijestelmä, tunnettu siitä, että SCD on jäljestetty niin, että se ottaa vastaan jatkuvan näytevirtauksen, jo-a ka tulee nesteen pääsyöttöradasta.
5. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen jäijestelmä, '*:** tunnettu siitä, että ensimmäinen annostelulaite ja toinen annostelulaite käsittävät vastaavat annostelupumput (60, 68) pääkemikaaliannoksen (A) syöttämiseksi nesteen pääviitausrataan (15) ja sekundaarisen kemikaalian-. X noksen (b) syöttämiseksi vastaavasti näytevirtaukseen. V'! 35
6. Patenttivaatimuksen 3 ja jonkin siihen liittyvän patenttivaatimuk- ** sen mukainen jäijestelmä, tunnettu siitä, että edellä mainittu SCD kasit- 117276 7 tää männälle tarkoitetun rungon (39), joka on sijoitettu kanavan toiselle puolelle männän (42) liikkuessa edestakaisin rungon reiässä ja imiessä toistuvasti nestenäyttertä reikään nesteestä, joka virtaa kanavassa, ja elektrodit (50, 51), jotka ovat tietyllä etäisyydellä toisistaan edellä mainitussa reiässä ja suunnattu 5 nestenäytteiden liikesuuntaan ja synnyttävät lähtösignaalin, joka esittää näy-tenesteen kuormitustilaa.
7. Nesteenkäsittelymenetelmä, tunnettu siitä, että virtausilmai-sin (SCD) (10) ottaa vastaan näytevirran (20) nesteen pääsyötöstä (15), kun pääannostelu kemikaalia (A) on tehtyjä että pääannostelu tapahtuu SCD:n tu- 10 losteen mukaan, jolloin sekundaarinen kemikaaliannos (B) on syötetty näytteeseen palauteohjaussilmukassa (64) olevan SCD:n tulosteen ohjauksen alaisena ja että SCD:stä (10) tuleva signaali sekä syötetään palautesilmukas-sa olevaan annostelun ohjauslaitteeseen (66) että se käytetään pääannoste-lun ohjaamiseen.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen nesteenkäsittelymenetelmä, tunnettu siitä, että pääannosteluun ja sekundaariseen annosteluun käytetään samaa kemikaalia.
9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen nesteenkäsittelymenetelmä, tunnettu siitä, että näytteen annostelun ohjauslaitetta (66) käytetään 20 ohjaamaan sekä sekundaarista kemikaalin annostelua palautesilmukan avulla että pääannostelua automaattisen ohjauslaitteen (70) avulla, joka ottaa vas-. , taan näytteen annostelun ohjauslaitteen tulosteen.
10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen nesteenkäsittelyjärjestelmä, \ l tunnettu siitä, että automaattinen ohjauslaite (70) määrittää automaatti- !·: : 25 sesti päävirtaussyötön kationintarpeen näytevirtauksen kationintarpeen avulla näytteen annostelun ohjauslaitteen tulosteesta päävirtauksen ja nestevirtauk-sen välisen suhteen mukaisesti. ··· • · · I « I » • · · * · I »ei • · • « M» • * • · · • · * **· · • · • 9 Ml 9 • t I « 9 9 9 «M * 9 • t · ·. *: 8 117276
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9420627 | 1994-10-13 | ||
GB9420627A GB9420627D0 (en) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | Fluid treatment system |
PCT/GB1995/002437 WO1996011883A1 (en) | 1994-10-13 | 1995-10-13 | A fluid treatment system |
GB9502437 | 1995-10-13 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI971535A0 FI971535A0 (fi) | 1997-04-11 |
FI971535A FI971535A (fi) | 1997-04-11 |
FI117276B true FI117276B (fi) | 2006-08-31 |
Family
ID=10762764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI971535A FI117276B (fi) | 1994-10-13 | 1997-04-11 | Nesteenkäsittelyjärjestelmä |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5829466A (fi) |
EP (1) | EP0785910B1 (fi) |
JP (1) | JP3645267B2 (fi) |
AT (1) | ATE187704T1 (fi) |
AU (1) | AU716428B2 (fi) |
CA (1) | CA2202361C (fi) |
DE (1) | DE69513996T2 (fi) |
DK (1) | DK0785910T3 (fi) |
ES (1) | ES2143076T3 (fi) |
FI (1) | FI117276B (fi) |
GB (2) | GB9420627D0 (fi) |
NZ (1) | NZ293682A (fi) |
WO (1) | WO1996011883A1 (fi) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19621142A1 (de) * | 1996-05-15 | 1997-11-20 | Berliner Wasser Betriebe | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Schlammentwässerung in Klärwerken |
GB2322367A (en) * | 1997-02-22 | 1998-08-26 | Roger Charles Byers King | Controlling the dosage or concentration of a bacterial additive |
US6068012A (en) * | 1998-12-29 | 2000-05-30 | Ashland, Inc. | Performance-based control system |
US7659839B2 (en) * | 2007-08-15 | 2010-02-09 | Ternarylogic Llc | Methods and systems for modifying the statistical distribution of symbols in a coded message |
US8577026B2 (en) | 2010-12-29 | 2013-11-05 | Ternarylogic Llc | Methods and apparatus in alternate finite field based coders and decoders |
US20070202603A1 (en) * | 2006-02-27 | 2007-08-30 | Steven Wayne Counts | Apparatus and method for sampling and correcting fluids |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4031912A (en) * | 1976-06-04 | 1977-06-28 | Gaf Corporation | Reactants addition and concentration control system |
DE3125452C2 (de) * | 1981-06-29 | 1985-09-12 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Entgiften und zum Absenken des CSB und des BSB in kontinuierlichen Abwasserströmen mit wechselnden Gehalten verschiedener oxidierbarer Inhaltsstoffe mit Wasserstoffperoxid |
US4855061A (en) * | 1988-04-26 | 1989-08-08 | Cpc Engineering Corporation | Method and apparatus for controlling the coagulant dosage for water treatment |
GB8919513D0 (en) * | 1989-08-29 | 1989-10-11 | Lasertrim Ltd | Streaming current detector |
DE4112391A1 (de) * | 1991-04-16 | 1992-10-22 | Passavant Werke | Verfahren zur optimierung des flockungsmittel- und flockungshilfsmittel-einsatzes bei der nachfaellung von rest-phosphor-gehalten im ablauf von kommunalen klaeranlagen |
-
1994
- 1994-10-13 GB GB9420627A patent/GB9420627D0/en active Pending
-
1995
- 1995-10-13 DK DK95933560T patent/DK0785910T3/da active
- 1995-10-13 CA CA002202361A patent/CA2202361C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 US US08/817,105 patent/US5829466A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 ES ES95933560T patent/ES2143076T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-13 EP EP95933560A patent/EP0785910B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-13 WO PCT/GB1995/002437 patent/WO1996011883A1/en active IP Right Grant
- 1995-10-13 JP JP51304196A patent/JP3645267B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 GB GB9520968A patent/GB2294038A/en not_active Withdrawn
- 1995-10-13 DE DE69513996T patent/DE69513996T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 AU AU36171/95A patent/AU716428B2/en not_active Ceased
- 1995-10-13 NZ NZ293682A patent/NZ293682A/xx unknown
- 1995-10-13 AT AT95933560T patent/ATE187704T1/de not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-11 FI FI971535A patent/FI117276B/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NZ293682A (en) | 1997-08-22 |
DE69513996D1 (de) | 2000-01-20 |
FI971535A0 (fi) | 1997-04-11 |
GB9420627D0 (en) | 1994-11-30 |
DE69513996T2 (de) | 2000-07-20 |
GB9520968D0 (en) | 1995-12-13 |
CA2202361C (en) | 2007-01-09 |
JPH10507267A (ja) | 1998-07-14 |
US5829466A (en) | 1998-11-03 |
EP0785910B1 (en) | 1999-12-15 |
AU716428B2 (en) | 2000-02-24 |
CA2202361A1 (en) | 1996-04-25 |
WO1996011883A1 (en) | 1996-04-25 |
ATE187704T1 (de) | 2000-01-15 |
ES2143076T3 (es) | 2000-05-01 |
DK0785910T3 (da) | 2000-05-29 |
AU3617195A (en) | 1996-05-06 |
GB2294038A (en) | 1996-04-17 |
JP3645267B2 (ja) | 2005-05-11 |
FI971535A (fi) | 1997-04-11 |
EP0785910A1 (en) | 1997-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63166500A (ja) | 汚泥のコンデシヨニング及び脱水のための方法 | |
FI117276B (fi) | Nesteenkäsittelyjärjestelmä | |
US4762727A (en) | Method for applying a liquefiable material onto a substrate conveyed in form of a web | |
US4873057A (en) | Apparatus for carrying out a titration procedure for the chemical analysis of a sample | |
US4116834A (en) | Apparatus for increasing the pH of waste water | |
EP0840117B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln der Konzentration eines Stoffes in einem gasförmigen Medium | |
US5246590A (en) | Water treatment to reduce fog levels controlled with streaming current detector | |
CN210066360U (zh) | 一种造纸用杀菌剂添加系统 | |
GB2594426A (en) | Conductivity control of aqueous chemical dosing in water treatment systems | |
FI68917B (fi) | Doseringsanordning | |
FI107645B (fi) | Automaattinen näytteenotto- ja käsittelyjärjestelmä | |
KR200333467Y1 (ko) | 수처리용 자동 비례 약품 주입장치 | |
US5531905A (en) | System and method to control laundry waste water treatment | |
RU2704037C1 (ru) | Установка дозирования реагента в трубопровод | |
CN207623800U (zh) | 油墨检测配比控制器 | |
US20140352412A1 (en) | Method and apparatus for measurement and control of process parameters | |
KR101839475B1 (ko) | 희석식 슬러지 농도 측정장치 및 이를 구비하는 슬러지 처리 시스템 | |
JPH04371218A (ja) | 膜分離装置の給液装置 | |
SU695694A1 (ru) | Устройство дл автоматического управлени введением реагентов в поток нефти или нефтепродукта | |
JPH03131399A (ja) | 低流量時の汚泥濃縮方法 | |
KR20040031099A (ko) | 액체 유량 측정 방법 및 장치 | |
CN106315775A (zh) | 铁碳微电解和芬顿联合工艺计量控制系统 | |
JP2020097008A (ja) | トルク式汚泥濃度計ユニット | |
DE2807733B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Aktivität eines belasteten Belebtschlammes | |
DE102007004036B4 (de) | Dosiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Reagenzmischung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG | Patent granted |
Ref document number: 117276 Country of ref document: FI |
|
MA | Patent expired |