JPS58166786A - レーザ装置のミラー冷却装置 - Google Patents

レーザ装置のミラー冷却装置

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JPS58166786A
JPS58166786A JP4889382A JP4889382A JPS58166786A JP S58166786 A JPS58166786 A JP S58166786A JP 4889382 A JP4889382 A JP 4889382A JP 4889382 A JP4889382 A JP 4889382A JP S58166786 A JPS58166786 A JP S58166786A
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inner cylinder
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laser
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哲郎 原田
Hideaki Saito
斎藤 英明
Takao Omori
大森 隆夫
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    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/0401Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は放熱を良くしたレーザ装置の共振器用ミラー
に関する。
レーザ装置における共振器用ミラーは高い反射率を持つ
えものが用いられるが、それでも100チの反射率を持
たせることは不可能である。このため、ごく一部ではあ
るが光を吸収して発熱を生じる。この発熱はミラーの曲
率半径の変化、光学的反射率O低下をもたらすことがあ
るのでレーザ発振にとって有害なものである。
そこで従来よりミラーを冷却する方法が様々考えられて
いる。その代表的なものとして、例えばミラーの側面に
径方向の貫通孔をあけ、そこに冷却媒質を流すようにし
たものや、ミラーの背面に冷却媒質を通したタンクを密
着するようにしたものがあるが、いずれも冷却媒質を用
いるので運転コストがかかり、i要冷却媒質の循環系路
が必要であるので構成が複雑になる欠点がある。
この発明はこのような点に鑑みてなされたもので、にラ
ーに放熱用フィンを取付けてミラー自身の放熱を良くす
ることによプ、冷却媒質で強制的に冷却する必要をなく
L、を要冷却媒質で強制的に冷却する場合でもその消費
量を削減することができるようにし九レーザ装置の共振
器用ミラーを提供しようとするものである。
以下この発明の実施例を添付図面を参照して説明する。
ここではラマンレーザ装置の共振器用ミラーにこの発明
を適用した場合について説明する。
ラマンレーザ装置はラマン効果を利用したもので、00
!レーザなどの強いレーザ光をラマン効果を起こす水素
などの物質に照射することによシ、もとの00.レーザ
光とは異なつ九波長のレーデ光を取出す装置である。単
一のレーザ装置では得られない波長のレーザ光を得るの
に用いられ、例えばウラン分離に利用することができる
ラマンレーザ装置では発振レベルに達する。eワー利得
を得るために必要な相互作用長は数百溝となり大型化し
てしまうので、以下の実施例では励起用00!レーザ光
を2枚のミラー間に複数回往復させて総合的に長い相互
作用長を確保するマルチノセス方式を採用している。
第1図のラマンレーザ装置は全体が架台(図示せず)の
上に載せられて水平に支持されている、第1図はこのレ
ーザ装置の内部をその側面から見たものである。主な部
分の寸法の一例を同図中に示す。
第1図のラマンレーザ装置は大きく分けて外筒1と、外
筒1内に収容された内筒2と、内筒2内に収容された光
学系(光共振器)3とで構成されている。外筒1と内筒
2の間は真空に保持され、内筒2を外部から断熱してい
る。内筒2内にはレーザ媒質として水素が低温度(約−
173℃)で収容されている。励起用の10.6μ喝の
波長を持つCO,レーザ光は外筒1のビーム入射ボート
20から入射され、内筒2のビーム入射ボート46を通
ってジンノ々ルユ二ット101に保持されたミラー13
4の孔から光学系3内に入射される。このレーザ光は右
側のジンノ々ルユニット100に保持されたミラー11
0との間で所定回数マルチノゼスして誘導ラマン効果を
生じさせ、16μ−の波長のレーザ光に変換されて右側
のミラー110に開設された孔から内筒2のビーム出力
ポート48および外筒1のビーム出力ポート25、更に
はディフュージョンガイド26を通って外部に取出され
る。
光学系3は全体がダクト150で囲まれておシ、その内
部のレーザ媒質(Hl)はサーキュレーションファン1
52によって左側のジンノ々ルユニット101のすき間
からダク)150の外側を通り、更に右側のジンノ々ル
ユニット100のすき間から光学系3内に戻る矢印人の
経路を通って循環される7 ダクト150のまわ)の空
間には冷却用媒質(例えば液体窒素)が流れているヘリ
カルコイル160が配設されており、循環されるレーザ
媒質はここで冷却される。
ミラー110,134には放熱用のフィン115が取付
けられている。この実施例ではミラー110゜134お
よび放熱用フィン115はレーザ媒質の循環系路中に置
かれているのでレーザ媒質自身によって効率よく冷却さ
れ、他にミラー専用の冷却手段を必要としない。また、
この実施例では、後述するように、マルチパスされる光
線の照射位蓋の背面に放熱用フィン115をそれぞれ取
付けるようにして、特に発熱量が高い部分の放熱を良く
している。
シレ 次に第1図製雪の各部の詳細について説明する。
外筒1は円筒状の外壁4と、その左右両開放端にそれぞ
れ装着された蓋5,6とで構成される。
外壁4には第1図では省略した中央部の下部に真空排気
ポー)、7.8が取付けられている(第3図参照)。ま
た、外壁4の左右両端部の底部付近には内筒2を外筒1
内の空間に持ち上げて外筒1と内筒2の軸を一致させる
ジヤツキアンプスクリューがそれぞれ2本ずつ(ジヤツ
キアップスクリュー9と10および11と12)外筒1
の中心方向に向けてハの字型に設けられている(第2図
及び第3図参照)。
右側のジヤツキアップスクリュー9,10はジヤツキア
ップ操作するためのハンドル13と、ハンドル13の先
に取付けられてハンドル130回転により伸縮して内筒
2を支持するサポートロッド14が取付けられている。
左側のジヤツキアップスクリュー11.12もノ1ンド
ル15とサポートロッド16とで構成されている。サポ
ートロッド14,1’6はテフロン等の熱を伝えにくい
材質で作られている。
外筒1の左端の蓋5は■−Sカップリング17(第2図
)によって外壁4に着脱可能に取付けられている。この
蓋5には10.6μ簿の波長を持つ励起用CO2レーザ
光を入射するビーム入射ポート20が取付けられている
。ビーム入射ポート20は第1図を左側から見た第2図
に示すように外筒1の中心軸からずれた位置に配設され
ている。これはマルチパス法を利用して短い共振器間隔
でラマン発散の相互作用長を長く取るためである。蓋5
の中央部には外筒1と内筒2の中心軸を一致させる調整
操作に利用するHe−Neビームの入射ボート21が取
付けられている。また、その下にはこの調整操作におい
てHe−Neビームの照射位置をのぞくためのアジャス
トピユーボート22が取付けられている。更にその下に
は内部の過度検出用に用いられる熱電対の端子を引出す
ためのハーメチックシールボート23,24が取付けら
れている。
外筒1の右端の蓋6はV−Sカップリング(図示せず)
により外壁4に着脱可能に取付けられている。この蓋6
には誘導ラマン効果によシ発生し九16μ隅の波長を持
つレーザ光を取出すためのビーム出力ボート25が取付
けられている。出力ポート25にはディフュージョンガ
イド26が取付けられている。出力ポート25はマルチ
パス法による出力を取出すため、蓋6の中央部よりずれ
た位置に取付けられている。蓋6の中央部には外筒1と
内筒2の中心軸を一致させる調整操作に利用するHe−
Neビームの入射ボート27が取付けられている。
また、その上にはこの調整操作においてNe −Heビ
ームの照射位置をのぞくためのアジャストビューボート
28が取付けられている。更にその上には内筒2に取付
けられたアジャストマイクロメータ49を操作するため
のドライブシャフト30が取付けられている。蓋6の下
部には内筒2内に収容される冷却用のヘリカルコイル3
1を外部に引出すためのインシエレーションポート32
が取付けられている。蓋6の内側には内筒2の右端部を
外筒1に固定するための固定ロッド33が取付けられて
いる。この固定ロツP33は第1図のレーザ装置を蓋6
を取り去って右側から見た第3図に示すように実際には
左右に2本ずつ設けられているが、第1図では説明の都
合上上部位置に示している。なお固定ロツP33の詳細
については後述する。
内筒2は円筒状の外壁40とその左右開放端に■−Sカ
ップリング18(第3図)によってそれぞれ着脱可能に
取付けられた蓋41,42とで構成されている。外壁4
0の左右端付近の下部には前記サポートロッド14,1
6の先端部が当接するt/−トロラド当接部43.44
がそれぞれ形成されている。
右側のサポートロッド当接部43には突起43gが形成
されている0、サポートロッド14の先端にはこの突起
43aに対応して凹部14mが形成されておシ、これら
がはまり合うことにより内筒2の右端部は外筒1に固定
され、その部分における内筒2の軸方向の動きは阻止さ
れる。
左側のサポートロッド当接部44は第4図の底面図に示
すように長円形の凹状に形成されており、そこにサポー
トロッド16が単に当接した状態に置かれている。固定
しなかったのは、内筒2の内部を冷却状態にしたときこ
の内筒2に生じる収縮を逃がすためである。すなわちこ
の場合サポートロッド16の先端はサポートロッド当接
部44の長円形の凹状を長手方向にスライドすることに
なる。
内筒2の右端部を外筒1に固定するためO内筒固定ロッ
ド33は、取付部材S2を介して外筒1の蓋6の内側に
おいて外筒1の軸に平行に取付けられている。内筒固定
ロッド33の先端には内筒2にクランプするクランプ機
構53がpラド33に対し回転自在に取付けられている
。クランプ機構53の外周にはそれを軸方向から見た第
5図に示すように、一部が切欠かれた形状の円板54が
形成されている。一方、第1図に示すように内筒2の右
端部にはこのクランプ機構53の円板54がクランプし
て内筒2の右端部を外筒1に固定するための一部材55
が取付けられている。この部材55は第6図に示すよう
に円板54が係合する溝56を有している。ここでは固
定ロツP33は第3図に示すように2本ずつ組にして用
いるため、溝56は縦に2本形成されている。円板53
を溝56にクランプする場合は第7図(a)のように、
円板54の切欠き54麿を部材s5の儒に向けた姿勢で
円板54の位置を溝56位置まで進ませ、続いて第7図
(b)に示すように円板53を半回転させればよい。第
3図には左右に2個ずつ設けられた円板54を部材55
にそれぞれクランプすることによって、内筒2の左右を
固定ロッド33で固定した状態が示されている。なお、
部材55の溝56を円板54よりもやや大きな半径に設
定することようにして、ジヤツキアップスクリュー9〜
12による軸合わせ操作を可能にするためである。
ところで第3図において内筒2の外壁面左右にそれぞれ
取付けられたローラ35,36t:を内筒2全体を外筒
1内から引出し、あるいは収容する際に利用するもので
ある。外筒1の内壁面にはこのロー235.36が走行
するためのレール17゜18が外筒1の軸と平行に取付
けられている。ジヤツキアップスクリュー9〜12によ
り内筒2を外筒1内の所定の高さに位置決めした状態で
はローラ35.36はレール17.18から浮いている
第1図において内筒2の左側の蓋41はその中央部に軸
合わせのためのHe−Neビームボート45が取付けら
れている。下部にはハーメチックシールボー)36.3
7が取付けられている。tた、外筒1の蓋5に取付けら
れたビーム入射ボート20に対応する位置にビーム入射
ボート46が取付けられている。
に装着されている。KOL結晶板38は円筒2内に収容
されているレーザ媒質によって極低温(例えば−173
℃)にさらされると割れてしまう。そこで、ビーム入射
ポート46における内筒2内につながる開口端にポリエ
チレンなどの薄膜39を装着することによF)、KO1
結晶板38と内筒2との間を仕切り、更feKot結晶
板38の周囲をヒータ57で加熱することによ、9.K
O/!、結晶板38と薄膜39とに囲まれた空間が例え
ば−30t程度になるようにしている。なお%KO1結
晶1[38と薄膜39とで囲まれた空間と内筒2の内部
との圧力のつり合いを取るため、薄膜39はビーム入射
ボート46のわくに軽く保持され、矢印で示すようにそ
れらのすき間を通ってレーザ媒質が出入りできるようK
なっている。
第1図において、内筒2の右側の蓋42はその中央部に
軸合わせのためのHe−Neビームボート47が取付け
られている。tた、外筒1の蓋6に取付けられたビーム
出力ポート25に対応する位置にビーム出力ポート48
が取付けられている。
ビーム出力ポート48はビーム入力ポート46と同様に
第8図のように構成さ;tている。また蓋6の上部には
光学系3における右側のミラー110(ジン/々ルユニ
ット100内に装着されている)の前後方向の角度を調
節するアジャストマイクロメータ49が取付けられ、M
6の中心から右側の位置には、第1図では省略したが、
そのミラー110の左右方向の角度を調節するアジャス
トマイクロメータ50が取付けられている(第3図参照
)。アジャストマイクロメータ50の詳細についてけ後
述する。
第1図において内筒2内の底部には光学系3を載置する
ための光学系支持台60が設置されている。第9図はこ
の支持台60の詳細を示すもので、(8)は正面図、(
b)は底面図、(c)は左側面図、(a)は右側面図で
ある。光学系支持台60Fi上板61とその下面に固設
された2本の補強材62とを具えている。上板61の右
端部には光学系3の右端部を固定するためのネジ孔61
麿が開設されている。
また補強材62の右端部にはこの部分を内筒2の底面に
固定するための平板63が固着されている。
内筒2の右側の底部には第9図に二点鎖線66で示すよ
うな固定台が取付けられている。固定例6の底面は内筒
2の底面の形状に合わせて円弧状に形成されている。ま
た、上面には切欠@66mが形成され、そこに上記子1
i63が収容されている。
平板63はネジ64によって固定台66に取付けられて
いる。これKよシ光学系支持台6】の右端部は内筒2に
固定される。
光学系支持台61の左端部にはこの部分を内筒2の底部
に摺動可能に支持するための摺動板67が取付けられて
いる。また、内筒2の底部には第9図に二点鎖線68で
示すような形状の支持台が取付けられている。支持台6
8の底面は内筒2の底面の形状に合わせて円弧状に形成
されており、上面には上記摺動板68を収容して内筒2
の軸方向に摺動可能に支持する切欠き68mが形成され
ている。このように内筒2は光学系支持台61を右端部
でのみ支持するので、内筒2内を冷却した際に内筒2と
光学系支持台61の収縮の長さが異なっても、光学系支
持台61の左端部61は支持台68上を内筒2の軸方向
に摺動することになり、両端を固定した場合のように内
筒2と支持台61の間に無理な力がかかることがなく、
曲げなどのくろいが生じることがない。
以上のように設置された光学系支持台60上には光学系
(光共振器)3が載置される(第1図)。
光学系3は熱膨張率の小さい4本のインノ々−ロッド8
0〜83の両端部を光学系ホルダ84.85で正方形に
組んで固定しく第1図では省略した中央部にもホルダが
2箇所種度はめ込まれている)、この光学系ホルダ84
,85の外側にミラー110゜134を保持したジンノ
々ルユニット100,101をそれぞれ取付けたもので
ある。
光学系ホルダ84は第10図に示すように正方形のわく
85に、マルチパスされる光線を通すための円形の開口
部85at−開設したものである。
開口部85aの周囲にはジンノ々ルユニット100(第
11図)を取付けるためのネジ孔85bが開設されてい
る。正方形のわく85の回置にはインノ々−ロッド80
〜83を固定するための固定部材86がネジ87によっ
て取付けられている。左端部側の光学系ホルダ85もほ
ぼ同様に構成されている。ところで下側のインノ々−ロ
ッド82,83の右端部は第1図に示すように固定部材
90.91に通され、とれら固定部材90.91をネジ
92によって前記光学系支持台60の右端部に開設され
たネジ孔601にしめつける。これにより光学系3の右
端部は光学系支持台60に固定され、更に内筒2自体に
固定される。
なお、光学系ホルダ84.85は光学系支持台60に単
に当接した状態に置かれており、内筒2が冷却状態にな
って光学系支持台60が収縮しても、その上をスライP
することにより、その収縮を逃がし、光学系3にくろい
が生じないようになっている。
第1図においてジンノ々ルユニツ)100,101はミ
ラー110,134を保持してそれらの角度を調整する
ものである。右倒のジンノ々ルユニット100は第11
図に示すように構成されている。
第11図(1)は第1図の右方向から見た図、(b)お
よび(c)はそれぞれ断面図で示し九七の平面図および
左側両図である。これらの図に示されるように、ジンノ
々ルユニツ)100は前記光学系ホルダ84に取付けら
れるアウターリング102とミラー110の角度を前後
方向に動かすインナーリング103とミラー110を保
持しその角度を左右方向に動かすミラーホールドリング
104とを具えている。
アウターリング102は外周付近に開設されたネジ孔1
02aと前記光学系ホルダ84に開設されたネジ孔85
b(第10図)とをネジによって留めることにより光学
系ホルダ84に固定される。
インナーリング103は左右のピゼット105゜106
によりアウタリング102に上下方向に回動可能に取付
けられている。ミラーホールドリング104は上下のピ
ーット107,108によりインナリング103に対し
左右方向に回動可能に取付けられている。ミラーホール
ドリング104の背面にはミラー押えリング111がは
め込まれ、そこにミラー110がネジ112によって取
付けられている。ミラー押えリング111にはレーザ光
を取出すための切欠き111mが形成されている。アウ
ターリング102の上部には、このアウターリング10
2を操作する丸めのエクステンションパ々−113が取
付けられている。エクステンションパー113にはこの
操作をするアジャストマイクロメータ49(第1図)の
先端が当接する突起113aが形成されている。突起1
13mは磁石で作られておシ、これがアジャストマイク
ロメータ49の先端に吸着することによりアジャストマ
イクロメータ49による操作を可能にしている。また、
インナーリング104の右の部分には、このインナーリ
ング104を操作するためのエクステンシ璽ンパー11
4が取付けられている。このエクステンションノ々−1
14にもアジャストマイクロメータ50(第3図)の先
端に吸着して操作される磁石の突起114aが取付けら
れている。
ジンノ々ルユニット100に保持されたミラー110は
無酸素鋼などでつくられた凹面鎗である。
このミラー110は第12図のように、反射面110m
の裏側にジンパルユニツ)100に装着するためのネジ
孔110bと、マルチパスされたレーザ光を取出すため
の貫通孔110Cと、放熱用フィン115を装着するた
めのネジ孔110dと、軸合せ用Ne−Heビームを通
すための貫通孔110eがそれぞれ開設されている。放
熱用フィン115はマルチパス法によるレーザ光が照射
される位置の裏側にそれぞれ取付けられ、放熱効率を良
くしている。マルチパス法においては入射光はミラー1
100円周方向に反射位置を順次ずらしながら反射を繰
返すので、放熱用フィン115はミラー110の円周方
向に並んで取付けられることになる。
放熱用フィン115は例えば第13図に示すようにネジ
115aにフイ/115bを取付けて構成されるもので
、全体が無酸素鋼などの熱伝導の良い材質で作られてい
る。
ジンバル機構100を操作するアジャストマイクo71
−夕49.50FiJl114図に示すように構成され
ている。第14図において符号120は円形の部材で、
アジャストマイクロメータ49.50を内筒2の蓋42
に気密に取付けるものである。
(第1図および3図参照)。アジャストマイクロメータ
49,50の本体はマイクロゲージホルダ121の部分
でこの円形の部材120に固着されている。マイク、口
1・、ゲージホルダ121内にはセンタスピンドル12
2が軸方向に摺動自在に収容されている。センタスピン
ドル122の先端の部分122鳳が前記ジンパルエニッ
ト84のエクステンションノ々−113,114におけ
る磁石で構成された突起113a、114aに当接する
部分である。センタスピンドル122には中央部に軸方
向の切欠き122bが形成されており、そこにマイクロ
ゲージホルダ121の外側からビン123が差込まれる
ことにより、センタスピンドル122は回転方向の動き
を阻止されている。センタスピンドル122の後端の部
分にはネジ山122Cが形成されている。マイクロゲー
ジホルダ121の後端部には送りネジ部材124が回転
自在に取付けられている。送りネジ部材124の内側に
は上記センタスピンドル122のネジ山122cにかみ
合うネジ山124aが形成されている。送りネジ部材1
24を回転することにより、センタスピンドル122は
マイクロゲージホルダ121に対し軸方向に伸縮する。
マイクロゲージホルダ121とセンタスピンドル122
との間にはベローズ130が装着されて気密を保ってい
る。
ところでアジャストマイクロメータ49.50を操作す
る前記ドライブシャフト30は外筒1の蓋6に対し軸方
向に移動可能に取付けられており、アジャストマイクロ
メータ49,50の後端部に着脱可能に差込まれるよう
になっている。したがってジンバル機構84の調整をす
るときだけ差込み、調整がトわったら引抜くようにすれ
ば、アジャストマイクロメータ49,50とドライブシ
ャツ)30は分断されるので、外部の熱がそれらを通っ
て内筒2に伝わることがない。
このような構成を実現するため、アジャストマイクロメ
ータ49の後端部にはユニバーサルジヨイントが組込ま
れ、アジャストマイクロメータ49+ 50の軸とドラ
イブシャフト30の軸とが多少ずれていてもドライブシ
ャフト30を容易に差込めるようになっている。ユニバ
−サルジヨイントはアジャストマイクロメータ49,5
0の軸に直角な2方向に移動するように構成されたもの
である。すなわち、第15図に示すように前記送りネジ
部材124の後端部には横方向の切欠き124aが形成
され、そこに横方向スライドパーツ125が収容される
ようになっている。横方向スライy%、41−ツ125
の上下面には横方向の溝125mが形成され、その溝1
25aに送りネジ部材124の上下からビン126を差
込むことによシ、横方向スライドパーツ125は横方向
に移動自在に送りネジ部材124に保持される。また、
横方向スライPノゼーツ125の徒端部には縦方向の切
欠き125bが形成され、そこに縦方向スライドパーツ
127が収容されるようになっている。
縦方向スライPパーツ127には縦方向の溝127aが
形成され、その溝127aに横方向スライド/?−ツ1
25の左右からビン128を差込むことにより、縦方向
スライドパーツ127は縦方向に移動自在に横方向スラ
イドパーツ125に保持される。
縦方向スライドパーツ127には断面が六角形に形成さ
れたドライブシャツ)30の先端部が差込まれてこれに
かみ合う六角形の孔127bが開1 設されている。また、ドライブシャフト30の先端には
差込みを容易にするためのり−Pビン129が取付けら
れている。横方向スライドパーツ125、送りネジ部材
124、センタスピンドル122には+7 ++ h%
ビン129を収容するための孔125c、124c、1
22dがそれぞれ開設されている。
一方、左側のジンバル機構101は右側のジンノ々ル機
構100と同じように構成され、そこに保持したミラー
134を前後方向および左右方向にそれぞれ回動できる
ようになっている。第16図はこのジンバル機構100
を操作するアジャスタ130を示したものである。第1
6図中二点鎖線85は光学系ホルダ、101は光学系ホ
ルダ85に取付けられたジンバルユニット全体、131
゜132.133はジンバルユニット101の構成部品
で、131は光学系ホルダ85に固着され九アウタリン
グ、132はアウターリングに対し前後方向に回動可能
に取付けられたインナーリング、133はインナーリン
グに対しビン137を軸に左右方向に回動可能に取付け
られたミラーホールドリングである。ミラー(凹面鏡)
134Fiミラーホールドリング133内に収容され、
ミラー押えリング135にネジ136によって取付けら
れている。
アジャスタ130はインナーリング132の上mKエク
ステンションノ!!−140を具え、そこに調整ポルト
138を固定した球面スリーブ141が平板状部材14
2によって保持されている。調整ポル)130の先端に
はネジ山が形成されており、光学系ホルダ85の上端に
取付けられた部材143のネジ孔に差込まれるようにな
っている。
したがって調整ポル)130を回転することによシ、イ
ンナーリング132は前彼方向に回動する。
調整−ルト130は球面スリーブ141を介してエクス
テンションノ々−140に保持されているので、インナ
リング132がアウタリング131に対して傾いても調
整ボルトに光学系ホルダ85に対し垂直に保たれる。
ジンノ々ル機構101の側部にはミラーホールPリング
133を左右方向に回動させるための同様に構成された
アジャスタ(図示せず)が取付けられている。
第17図は以上のように構成した光学系3の全体を第1
図の右側から見たものである。
ところで光学系3は光学系ホルダ84.85に挾まれた
部分がダク)150によって取囲まれている。ダクト1
50は光学系3の軸方向の両端部に開口が形成されてい
る。光学系ホルダ85より左側の部分は内筒2の蓋41
に取付けられたダクト151で取WAまれている。ダク
ト150,151はジンバルユニット1010すき間お
よびξツー134に開設された励起用レーザ入射孔を通
して連なかっている。ダクト151内の空間はその上部
に取付けられたサーキエレーシ1ンファン152(第2
図に示すように筒の中心を通る位置と、そこから左右に
それぞれ45°ずれた位置の3箇所に取付けられている
)を介してダク)150,151と内筒2の外壁40と
の間に形成された空間153に通じている。空間153
の右端部はジンバルユニット100のすき間およびミラ
ー110に開設されたレーザ光取出し用孔110Cを通
して光学系3内に運なかっている。したがってナーキエ
レ示すように、光学系3の内部からりンノ々ルユニット
101を通ってダクト151に導かれ、そこからサーキ
ュレーション7アン152を介してダクト150と内筒
2の外壁40の間の空間153を通って内筒2内の右端
部に至り、更にジン/々ルユニツ)100を通って光学
系3内に戻る経路によって強制循環される。これにより
、光学系3内におけるレーザ媒質は全体にわたって均一
な温度に保たれ、局部的な密度の違いによる光線のゆら
ぎなどの現象が防止される。
前記ダクト150と内筒40との間の空間153にはダ
ク)150の全体を取巻くように冷却用ヘリカルコイル
160が配設されている。この冷却用ヘリカルコイル1
60内には液体窒素などの冷媒が流されている。したが
って光学系3内で熱せられ九レーザ媒質は上記空間15
3を通る間に冷却され、光学系3内に戻される。これに
よりレーザ媒質は一定の温度(例えば−173℃)に保
たれる。また、左右のジンノ々ルユニット100゜10
1に保持され九ミラー110,134自体も強制循環の
流れの中に置かれているので、レーザ媒質自身によって
冷却される。特にミラー110゜134に前述のように
放熱用フィン115を取付けられているので冷却効率が
良くなる。
冷却用ヘリカルコイル160は第18図に示すように光
学系3の全体にわたって配設されている。
ここでは内筒2の右端部から内筒2内に導かれ、内筒2
の左端部で折り返して再び右端部から取出されるように
なっている。内筒2の外に引き出され九部分は第1図に
示すように連結金具162を介シてインシュレージ冒/
ボート32に保持されたパイプ163につながっている
。このヘリカルコイル160は左右各端部およびその間
の適宜の箇所において部材161に引掛けられて釣り下
げられて、内筒2およびダク)150,151に対して
は非接触の状態で空間153に保持されている。したが
って、内筒2やダクト150,151に接触してそれら
が局部的に冷却されることがなく、内筒2内全体を熱衝
撃なしに均一に冷却することができる。また、ヘリカル
コイル160け右端でのみ内部2に固定され、左端部は
単に部材161で釣り下げられた状態となっているので
、ヘリカルコイル160が伸縮してもその左端は部材1
61上をスライドするため無理がかからないようになっ
ている。
なお、第1図では省略した外筒1の中央部上面には第1
9図に示すようにビューポート170〜172が取付け
られている。これらビューポート170〜172は外筒
1と内筒の軸合せ操作の際にζツー134,110の面
をのぞく屯ので、ビューポート170.171はミラー
134の方向を向き、ピユーポート172はミラー11
0の方を向いている。左側のミラー134に対して2つ
のビューポー)170,171を設けているのは、この
ミラー134が点線134′に示すように移動するのに
対応するためである。
内筒2の上面にも上記ビューポート170〜172の軸
線上にビューポート180〜182がそれぞれ設けられ
ている。
第1図のラマンレーザ装置は以上説明しえよすな構成で
ある。この装置を駆動するにはまず、外筒lおよび内筒
2の蓋5,6,41.42をそれぞれ取シ外し、光学系
30位置を調整する。このとき左側のミラ−1340角
度は調整−ル) 13Gにより予め調整する。こO調整
が終わりえら内筒2に蓋41.42を装着してその内部
にレーザ媒at封入する。続いて外筒1にi15,6を
装着して、外筒1と内筒2とOUO空気を真空排気2−
ドア、8から吸引して、その部分を真空状態にする。
次に左側のH@−N拳ビームl−ト21*6111−N
eレーザビームを外筒lCJ軸上Kj[射する。このと
きアジャストビューポート22からのぞいて、内 Ha−N@レーザビームが列部2のH・−N@ビームボ
ート45の位置を照射するように左側のジヤツキアップ
スクリュー11.12を調節する。tた、右側のHe−
Neビームポート27からもH・−Neレーザビームを
外筒7O@m上に照射し、アジャストビューボート28
からのぞいて、内筒2のHe−Noビームポート47の
位置を照射するようにジヤツキアップスクリュー9,1
0を調整する。
このようにして外wJ1と内筒2の軸が一致したら右側
のiツー110の角度調節を行なう、上記の軸O調整に
よシ外筒1と内筒20軸が一致すれば、He−N@レー
ザビームはHe−Neビームポー)21,45を通p1
更にミラー110の中心に開設され丸孔110e([I
HIG参照ンを通って孔のおいていないミラーで反射さ
れ九光点が孔110・に7リンジ模様を写すようにアジ
ャストマイクロメータ49でミ2−110の前後方向お
よび左右方向の角度を調節すれとよい・ミツ−110の
角度調整が終わつ九ら冷却用ヘリカルコイル160に冷
媒を流し、サーキュレーシ璽ンファン152を駆動する
ことにより準備がすべて整い、ビーム入射ポート20か
ら波長が10−6 J m(D OO露し−ザビームを
入射すルコとにより、光学系3内で所定回数マルチノ(
スされてIL+wmo技長に変換されてピー人出力ボー
ト25から取出される。
修理や点検の次め内筒2t−外筒1から引出す場合は、
ます外筒1セ内筒2の間に外気を導入して外気と等しい
圧力に戻す、続いてジヤツキアップスクリュー9〜12
を戻して内筒2のローラ35゜36をレール17 、1
8に降ろす、この状態から外筒1の右側の蓋atRして
手前に引けばロックビン33によって内筒2もいっしょ
に引出されてくる。
ところで、以上説明した実施例においてはこの発明をラ
マンレーザ装置に適用し友場合について示したが、一般
の気体レーザ装置にも同様に適用することができる。
また、上記実施例ではミラー110,134および放熱
用フィン115t−レーザ媒質の循環系路中に置いて効
率良く冷却するようにし喪のでその他の冷却手段は特に
必要でないが、ミラーの配置サレテいる環境によって、
放熱用フィンだけでは不十分な場合は、従来技術として
説明し友方法(ミラーに孔をあけてそζに冷却媒質を流
す等)を併用してもよい。その場合においても放熱用フ
ィンがない場合に比べて冷却媒質の消費蓋は少々くてす
む。
以上説明したようにこの発明によれば共振器用ミラーに
放熱用フィンを取付は九ので、その放熱を曳くすること
ができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を適用したラマンレーザ装置の全体の
構成図で、レーザ元軸に直角な側面から一部を断面にし
て示した図、第2図は1lI1図の左側面図、第3図は
外筒1の蓋6t−取外して示し次gi図の右側面一、第
4図は第1図の内筒2における左端下部のジヤツキアッ
プスクリュー11の当接用凹部の形状を示す図、第5因
は第1図における内筒固定ロッド33をその軸方向から
見た図。 第6囚は第5図の固定ロッド33を引掛けるために内筒
側に取付けられた部材の拡大図、第7図は第5図の金具
を第6因の部材に引掛ける状態を示す図、第8図は第1
図におけるレーザビーム入射ポート46およびレーザビ
ーム出力ポート48の内部溝at−示す断面19、I!
9図は第1因における光学系支持860の詳lIAを示
す図で、(a)は正面図、(b)は底面図、(C)は左
側面図、(d)は右側面一である。 第10図は第1図における光学系ホルダ84の正面図、
第11図は1!1t9におけるジンノ々ルユニット10
0の詳細を示す図で(Jl)は正面図、(b)は平面メ
、(C)は左側面図でらる。I!12崗および第13図
はこの発明の一実施例を示すもので第12図は第11図
のジンバルユニット100に保持されたミラー110の
詳細を示す図((a)は正面図、(b)は断面側面図)
、第13図は第12図のミラー110の背面に取付けら
れる放熱用フィンの例を示す斜視図である。第14図は
l!1図におけるジンノ々ルユニット110の操作用ア
ジャストマイクロメータ49.50の内部構造を示す断
面囚、第15図はアジャストマイクロメータ49 、!
50の後端部に取付けられるユニノ々−サルジヨイント
の構成管示す斜視図、第16図(1)は第1図における
左側のジンノ々ルユニット101のアジャスタの構成を
示す断面図、同図(blはその平面図、第17図は第1
因の光学系3の全体を右側から見た図、第18図は第1
図の冷却用ヘリカルコイル160の詳細を示すfN、I
I!19図Vi第1図の省略し危中央部に設置されてい
るのぞき窓を示す図である。 1・・・外筒、2・・・内筒、3・・・光学系、7,8
・・・真空排気ボート、9〜12・・・ジヤツキアップ
スクリュー、20.40・・・レーザビーム入射ボート
、26.48・・・レーザビーム出カポ−)、21.2
7゜45 、47−He−Neビームボート、3310
.内筒固定ロッド、49・・・アジャストマイクロメー
タ、60・・・光学系支持台、80・・・インバーロッ
ド、84゜85・・・光学系ホルダ、100,101・
・・ジンバルユニット、110,134・・・ミラー、
115・・・放熱用フィン、130・・・アジャスタ、
150・・・ダク)、152・・・t−+イユレーショ
ンファン、160・・・冷却用ヘリカルコイル l フ) 第8図 第10図  肪 /−′81 一□ンーー子翳・・ 第14図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 反射面以外の部分に放熱用フィンを取付けたことを特徴
    とするレーザ装置の共振器用ミラー。
JP4889382A 1982-03-29 1982-03-29 レーザ装置のミラー冷却装置 Granted JPS58166786A (ja)

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JP4889382A JPS58166786A (ja) 1982-03-29 1982-03-29 レーザ装置のミラー冷却装置

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JPS58166786A true JPS58166786A (ja) 1983-10-01
JPS6341234B2 JPS6341234B2 (ja) 1988-08-16

Family

ID=12815944

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007141879A (ja) * 2005-11-14 2007-06-07 Fanuc Ltd レーザ発振器及びレーザ発振器の劣化部品判定方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS551192A (en) * 1979-05-17 1980-01-07 Mitsubishi Electric Corp Laser oscillator

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JP4676314B2 (ja) * 2005-11-14 2011-04-27 ファナック株式会社 レーザ発振器及びレーザ発振器の劣化部品判定方法

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