JPS58172768A - 縁取りパタ−ン作成方法 - Google Patents
縁取りパタ−ン作成方法Info
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- JPS58172768A JPS58172768A JP5445382A JP5445382A JPS58172768A JP S58172768 A JPS58172768 A JP S58172768A JP 5445382 A JP5445382 A JP 5445382A JP 5445382 A JP5445382 A JP 5445382A JP S58172768 A JPS58172768 A JP S58172768A
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- JP
- Japan
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- pattern
- shift
- shift pattern
- shifted
- cell
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000007688 edging Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 206010011224 Cough Diseases 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- KSQXVLVXUFHGJQ-UHFFFAOYSA-N sodium;2-phenylphenol Chemical compound [Na+].OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 KSQXVLVXUFHGJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T3/00—Geometric image transformations in the plane of the image
- G06T3/60—Rotation of whole images or parts thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、地紋パターンとの境界を明瞭にするために文
字パターン等の周囲に設ける縁取りパターンの作成方法
に関する。
字パターン等の周囲に設ける縁取りパターンの作成方法
に関する。
技術の背景
新聞等で地紋付きの見出しを作成する際に、文字パター
ンと地紋パターンとの境界に縁取りをして文字パターン
を見やすくすることが多い。
ンと地紋パターンとの境界に縁取りをして文字パターン
を見やすくすることが多い。
従来技術と問題点
第１図は針算機処理により自動的に原画パターンから縁
取りパターンを作成する方法の一例で、（ａｌはこの処
理に用いるメモリ１０の説明図である。
取りパターンを作成する方法の一例で、（ａｌはこの処
理に用いるメモリ１０の説明図である。
このメモリ１０はそれぞれが１画素または１ドツトを記
憶できる単位記憶領域（以下セルという）１１をマトリ
クス状に配列したものとされ、各画素が＋−で示される
原画パターン２０はこのメモリ上に展開される。原画パ
ターン２０の周囲に■〜■印で示される画素が本作成方
法による縁取りパターン３０を構成する画素であるが、
この作成要領は各画素をト、下、左、右に１セルシフト
し、その都度シフト前のパターンとオアをとるというも
のである。第り図ｔｂ＋はこのシフト方向を示す。具体
的には原画パターン２０をメモリ１０上に展開したらこ
れを上、下、左、右方向のいずれかに（順序は問わない
）ｌセル分ずつシフトして、空きセルに原画パターン２
０のシフト方向前縁画素を順次移転する。■は原画パタ
ーン２０の上縁画素を右方向に１セル分離れたセルに複
写した画素である。■、■、■もそれぞれ左、下、右方
向に１セル分離れたセルに複写された画素であるが、複
写順序が後になるほど、シフト毎にシフト前の画素との
オアをとるので画素数が多くなる。例えば複写画素■は
原画パターン２０に複写画素■を加えたパターン（１次
シフトパターン）の左縁のものを左方向に１セルシフト
して得られる。以Ｆ同様で、複写画素■は−Ｆ記の１次
シフトパターンに複写画素■を加えたパターン（２次シ
フトパターン）の下縁のものを下方向に１セルシフトし
て得られ、また複写画素■は上記の２次シフトパターン
に複写画素■を加えたパターン（３次シフトパターン）
の右縁のものを右方向に１セルシフトして得られる。第
１図（Ｃ１の縁取りパターン３０は１．上記の３次シフ
トパターンに複写画素■を加えたパターン（４次シフト
パターン）から原画パターン２０を除くことで得られた
ものである。
憶できる単位記憶領域（以下セルという）１１をマトリ
クス状に配列したものとされ、各画素が＋−で示される
原画パターン２０はこのメモリ上に展開される。原画パ
ターン２０の周囲に■〜■印で示される画素が本作成方
法による縁取りパターン３０を構成する画素であるが、
この作成要領は各画素をト、下、左、右に１セルシフト
し、その都度シフト前のパターンとオアをとるというも
のである。第り図ｔｂ＋はこのシフト方向を示す。具体
的には原画パターン２０をメモリ１０上に展開したらこ
れを上、下、左、右方向のいずれかに（順序は問わない
）ｌセル分ずつシフトして、空きセルに原画パターン２
０のシフト方向前縁画素を順次移転する。■は原画パタ
ーン２０の上縁画素を右方向に１セル分離れたセルに複
写した画素である。■、■、■もそれぞれ左、下、右方
向に１セル分離れたセルに複写された画素であるが、複
写順序が後になるほど、シフト毎にシフト前の画素との
オアをとるので画素数が多くなる。例えば複写画素■は
原画パターン２０に複写画素■を加えたパターン（１次
シフトパターン）の左縁のものを左方向に１セルシフト
して得られる。以Ｆ同様で、複写画素■は−Ｆ記の１次
シフトパターンに複写画素■を加えたパターン（２次シ
フトパターン）の下縁のものを下方向に１セルシフトし
て得られ、また複写画素■は上記の２次シフトパターン
に複写画素■を加えたパターン（３次シフトパターン）
の右縁のものを右方向に１セルシフトして得られる。第
１図（Ｃ１の縁取りパターン３０は１．上記の３次シフ
トパターンに複写画素■を加えたパターン（４次シフト
パターン）から原画パターン２０を除くことで得られた
ものである。
ところがこの方法には次の問題がある。（１）縁取りパ
ターン３０の斜めの′線３１の幅が横もしくは縦の線３
２の幅の儒倍に太くなる。本例では縁取リパターンの縦
、横部分の幅つまり厚みは１セル ゛であるのに
対し、斜め部分の幅つまり厚みは縦、横方向では２セル
、斜め部分と直角な方向ではａセルとなる。一般に縦、
横部分の厚みがｎなら斜め部分の厚みはηｎになる。（
２）縁取りパターン３０の隅部３３が原画パターンをそ
のまま拡大したものとなり、原画パターンの角が角ぼっ
ておれば縁取りパターンも角ぼる。（３）４次シフトパ
ターンを得た段階での横もしくは縦の線（縁取り）３２
の幅は１ドツト（画素）分であるから、全体に太い縁取
りをする場合には更に５次、６次−−−一とシフトを重
ねる必要があり処理速度が遅い。
ターン３０の斜めの′線３１の幅が横もしくは縦の線３
２の幅の儒倍に太くなる。本例では縁取リパターンの縦
、横部分の幅つまり厚みは１セル ゛であるのに
対し、斜め部分の幅つまり厚みは縦、横方向では２セル
、斜め部分と直角な方向ではａセルとなる。一般に縦、
横部分の厚みがｎなら斜め部分の厚みはηｎになる。（
２）縁取りパターン３０の隅部３３が原画パターンをそ
のまま拡大したものとなり、原画パターンの角が角ぼっ
ておれば縁取りパターンも角ぼる。（３）４次シフトパ
ターンを得た段階での横もしくは縦の線（縁取り）３２
の幅は１ドツト（画素）分であるから、全体に太い縁取
りをする場合には更に５次、６次−−−一とシフトを重
ねる必要があり処理速度が遅い。
発明の目的
本発明は画素のシフト方向を直交系（画素の配列方向）
ではなく該直交系に対し４５°傾いた交叉系とすること
により上述した問題点を解決しようとするものである。
ではなく該直交系に対し４５°傾いた交叉系とすること
により上述した問題点を解決しようとするものである。
発明の構成
本発明の縁取りパターン作成方法はメモリ上に画素の東
金として表わされる文字、図形等の原画パターンを展開
し、そして該原画パターンを斜め方向に１セル分シフト
しかつ元の原画パターンとの論理和をとって１次シフト
パターンを形成し、次いで該１次シフトパターンを異な
る斜め方向に１セル分シフトしかつシフト前のパターン
と論理和をとって２次シフトパターンを形成し、また咳
２次シフトパターンをさらに異なる斜め方向に１セル分
シフトしかつシフト前のパターンと論理和をとって３次
シフトパターンを形成し、しかる後膣３次シフトパター
ンを残りの斜め方向に１セル分シフトしてかつシフト前
パターンと論理をとって４次シフトパターンを形成し、
そして該４次シフトパターンもしくは同様の手順で形成
されたさらに高次のシフトパターンから該原画パターン
を除くことによって縁取りパターンを得ることを特徴と
するが、以下図面を参照しながらこれを詳細に一見明す
る。
金として表わされる文字、図形等の原画パターンを展開
し、そして該原画パターンを斜め方向に１セル分シフト
しかつ元の原画パターンとの論理和をとって１次シフト
パターンを形成し、次いで該１次シフトパターンを異な
る斜め方向に１セル分シフトしかつシフト前のパターン
と論理和をとって２次シフトパターンを形成し、また咳
２次シフトパターンをさらに異なる斜め方向に１セル分
シフトしかつシフト前のパターンと論理和をとって３次
シフトパターンを形成し、しかる後膣３次シフトパター
ンを残りの斜め方向に１セル分シフトしてかつシフト前
パターンと論理をとって４次シフトパターンを形成し、
そして該４次シフトパターンもしくは同様の手順で形成
されたさらに高次のシフトパターンから該原画パターン
を除くことによって縁取りパターンを得ることを特徴と
するが、以下図面を参照しながらこれを詳細に一見明す
る。
発明の実施例
第２図は本発明の一実施例を示す説明図で、第１図と同
一部分には同一符号が付しである。本発明の画素シフト
は第２図（ｂｌに破線で示す直交系（これはメモリ１０
におけるセル１１の配列方向でもあり、またそれに従う
原画パターン２０の画素の配列方向でもある）に対し、
４５°傾いた交叉系で行なう。その順序は任意であり、
また１次シフトパタ〜ンが（ｉ−１）次シフトパターン
をシフトしそしてシフト前のパターンとオアをとった結
果得られる点も第１図と変らない。第２図の例では始め
に原画パターン２０を１３５°方向（左斜め上）にシフ
トしオアをとって１次シフトパターンを得ている。そし
て、２次シフトパターンは１次シフトパターンを４５°
方向（右斜め上）にシフトしシフト前パターンとオアを
とることで得られる。以−ト°同様に２次シフトパター
ンを３１５°方向（右斜め下）にシフトしオアをとって
３次シフトパターンを得、さらに該３次シフトパターン
を２２５°方向（左斜め下）にシフトしかつオアをとっ
て４次シフトパターンを得る。第２図（Ｃ１は４次シフ
トパターンから屋内パターン２０を除いた縁取りパター
ン３０である。尚、縁取り幅を拡大するには上述した手
順を繰り返して５次、６次−の高次シフトパターンを得
ればよい。
一部分には同一符号が付しである。本発明の画素シフト
は第２図（ｂｌに破線で示す直交系（これはメモリ１０
におけるセル１１の配列方向でもあり、またそれに従う
原画パターン２０の画素の配列方向でもある）に対し、
４５°傾いた交叉系で行なう。その順序は任意であり、
また１次シフトパタ〜ンが（ｉ−１）次シフトパターン
をシフトしそしてシフト前のパターンとオアをとった結
果得られる点も第１図と変らない。第２図の例では始め
に原画パターン２０を１３５°方向（左斜め上）にシフ
トしオアをとって１次シフトパターンを得ている。そし
て、２次シフトパターンは１次シフトパターンを４５°
方向（右斜め上）にシフトしシフト前パターンとオアを
とることで得られる。以−ト°同様に２次シフトパター
ンを３１５°方向（右斜め下）にシフトしオアをとって
３次シフトパターンを得、さらに該３次シフトパターン
を２２５°方向（左斜め下）にシフトしかつオアをとっ
て４次シフトパターンを得る。第２図（Ｃ１は４次シフ
トパターンから屋内パターン２０を除いた縁取りパター
ン３０である。尚、縁取り幅を拡大するには上述した手
順を繰り返して５次、６次−の高次シフトパターンを得
ればよい。
発明の効果
以ト述べた本発明の縁取りパターン作成方法には次の利
点がある。＋１１第２図（Ｃ）に示すように縁取りパタ
ーン３０の斜めの線３１の幅ｎが縦および横の線３２と
等しい。（２）縁取りパターン３０の隅部３３が面取り
される。（３）４次シフトパターンの段階で縦および横
の線３２の幅が画素数で第１図の２倍であるから、所定
幅の縁取りパターンを作成する処理速度は２倍に高速化
される。
点がある。＋１１第２図（Ｃ）に示すように縁取りパタ
ーン３０の斜めの線３１の幅ｎが縦および横の線３２と
等しい。（２）縁取りパターン３０の隅部３３が面取り
される。（３）４次シフトパターンの段階で縦および横
の線３２の幅が画素数で第１図の２倍であるから、所定
幅の縁取りパターンを作成する処理速度は２倍に高速化
される。
第１図は従来の縁取りパターン作成方法の説明図、第２
図は本発明の一実施例を示す説明図である。 図中、ｌＯはメモリ、１１は単位記憶領域、２０は県西
パターン、３０は縁取りパターンである。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔
図は本発明の一実施例を示す説明図である。 図中、ｌＯはメモリ、１１は単位記憶領域、２０は県西
パターン、３０は縁取りパターンである。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔
Claims (1)
- メモリ上に画素の集合として表わされる文字、図形等の
原画パターンを展開し、そして該原画パターンを斜め方
向に１セル分シフトしかつ元の原画パターンとの論理和
をとって１次シフトパターンを形成し、次いで該１次シ
フトパターンを異なる斜め方向に１セル分シフトしかつ
シフト前のパターンと論理和をとって２次シフトパター
ンを形成し、また該２次シフトパターンをさらに異なる
斜め方向に１セル分シフトしかつシフト前のパターンと
論理和をとって３次シフトパターンを形成し、しかる後
該３次シフトパターンを残りの斜め方向に１セル分シフ
トしてかつシフト前パターンと論理をとって４次シフト
パターンを形成し、そして該４次シフトパターンもしく
は同様の手頃で形成されたさらに高次のシフトパターン
から該原画パターンを除くことによって縁取りパターン
を得ることを特徴とする縁取りパターン作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5445382A JPS58172768A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 縁取りパタ−ン作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5445382A JPS58172768A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 縁取りパタ−ン作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172768A true JPS58172768A (ja) | 1983-10-11 |
Family
ID=12971099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5445382A Pending JPS58172768A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 縁取りパタ−ン作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172768A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987007414A1 (en) * | 1986-05-29 | 1987-12-03 | Fanuc Ltd | Image processing system |
| EP0911761A2 (en) * | 1997-10-21 | 1999-04-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for displaying contour lines and contour line display apparatus |
-
1982
- 1982-04-01 JP JP5445382A patent/JPS58172768A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987007414A1 (en) * | 1986-05-29 | 1987-12-03 | Fanuc Ltd | Image processing system |
| EP0911761A2 (en) * | 1997-10-21 | 1999-04-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for displaying contour lines and contour line display apparatus |
| EP0911761A3 (en) * | 1997-10-21 | 2001-02-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for displaying contour lines and contour line display apparatus |
| US6236753B1 (en) | 1997-10-21 | 2001-05-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for displaying contour lines and contour line display apparatus control program stored medium |
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