JPS58166345A - 熱現像型ジアゾ複写材料 - Google Patents
熱現像型ジアゾ複写材料Info
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- JPS58166345A JPS58166345A JP57049400A JP4940082A JPS58166345A JP S58166345 A JPS58166345 A JP S58166345A JP 57049400 A JP57049400 A JP 57049400A JP 4940082 A JP4940082 A JP 4940082A JP S58166345 A JPS58166345 A JP S58166345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- group
- heat
- ketone
- acid amide
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/58—Coupling substances therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は記録材料としても使用できる熱現像型ジアゾ複
写材料に関する。
写材料に関する。
熱現像型ジアゾ複写材料は一般に紙、フィルム等の支持
体上にジアゾ化合物、カップリング成分及び発色助剤を
主成分とする感光層を設けたものである。
体上にジアゾ化合物、カップリング成分及び発色助剤を
主成分とする感光層を設けたものである。
このような熱現像型ジアゾ複写材料においては、熱現像
をできるだけ低温(60〜130℃)で行い得るように
、発色助剤として、高級脂肪酸アミド等の熱溶融性物質
が併用される。しかしながら、複写材料の低温現像性を
改良しようとすると、複写材料の保存性(以下生保存性
という)が低下するという問題がある。生保存性を改良
するために、ジアゾ化合物とカップラーのいずれかをカ
プセル化したり、ジアゾ化合物層とカップラ一層との間
にバリヤ一層としてワックス層等を介在させることが提
案されているが、未だ十分な結果が得られていない。こ
の理由は、カプセル化やバリヤ一層の形成においては、
カップラーとジアゾ化合物とを分離するためのピンホー
ルのない強固な分離被膜の形成が困難なことによるもの
と考えられる。
をできるだけ低温(60〜130℃)で行い得るように
、発色助剤として、高級脂肪酸アミド等の熱溶融性物質
が併用される。しかしながら、複写材料の低温現像性を
改良しようとすると、複写材料の保存性(以下生保存性
という)が低下するという問題がある。生保存性を改良
するために、ジアゾ化合物とカップラーのいずれかをカ
プセル化したり、ジアゾ化合物層とカップラ一層との間
にバリヤ一層としてワックス層等を介在させることが提
案されているが、未だ十分な結果が得られていない。こ
の理由は、カプセル化やバリヤ一層の形成においては、
カップラーとジアゾ化合物とを分離するためのピンホー
ルのない強固な分離被膜の形成が困難なことによるもの
と考えられる。
本発明者らは、従来技術におけるこのような問題を解決
すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに到っ
た。
すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに到っ
た。
即ち、本発明によれば、ジアゾ化合物、カップリング成
分及び融点50〜150℃の熱可溶融性発色助剤を主成
分とする感光層を有する熱現像型ジアゾ複写材料におい
て、該カップリング成分が、熱軟化温度50〜150℃
の疎水性高分子物質で2重にカプセル化されていること
を特徴とする熱現像型複写材料が提供される。
分及び融点50〜150℃の熱可溶融性発色助剤を主成
分とする感光層を有する熱現像型ジアゾ複写材料におい
て、該カップリング成分が、熱軟化温度50〜150℃
の疎水性高分子物質で2重にカプセル化されていること
を特徴とする熱現像型複写材料が提供される。
本発明ではカップリング成分は、熱軟化温度50〜15
0℃の疎水性高分子物質で2重にカプセル化されている
。このカプセル化は、公知のカプセル化法(例えば米国
特許第2800457号、同2800458号明細書)
で行うことができるし、また気中懸濁法(特願昭56−
181463号Yより行うことができる。前記疎水性高
分子物質としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチ
レン、ポリスチレン、メタアクリル樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリエ
ステル樹脂及びそれらの各種共重合体の他、脂肪族系、
シクロペンタジェン系及びC5kO,留分の共重合系の
石油樹脂等が挙げられる。
0℃の疎水性高分子物質で2重にカプセル化されている
。このカプセル化は、公知のカプセル化法(例えば米国
特許第2800457号、同2800458号明細書)
で行うことができるし、また気中懸濁法(特願昭56−
181463号Yより行うことができる。前記疎水性高
分子物質としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチ
レン、ポリスチレン、メタアクリル樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリエ
ステル樹脂及びそれらの各種共重合体の他、脂肪族系、
シクロペンタジェン系及びC5kO,留分の共重合系の
石油樹脂等が挙げられる。
本発明において、カップリング成分を2重カブ七ル化す
る場合、次のような条件を採用するのがよい。
る場合、次のような条件を採用するのがよい。
(1) 第1カプセル化に用いる疎水性高分子物質の
量を、全疎水性高分子物質の20〜80重量%、第2カ
プセル化に用いる疎水性高分子物質の量を、全疎水性高
分子物質の20〜80重量%にする。
量を、全疎水性高分子物質の20〜80重量%、第2カ
プセル化に用いる疎水性高分子物質の量を、全疎水性高
分子物質の20〜80重量%にする。
■ 第1カプセル化に用いる疎水性高分子物質としては
できるだけカップリング成分との親和性が良好なものが
望ましく、また、成膜性の良好なものが望ましい。
できるだけカップリング成分との親和性が良好なものが
望ましく、また、成膜性の良好なものが望ましい。
(3) 第2カプセル化に用いる疎水性高分子物質と
しては、第1カプセル化に用いられた高分子物質の溶解
に使用された溶媒に不溶もしくは難溶であることが好ま
しい。更に、第1カプセル化に用いられた高分子物質と
の親和性が良好であり、成膜性の良いことが望ましいの
は勿論である。
しては、第1カプセル化に用いられた高分子物質の溶解
に使用された溶媒に不溶もしくは難溶であることが好ま
しい。更に、第1カプセル化に用いられた高分子物質と
の親和性が良好であり、成膜性の良いことが望ましいの
は勿論である。
本発明において、カップリング成分と全疎水性高分子物
質との比率は、1:(α5〜10)(重量)が適当であ
る。
質との比率は、1:(α5〜10)(重量)が適当であ
る。
本発明で用いるジアゾ化合物及びカップラー(カップリ
ング成分)としては、従来、2成分型ジアゾ複写材料の
分野で使用されているのがそのまま使用できる。
ング成分)としては、従来、2成分型ジアゾ複写材料の
分野で使用されているのがそのまま使用できる。
即ち、ジアゾ化合物としては、例えば、4−ジアゾ−1
−ジメチルアミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−シアソー1−ジエチルアミノベン
ゼン、4−ジアゾ−1−メチルベンジルアミノベンゼン
、4−シアソー1−ジベンジルアミノベンゼン、4−シ
ア:/−1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ71−ジエチルアミン−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−シアソー1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−3−カルボキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−
ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシベ
ンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどのジ
アゾ化合物の塩化物の金属ノ・ライド(例えば塩化亜鉛
、塩化カドミウム、塩化錫など)との複塩、及び前記ジ
アゾ化合物の硫酸、四フッ化ホウ素、ヘキサフルオロリ
ン酸などの強酸の塩などが挙げられるが、もちろん、こ
れらのものに限定されるものではない。
−ジメチルアミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−シアソー1−ジエチルアミノベン
ゼン、4−ジアゾ−1−メチルベンジルアミノベンゼン
、4−シアソー1−ジベンジルアミノベンゼン、4−シ
ア:/−1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ71−ジエチルアミン−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−シアソー1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−3−カルボキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−
ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシベ
ンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどのジ
アゾ化合物の塩化物の金属ノ・ライド(例えば塩化亜鉛
、塩化カドミウム、塩化錫など)との複塩、及び前記ジ
アゾ化合物の硫酸、四フッ化ホウ素、ヘキサフルオロリ
ン酸などの強酸の塩などが挙げられるが、もちろん、こ
れらのものに限定されるものではない。
カップリング成分としては、一般の2成分型ジアゾ複写
材料用のものが全て使用でき、例えばレゾルシン、フロ
ログルシン、2 、5−シ)fルー4−モルホリノメチ
ルフェノール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
パラスルホアセトアニリド、1−ベンゾイルアミノ−8
−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、
2.2−ジヒドロキシナフタレン、2,7−シヒドロキ
シナフタレンー3,6−ジスルホン酸ソーダ、2.3−
ジヒドロキシ−6−スルホン酸ソーダ、2.5−ジヒド
ロキシナフタレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロ
キシナフタレン−4−スルホン酸ソーダ、1−アミノ−
3−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド
、ナフトールAS1ナフト1.−ルAs−D、2−ヒド
ロキシナフタレン−3−ビグアナイド、2−ヒドロキシ
ナフトエ酸モルホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシ
ナフトエ酸エタノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ
酸−N−ジメチルアミノプロピルアミド塩酸塩、2.4
.2’、4’−テトラヒドロキシジフェニル、2.4.
2’、4’−テトラヒドロキシジフェニルスルホキシド
等が挙げられる。
材料用のものが全て使用でき、例えばレゾルシン、フロ
ログルシン、2 、5−シ)fルー4−モルホリノメチ
ルフェノール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
パラスルホアセトアニリド、1−ベンゾイルアミノ−8
−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、
2.2−ジヒドロキシナフタレン、2,7−シヒドロキ
シナフタレンー3,6−ジスルホン酸ソーダ、2.3−
ジヒドロキシ−6−スルホン酸ソーダ、2.5−ジヒド
ロキシナフタレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロ
キシナフタレン−4−スルホン酸ソーダ、1−アミノ−
3−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド
、ナフトールAS1ナフト1.−ルAs−D、2−ヒド
ロキシナフタレン−3−ビグアナイド、2−ヒドロキシ
ナフトエ酸モルホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシ
ナフトエ酸エタノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ
酸−N−ジメチルアミノプロピルアミド塩酸塩、2.4
.2’、4’−テトラヒドロキシジフェニル、2.4.
2’、4’−テトラヒドロキシジフェニルスルホキシド
等が挙げられる。
本発明の複写材料においては、前記したジアゾ化合物及
びカップラーが必須成分として適用されるが、さらに、
現像速度を高めるために発色助剤として融点50〜15
0℃の熱可溶融性物質が適用される。この熱可溶融性物
質としては、溶融した時にジアゾ化合物やカップラーを
よく溶解するものであれば任意のものが用いられるが好
ましいものとしては、例えば、次のようなものが挙げら
れる。
びカップラーが必須成分として適用されるが、さらに、
現像速度を高めるために発色助剤として融点50〜15
0℃の熱可溶融性物質が適用される。この熱可溶融性物
質としては、溶融した時にジアゾ化合物やカップラーを
よく溶解するものであれば任意のものが用いられるが好
ましいものとしては、例えば、次のようなものが挙げら
れる。
(1)一般式A−1
ROONH,(A−1)
(但し、Rは炭素数5〜24の飽和又は不飽和アルキル
基を表わす) で表わされる脂肪酸アミド。この具体例としては、例え
ば次のものが挙げられる。
基を表わす) で表わされる脂肪酸アミド。この具体例としては、例え
ば次のものが挙げられる。
カプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン酸アミ
ド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチ
ン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキシン酸アミド
、ベヘン酸アミド、パルミトレイン酸アミド、オレイン
酸アミド、エイコセン酸アミド、エルシン酸アミド、エ
ライジン酸アミド、トランス−1,1−エイコセン酸ア
ミド、リノール酸アミド、リノール酸アミド、リシノー
ル酸アミド。
ド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチ
ン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキシン酸アミド
、ベヘン酸アミド、パルミトレイン酸アミド、オレイン
酸アミド、エイコセン酸アミド、エルシン酸アミド、エ
ライジン酸アミド、トランス−1,1−エイコセン酸ア
ミド、リノール酸アミド、リノール酸アミド、リシノー
ル酸アミド。
(2一般式A−2及びA−2′
R100NHR2(A−2)又はR3NHOOR4(A
−2’ )(前記式中、R1及びR3は炭素数5〜2
4の飽和又は不飽和アルキル基、R2及びR4は炭素数
1〜5のアルキル基、置換若しくは非置換のフェニル基
、又は置換若しくは非置換のシクロヘキシル基を表わす
)で表わされるN−置換脂肪酸アミド。この具体例とし
ては、例えば、次のものが挙げられる。
−2’ )(前記式中、R1及びR3は炭素数5〜2
4の飽和又は不飽和アルキル基、R2及びR4は炭素数
1〜5のアルキル基、置換若しくは非置換のフェニル基
、又は置換若しくは非置換のシクロヘキシル基を表わす
)で表わされるN−置換脂肪酸アミド。この具体例とし
ては、例えば、次のものが挙げられる。
即ち、一般式A−2の具体例としては、例えば、N−メ
チルパルミチン酸アミド、N−メチルステアリン酸アミ
ド、N−プロピルステアリン酸アミド、N−ブチルステ
アリン酸アミド、ステアリン酸アニリド、N−メチルベ
ヘン酸アミド、N−エチルベヘン酸アミド、N−ブチル
ベヘン酸アミド、ベヘン酸アニリド、N−メチルオレイ
ン酸アミド、リノール酸アニリド、N−エチルカプリン
酸アミド、N−ブチルラウリン酸アミド、カプリン酸−
〇−メトキシアニリド、N−ヘキシルステアリン酸アミ
ドなどが挙げられ、一般式A−2′の具体例としては、
例えば、N−オクタデシルアセトアミド、N−オクタデ
シルブチルアミド、N−オクタデシルプロピオンアミド
、N−オレイルアセトアミド、N−オレイルベンズアミ
ド、N−ラウリルブチルアミド、N−ラウリルベンズア
ミド、N−ベヘニルアセトアミド、N−ベヘニルプロピ
オンアミド、N−ベヘニルベンズアミド、N−ミリスチ
ルベンズアミド、N−ステアリルベンズアミド、N−ス
テアリルアセトアミド、N−ステアリルシクロへキシル
アミド、N−ステアリル−0−クロルベンズアミド、N
−パルミチルベンズアミド、N−パルミチルアセトアミ
ド。
チルパルミチン酸アミド、N−メチルステアリン酸アミ
ド、N−プロピルステアリン酸アミド、N−ブチルステ
アリン酸アミド、ステアリン酸アニリド、N−メチルベ
ヘン酸アミド、N−エチルベヘン酸アミド、N−ブチル
ベヘン酸アミド、ベヘン酸アニリド、N−メチルオレイ
ン酸アミド、リノール酸アニリド、N−エチルカプリン
酸アミド、N−ブチルラウリン酸アミド、カプリン酸−
〇−メトキシアニリド、N−ヘキシルステアリン酸アミ
ドなどが挙げられ、一般式A−2′の具体例としては、
例えば、N−オクタデシルアセトアミド、N−オクタデ
シルブチルアミド、N−オクタデシルプロピオンアミド
、N−オレイルアセトアミド、N−オレイルベンズアミ
ド、N−ラウリルブチルアミド、N−ラウリルベンズア
ミド、N−ベヘニルアセトアミド、N−ベヘニルプロピ
オンアミド、N−ベヘニルベンズアミド、N−ミリスチ
ルベンズアミド、N−ステアリルベンズアミド、N−ス
テアリルアセトアミド、N−ステアリルシクロへキシル
アミド、N−ステアリル−0−クロルベンズアミド、N
−パルミチルベンズアミド、N−パルミチルアセトアミ
ド。
(3) 一般式A−3
3
(A−3)
(式中、Bl及びR2は水素原子又は炭素数1〜5のア
ルキル基 Blは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル
又はアルケニル基であり、nは1又は2である)で表わ
されるベンズアミド誘導体。このようなものの具体例と
しては、例えば、次のものを挙げることができる。
ルキル基 Blは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル
又はアルケニル基であり、nは1又は2である)で表わ
されるベンズアミド誘導体。このようなものの具体例と
しては、例えば、次のものを挙げることができる。
モノ(又はン)ベンズアミド、N s N−ジメチルモ
ノ(又はジ)ベンズアミド、N、N−ジプチルモノ(又
はジ)ベンズアミド、N、N−メチル−エチル−モノ(
又はジ)ベンズアミド、4−メチルベンズモノ(又はジ
)ベンズアミド、4−ブチルベンズモノ(又はジ)ベン
ズアミド。
ノ(又はジ)ベンズアミド、N、N−ジプチルモノ(又
はジ)ベンズアミド、N、N−メチル−エチル−モノ(
又はジ)ベンズアミド、4−メチルベンズモノ(又はジ
)ベンズアミド、4−ブチルベンズモノ(又はジ)ベン
ズアミド。
(4)一般式A−4
BI 0CONHR2(A −4)
〔式中、Bl及びR2は鎖状もしくは環状のアルキル基
もしくはアルケニル基(炭素数1〜30)、アリール基
、又はアルアルキル基であり、それらの置換基はさらに
ノ・ロゲン、含酸素基(ヒドロキシル基、カルボキシル
基、アルコキシ基など)、含窒素基(アミノ基、ニトロ
基など)、含イオウ基(メルカプト基、スルフィド基な
ど)などを有していてもよい〕で表わされるN−置換カ
ルバメート化合物。このものの具体例としては、例えば
、次のものが挙げられる。
もしくはアルケニル基(炭素数1〜30)、アリール基
、又はアルアルキル基であり、それらの置換基はさらに
ノ・ロゲン、含酸素基(ヒドロキシル基、カルボキシル
基、アルコキシ基など)、含窒素基(アミノ基、ニトロ
基など)、含イオウ基(メルカプト基、スルフィド基な
ど)などを有していてもよい〕で表わされるN−置換カ
ルバメート化合物。このものの具体例としては、例えば
、次のものが挙げられる。
N−フェニルシクロへブチルカルバメート、N−フェニ
ルデカヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチルデカ
ヒドロナフチルカルバメート、N−フェニルシクロへキ
シルカルバメート、N−フェニルブチルカルバメート、
N−ナフチルプロピルカルバメート、N−フェニル−(
メトキシ−プロピル−フェニル)カルバメート、N−へ
キシル−1−フェニルエチルカルバメート、N−へキシ
ル−1−ベンジルエチルカルバメート、N−ナフチルジ
クロルプロピルカルバメート、N−ナフチルプロピルカ
ルバメート、N−フェニル−(フロピルードリル)カル
バメート、N−フェニルメチルシクロヘキシルカルバメ
ート、N−ナフチルイソブチルカルバメート、N−フェ
ニルキシリルカルバメート、N−ナフチル−1−ブチル
カルバメート、N−フェニル−1,2,3,4−テトラ
ヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチル−1−フェ
ニルエチルカルバメート、N−フェニル−1−ベンジル
−is。
ルデカヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチルデカ
ヒドロナフチルカルバメート、N−フェニルシクロへキ
シルカルバメート、N−フェニルブチルカルバメート、
N−ナフチルプロピルカルバメート、N−フェニル−(
メトキシ−プロピル−フェニル)カルバメート、N−へ
キシル−1−フェニルエチルカルバメート、N−へキシ
ル−1−ベンジルエチルカルバメート、N−ナフチルジ
クロルプロピルカルバメート、N−ナフチルプロピルカ
ルバメート、N−フェニル−(フロピルードリル)カル
バメート、N−フェニルメチルシクロヘキシルカルバメ
ート、N−ナフチルイソブチルカルバメート、N−フェ
ニルキシリルカルバメート、N−ナフチル−1−ブチル
カルバメート、N−フェニル−1,2,3,4−テトラ
ヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチル−1−フェ
ニルエチルカルバメート、N−フェニル−1−ベンジル
−is。
−プロピルカルバメート、N−フェニルジメチルシクロ
ヘキシルカルバメート、N−フェニルメチルシクロヘキ
シルカルバメ−)、lIJフェニル−3−オキソ−n−
7’チルカルバメート、N−フェニルジメチルシクロヘ
キシルカルバメート、N−フェニル−2−ナフチルエチ
ルカルバメート、N−フェニルトリルカルバメート、N
−フェニル(1−フェニル−1so 7’ロピル)カ
ルバメート、N−フェニルデセニルカルバメート、N−
フェニル(1−カルボキシル−is。
ヘキシルカルバメート、N−フェニルメチルシクロヘキ
シルカルバメ−)、lIJフェニル−3−オキソ−n−
7’チルカルバメート、N−フェニルジメチルシクロヘ
キシルカルバメート、N−フェニル−2−ナフチルエチ
ルカルバメート、N−フェニルトリルカルバメート、N
−フェニル(1−フェニル−1so 7’ロピル)カ
ルバメート、N−フェニルデセニルカルバメート、N−
フェニル(1−カルボキシル−is。
−ブチル)カルバメート、N−ナフチルプロピルカルバ
メート、N−フェニルヘブチルカルバメ − ト 。
メート、N−フェニルヘブチルカルバメ − ト 。
(5)一般式A−5
R100R2(A−5)
(式中、R1及びB2は炭素数6〜30の鎖状もしくは
環状のアルキル基若しくはアルケニル基、アリール基、
又はアラルキル基であり、それらの置換基はさらに他の
置換基、例えば、ヒドロキシル基、オキソ基、カルボキ
シル基、アルコキシル基などの含酸素基、アミノ基、ニ
トロ基などの含窒素基、メルカプト基、スルフィド基々
どの含イオウ基などを有していてもよい)で表わされる
ケトン化合物。このものの具体例としでは、例えば、次
のようなものを挙けることができる。
環状のアルキル基若しくはアルケニル基、アリール基、
又はアラルキル基であり、それらの置換基はさらに他の
置換基、例えば、ヒドロキシル基、オキソ基、カルボキ
シル基、アルコキシル基などの含酸素基、アミノ基、ニ
トロ基などの含窒素基、メルカプト基、スルフィド基々
どの含イオウ基などを有していてもよい)で表わされる
ケトン化合物。このものの具体例としでは、例えば、次
のようなものを挙けることができる。
シチジルケトン、デシルウンデシルケトン、ジウンデシ
ルケトン、ウンデシルドデシルケトン、ジドデシルケト
ン、ドデシルトリデカニルケトン、ジトリデカニルケト
ン、トリデカニルテトラデカニルケトン、ジトリデカニ
ルケトン、テトラデカニルペンタデカニルケトン、ジペ
ンタデカニルケトン、ペンタデカニルへキサデカニルケ
トン、ジオクタデカニルケトン、ヘキサデカニルへブタ
デカニルケトン、ジオクタデカニルケトン、ヘプタデカ
ニルオクタデカニルケトン、ジオクタデカニルケトン、
オクタデカニルノナデカニルケトン、ジトリデカニルケ
トン、シクロヘキシルデシルケトン、シクロヘキシルウ
ンデシルケトン、シクロヘキシルドデシルケトン、シク
ロヘキシルトリデカニルケトン、シクロへキシルテトラ
デカニルケトン、シクロヘキシルペンタデカニルケトン
、シクロヘキシルへキサデカニルケトン、シクロヘキシ
ルヘプタデカニルケトン、シクロヘキシルオクタテカニ
ルケトン、シクロへキシルノナデカニルケトン、フェニ
ルデシルケトン、フェニルウンデシルケトン、フェニル
ドテシルケトン、フェニルトリデカニルケトン、フェニ
ルテトラデカニルケトン、フェニルペンタデカニルケト
ン、フェニルヘキサデカニルケトン、フェニルへブタテ
力ニルケトン、フェニルオクタデカニルケトン、フェニ
ルノナデカニルケトン、ベンゾフェノン、チオキシベン
ゾイン、カルコン、4.4’−ジ−n−プロピル−ベン
ゾフェノン、4.4’’/ n−オクチルベンゾフェ
ノン、4−n−オクチル−41−n−ノニルベンゾフェ
ノン、4+4’ −n−7’シルベンゾフエノン。
ルケトン、ウンデシルドデシルケトン、ジドデシルケト
ン、ドデシルトリデカニルケトン、ジトリデカニルケト
ン、トリデカニルテトラデカニルケトン、ジトリデカニ
ルケトン、テトラデカニルペンタデカニルケトン、ジペ
ンタデカニルケトン、ペンタデカニルへキサデカニルケ
トン、ジオクタデカニルケトン、ヘキサデカニルへブタ
デカニルケトン、ジオクタデカニルケトン、ヘプタデカ
ニルオクタデカニルケトン、ジオクタデカニルケトン、
オクタデカニルノナデカニルケトン、ジトリデカニルケ
トン、シクロヘキシルデシルケトン、シクロヘキシルウ
ンデシルケトン、シクロヘキシルドデシルケトン、シク
ロヘキシルトリデカニルケトン、シクロへキシルテトラ
デカニルケトン、シクロヘキシルペンタデカニルケトン
、シクロヘキシルへキサデカニルケトン、シクロヘキシ
ルヘプタデカニルケトン、シクロヘキシルオクタテカニ
ルケトン、シクロへキシルノナデカニルケトン、フェニ
ルデシルケトン、フェニルウンデシルケトン、フェニル
ドテシルケトン、フェニルトリデカニルケトン、フェニ
ルテトラデカニルケトン、フェニルペンタデカニルケト
ン、フェニルヘキサデカニルケトン、フェニルへブタテ
力ニルケトン、フェニルオクタデカニルケトン、フェニ
ルノナデカニルケトン、ベンゾフェノン、チオキシベン
ゾイン、カルコン、4.4’−ジ−n−プロピル−ベン
ゾフェノン、4.4’’/ n−オクチルベンゾフェ
ノン、4−n−オクチル−41−n−ノニルベンゾフェ
ノン、4+4’ −n−7’シルベンゾフエノン。
(6) ポリアルキレングリコール
ポリアルキレングリコールとしては、分子量6000〜
200000のものの使用が好ましく、このものの具体
例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、
ブチレンオキシドなどのアルキレンオキシドの重合体、
例えば、ポリエチレンクリコール、ホリフロピレングリ
コール及び共重合体、例えば、ポリオキシエチレン−オ
キシプロピレンのブロックポリマーなどが包含される。
200000のものの使用が好ましく、このものの具体
例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、
ブチレンオキシドなどのアルキレンオキシドの重合体、
例えば、ポリエチレンクリコール、ホリフロピレングリ
コール及び共重合体、例えば、ポリオキシエチレン−オ
キシプロピレンのブロックポリマーなどが包含される。
(7)一般式A−7
(式中、R” + 83は炭素数2〜12のアルキル、
アラルキル、アリール基を表わし B2.B4は炭素数
2〜12のアルキル、アリール基を表わす)前記一般式
(A−7)の具体例としては、例えば、次のようなもの
が挙げられる。
アラルキル、アリール基を表わし B2.B4は炭素数
2〜12のアルキル、アリール基を表わす)前記一般式
(A−7)の具体例としては、例えば、次のようなもの
が挙げられる。
NrN’−ジフェニル−N m N’−ジエチル尿素、
N 、 N’−ジフェニル−N t N’−ジ−n−プ
ロピル尿素、N I N’−ジフェニル−N 、 N’
−ジ−イソプロピル尿素、N、N’−ジフェニル−ジ−
ロープチル尿素、N I N’−ジフェニル−N、N’
−ジー5ec−ブチル尿素、N 、 N’−ジフェニ
ル−N I N’−ジーtert−ブチル尿素、N 、
N’−ジフェニル−N、N’−−ジ−n−ペンチル尿
素、N + N’−ジフェニル−N+N’−ジ n−ヘ
キシル尿素、NtN’−ジフェニル−N + N’−ジ
−n−ヘプチル尿素、N、N’−ジフェニル−N +
NI−ジ−n−オクチル尿素、N + N’−ジフェニ
ル−N、N’−ジ−n−ノニル尿素、N 、 NI−ジ
フェニル−N 、 N’−ジ−n−デシル尿素、N 、
N’−ジフェニル−N 、 N’−ジフェニル−N
、 N’−ジ−n−バブシル尿素、NUN’−ジ(4−
メチルフェニル)−N、NI−ジ−n−プロピル尿素、
N、N’−ジ(4−エチルフェニル) −N、N’−ジ
ー1−ブチル尿素、N、Nl−ジ(4−メトキシフェニ
ル) N # 、pil−ジ−n−ヘキシル尿素、N
p N’−ジ(4−エトキシフェニル−N I N’
−ジ−n−プロピル尿素、N t N−’−ジ(4−ブ
チルフェニル)−N、NI−ジ−n−ヘキシル尿素、N
* N’−ジー(4−ヘキシルフェニル) N *
N’−ジ−n−ベヘニル尿素、N 、 N’−ジアリ
ル−N L N ’−ジーn−ヘキシル尿素、N 、
N’−ジアリル−N 、 N’−ジ−n−オクチル尿素
、N、N’−ジアリル−N、N’−ジ−n−デシル尿素
、N、N’ −ジアリル−N、N’−ジ−n−ドデシル
尿素、NIN’−ジフェニル−N、N’−ジアリル尿素
など。
N 、 N’−ジフェニル−N t N’−ジ−n−プ
ロピル尿素、N I N’−ジフェニル−N 、 N’
−ジ−イソプロピル尿素、N、N’−ジフェニル−ジ−
ロープチル尿素、N I N’−ジフェニル−N、N’
−ジー5ec−ブチル尿素、N 、 N’−ジフェニ
ル−N I N’−ジーtert−ブチル尿素、N 、
N’−ジフェニル−N、N’−−ジ−n−ペンチル尿
素、N + N’−ジフェニル−N+N’−ジ n−ヘ
キシル尿素、NtN’−ジフェニル−N + N’−ジ
−n−ヘプチル尿素、N、N’−ジフェニル−N +
NI−ジ−n−オクチル尿素、N + N’−ジフェニ
ル−N、N’−ジ−n−ノニル尿素、N 、 NI−ジ
フェニル−N 、 N’−ジ−n−デシル尿素、N 、
N’−ジフェニル−N 、 N’−ジフェニル−N
、 N’−ジ−n−バブシル尿素、NUN’−ジ(4−
メチルフェニル)−N、NI−ジ−n−プロピル尿素、
N、N’−ジ(4−エチルフェニル) −N、N’−ジ
ー1−ブチル尿素、N、Nl−ジ(4−メトキシフェニ
ル) N # 、pil−ジ−n−ヘキシル尿素、N
p N’−ジ(4−エトキシフェニル−N I N’
−ジ−n−プロピル尿素、N t N−’−ジ(4−ブ
チルフェニル)−N、NI−ジ−n−ヘキシル尿素、N
* N’−ジー(4−ヘキシルフェニル) N *
N’−ジ−n−ベヘニル尿素、N 、 N’−ジアリ
ル−N L N ’−ジーn−ヘキシル尿素、N 、
N’−ジアリル−N 、 N’−ジ−n−オクチル尿素
、N、N’−ジアリル−N、N’−ジ−n−デシル尿素
、N、N’ −ジアリル−N、N’−ジ−n−ドデシル
尿素、NIN’−ジフェニル−N、N’−ジアリル尿素
など。
(8)一般式A−8
R2−NI
で表わされるグアニジン誘導体。
前記一般式において、R1及びR2は炭素数5〜24、
好ましくは10〜20のアルキル又はアルケニル基、置
換又は非置換のフェニル基、置換又は非置換のシクロヘ
キシル基、あるいは置換又は非置換のモルホリノ基を表
わす。この場合、フェニル基、シクロヘキシル基及びモ
ルホリノ基に結合していてもよい置換基としては、低級
アルキル基、好ましくはメチル基が挙げられ、この置換
基の数は通常1〜2個である。このようなグアニジン誘
導体としては、例えば、193−N −シヘンタデシル
グアニジン、lt3 N−ジヘキサデシルグアニジン
、1s3−N−ジヘプタデシルグアニジン、1t3−N
−オクタデシルグアニジン、1*3N−ジノナンデシル
グアニジン、1t3−N−ジフェニルグアニジン、11
3−N−シトデセニルグアニジン、1t3−N−ジヘキ
サデセニルグアニジン、113−N−ジエイコセニルグ
アニジン、1,3−N−ジフェニルグアニジン、t#a
N−ジトリルグアニジン、1.3−N−ジトリルグ
アニジン、1,3−N−ジシクロへキシルグアニジン、
1 + 3 N−シ(メチルシクロヘキシル)グアニ
ジン、113−N−ジモルホリノグアニジン、1.3−
N−ジ(メチルモルホリノ)グアニジン、1t3−N−
ジ(ジメチルモルホリノ)グアニジンなどが挙げられる
。
好ましくは10〜20のアルキル又はアルケニル基、置
換又は非置換のフェニル基、置換又は非置換のシクロヘ
キシル基、あるいは置換又は非置換のモルホリノ基を表
わす。この場合、フェニル基、シクロヘキシル基及びモ
ルホリノ基に結合していてもよい置換基としては、低級
アルキル基、好ましくはメチル基が挙げられ、この置換
基の数は通常1〜2個である。このようなグアニジン誘
導体としては、例えば、193−N −シヘンタデシル
グアニジン、lt3 N−ジヘキサデシルグアニジン
、1s3−N−ジヘプタデシルグアニジン、1t3−N
−オクタデシルグアニジン、1*3N−ジノナンデシル
グアニジン、1t3−N−ジフェニルグアニジン、11
3−N−シトデセニルグアニジン、1t3−N−ジヘキ
サデセニルグアニジン、113−N−ジエイコセニルグ
アニジン、1,3−N−ジフェニルグアニジン、t#a
N−ジトリルグアニジン、1.3−N−ジトリルグ
アニジン、1,3−N−ジシクロへキシルグアニジン、
1 + 3 N−シ(メチルシクロヘキシル)グアニ
ジン、113−N−ジモルホリノグアニジン、1.3−
N−ジ(メチルモルホリノ)グアニジン、1t3−N−
ジ(ジメチルモルホリノ)グアニジンなどが挙げられる
。
(9)一般式A−9
A r+0OO−Y)n(A−9)
(式中、Arはフェニル基、ナフチル基などの芳香族基
であり、この芳香族基はアルキル基、アラルキル基、ア
ルコキシ基、了り−ルオキン基、アシル基、アロイル基
、)・ロゲンなどの置換基を有していてもよく、Yはア
ルキル基、又はフェニル基であり、これらのアルキル基
又はフェニル基も前記したような各種置換基を有するこ
とができる) で表わされるアロイルオキシ化合物。この化合物の具体
例としては、例えば、以下に示す構造のものが挙げられ
る。
であり、この芳香族基はアルキル基、アラルキル基、ア
ルコキシ基、了り−ルオキン基、アシル基、アロイル基
、)・ロゲンなどの置換基を有していてもよく、Yはア
ルキル基、又はフェニル基であり、これらのアルキル基
又はフェニル基も前記したような各種置換基を有するこ
とができる) で表わされるアロイルオキシ化合物。この化合物の具体
例としては、例えば、以下に示す構造のものが挙げられ
る。
OH3cHs
t
UI!
本発明で発色助剤として用いる前記化合物は、いずれも
熱可溶融性でかつ水難溶性ないしは水不溶性であり、粒
径0.1〜10μの微粒子状で用いられる。この発色助
剤は、ジアゾ化合物1重量部に対し、0.1〜20重量
部、好ましくは1〜10重量部の割合で用いられる。
熱可溶融性でかつ水難溶性ないしは水不溶性であり、粒
径0.1〜10μの微粒子状で用いられる。この発色助
剤は、ジアゾ化合物1重量部に対し、0.1〜20重量
部、好ましくは1〜10重量部の割合で用いられる。
本発明においては、他の発色助剤として、加熱アルカリ
発生剤、即ち、常温では中性〜酸性であり、加熱時分解
してアルカリを発生するものを用いることができ、この
ようなものとしては、例えば、尿素、チオ尿素、グアニ
ジン塩等の含窒素化合物、トリクロル酢酸ナトリウム、
トリニトロ安息香酸ナトリウム等の熱分解性の酸のアル
カリ又はアルカリ土類金属塩等が挙げられる。
発生剤、即ち、常温では中性〜酸性であり、加熱時分解
してアルカリを発生するものを用いることができ、この
ようなものとしては、例えば、尿素、チオ尿素、グアニ
ジン塩等の含窒素化合物、トリクロル酢酸ナトリウム、
トリニトロ安息香酸ナトリウム等の熱分解性の酸のアル
カリ又はアルカリ土類金属塩等が挙げられる。
本発明では以上の素材の他に、通常の熱現像型ジアゾ複
写材料に適用されている各種添加剤、例えば、保存性向
上剤としてナフタレン−モノスルホン酸ナトリウム、ナ
フタレ/−ジスルホン酸ナトリウム、ナフタレン−トリ
スルホン酸ナトリウム、スルホサリチル酸、硫酸カドミ
ウム、硫酸マグネシウム、塩化カドミウム、塩化亜鉛な
どを使用できる。また酸化防止剤としてチオ尿素、尿素
など、溶解削としてカフエイく、テオフィリンなど、竺
安定剤としてクエン酸、酒石酸、硫酸、シュウ酸、ホウ
酸1.リン酸、ピロリン酸などを用い、その他にサポニ
ンを少量添加することができる。
写材料に適用されている各種添加剤、例えば、保存性向
上剤としてナフタレン−モノスルホン酸ナトリウム、ナ
フタレ/−ジスルホン酸ナトリウム、ナフタレン−トリ
スルホン酸ナトリウム、スルホサリチル酸、硫酸カドミ
ウム、硫酸マグネシウム、塩化カドミウム、塩化亜鉛な
どを使用できる。また酸化防止剤としてチオ尿素、尿素
など、溶解削としてカフエイく、テオフィリンなど、竺
安定剤としてクエン酸、酒石酸、硫酸、シュウ酸、ホウ
酸1.リン酸、ピロリン酸などを用い、その他にサポニ
ンを少量添加することができる。
またバインダーとして澱粉、カゼイン、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸誘導体等の高
分子物質を使用できる。更に画像濃度向上剤としてシリ
カ、スターチ、クレー、樹脂等の無機又は有機微粒子が
使用できる。
、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸誘導体等の高
分子物質を使用できる。更に画像濃度向上剤としてシリ
カ、スターチ、クレー、樹脂等の無機又は有機微粒子が
使用できる。
本発明のジアゾ複写材料を作るにはジアゾ化合物、カッ
プリング成分、発色助剤(但しカップリング成分はカプ
セル化したもの)、及びその他の添加物を溶解又は分散
した水性液を紙、フィルム等の支持体上に通常の塗布法
によシ塗布乾燥して付着量2.5〜15g/−の感光層
を設ければよい。また別の方法としてカップリング成分
(カプセル化し〜 たもの、及び添加物の一部(特に画像濃度向上剤及びバ
インダー)を溶解又は分散した水性液を支持体上に塗布
乾燥して付着量2〜10g/rn”のプレコート層を設
け、更にその上にジアゾ化合物及びその他の添加物を溶
解又は分散した水性液を塗布乾燥して付着量0.5〜5
g/−の感光層を設けて積層型にしてもよい。いずれに
してもジアゾ化合物とカップリング成分(カプセル化し
ないものを基準)と発色助剤との比率は1 : (0,
1〜10) : (0,1〜20)(重量)が適当であ
る。
プリング成分、発色助剤(但しカップリング成分はカプ
セル化したもの)、及びその他の添加物を溶解又は分散
した水性液を紙、フィルム等の支持体上に通常の塗布法
によシ塗布乾燥して付着量2.5〜15g/−の感光層
を設ければよい。また別の方法としてカップリング成分
(カプセル化し〜 たもの、及び添加物の一部(特に画像濃度向上剤及びバ
インダー)を溶解又は分散した水性液を支持体上に塗布
乾燥して付着量2〜10g/rn”のプレコート層を設
け、更にその上にジアゾ化合物及びその他の添加物を溶
解又は分散した水性液を塗布乾燥して付着量0.5〜5
g/−の感光層を設けて積層型にしてもよい。いずれに
してもジアゾ化合物とカップリング成分(カプセル化し
ないものを基準)と発色助剤との比率は1 : (0,
1〜10) : (0,1〜20)(重量)が適当であ
る。
本発明の熱現像型ジアゾ複写材料に画像を形成するには
2通゛りの方法がある。一つは一般のジアゾ複写材料と
同様にこの熱現像型ジアゾ複写材料を螢光灯や水銀灯を
用いて画像状露光後、赤外線、熱ローラ−、高周波等で
90〜130℃程度に加熱する方法であシ、他の一つは
一般の感熱記録材料と同様に前記熱現像型ジアゾ複写材
料に熱ペン、熱ヘッド等を用いて画像状に前記温度に加
熱する方法又は赤外光で画像上に露光兼加熱する方法で
ある。なおいずれの方法もその後、一般のジアゾ複写材
料と同様に螢光灯や水銀灯で紫外線を全面照射すること
により非画像部の未反応ジアゾ化合物を分解し、定着す
ることができる。
2通゛りの方法がある。一つは一般のジアゾ複写材料と
同様にこの熱現像型ジアゾ複写材料を螢光灯や水銀灯を
用いて画像状露光後、赤外線、熱ローラ−、高周波等で
90〜130℃程度に加熱する方法であシ、他の一つは
一般の感熱記録材料と同様に前記熱現像型ジアゾ複写材
料に熱ペン、熱ヘッド等を用いて画像状に前記温度に加
熱する方法又は赤外光で画像上に露光兼加熱する方法で
ある。なおいずれの方法もその後、一般のジアゾ複写材
料と同様に螢光灯や水銀灯で紫外線を全面照射すること
により非画像部の未反応ジアゾ化合物を分解し、定着す
ることができる。
以下に実施例を示す。
実施例1
酢酸セルロース20gを塩化エチレン200 ccに溶
解し、溶解後、ナフトールAs 20gを良く分散さ
せる。次に19bゼラチン水溶液800ccを用意して
40℃に保ち、ケミスターチで1*400 rpm回転
数条件下で攪拌しながら前記分散液を添加する。
解し、溶解後、ナフトールAs 20gを良く分散さ
せる。次に19bゼラチン水溶液800ccを用意して
40℃に保ち、ケミスターチで1*400 rpm回転
数条件下で攪拌しながら前記分散液を添加する。
この温度で攪拌を1時間続け、殆んどの塩化エチレン゛
を蒸発除去する。更に減圧下、室温で塩化エチレ7”e
!%=力jなくなるまで除去し、−得られたカプセルを
25℃、24時間放置して壁膜を硬化させる。なお、カ
プセル壁膜の外側表面に付着残存するゼラチンは壁膜硬
化カプセルを40℃の温水で数回洗浄すると除去出来る
。こうして、粒径5〜20μ、カップラー分40重量%
のカップラー(ナフトールAsのカプセル化物)36g
を得た。
を蒸発除去する。更に減圧下、室温で塩化エチレ7”e
!%=力jなくなるまで除去し、−得られたカプセルを
25℃、24時間放置して壁膜を硬化させる。なお、カ
プセル壁膜の外側表面に付着残存するゼラチンは壁膜硬
化カプセルを40℃の温水で数回洗浄すると除去出来る
。こうして、粒径5〜20μ、カップラー分40重量%
のカップラー(ナフトールAsのカプセル化物)36g
を得た。
次にこうして出来たナフトールA、!“の酢酸セルロー
スによるカプセル化物20dをメタクリル樹脂の10チ
ベシゼン溶液に200 ccに良く分散させる。分散液
は1チボバール水溶液5ooecに滴下して加えられ、
0/W型エマルジヨンとシ、゛−ケミスターラにて1,
400 r−回転数条件下、この系にn −ヘキサン9
00ccをゆつぐが加えてゆき、ナフトールASの酢酸
セルロースに′よるカプセル化物表面にメタクリル樹脂
を沈殿、”沈着させる。このようにして得られた2重カ
プセル化物を口過し、n−ヘキサンにて数回洗浄し、乾
燥する。こうして粒径20〜30μ、カップラー分30
重量%のカプセル化カップラー(124gを得た。
スによるカプセル化物20dをメタクリル樹脂の10チ
ベシゼン溶液に200 ccに良く分散させる。分散液
は1チボバール水溶液5ooecに滴下して加えられ、
0/W型エマルジヨンとシ、゛−ケミスターラにて1,
400 r−回転数条件下、この系にn −ヘキサン9
00ccをゆつぐが加えてゆき、ナフトールASの酢酸
セルロースに′よるカプセル化物表面にメタクリル樹脂
を沈殿、”沈着させる。このようにして得られた2重カ
プセル化物を口過し、n−ヘキサンにて数回洗浄し、乾
燥する。こうして粒径20〜30μ、カップラー分30
重量%のカプセル化カップラー(124gを得た。
次に、
カプセル化カップラー(06g
シリカ微粒子(粒径1〜5μ) 3g
ポリビニルアルコールの10チ水溶液 10gス
テアリン酸アミド 3g水
100cc
よりなる混合物をホモジナイザーで分散してプレコート
液とし、これをジアゾ複写紙用原紙の表面にワイヤーバ
ーを用いて塗布乾燥して付着量4g/m2のプレコート
層を形成した後、その上に更にチオ尿素
1gイソプロピルアルコール
3ccクエン酸
1gサポニン 1.1
g水 10
0cc燥し、付着量1g/m2の感光層を設けて熱現像
型ジアゾ複写材料(サンプルA−1)を作成した。
ポリビニルアルコールの10チ水溶液 10gス
テアリン酸アミド 3g水
100cc
よりなる混合物をホモジナイザーで分散してプレコート
液とし、これをジアゾ複写紙用原紙の表面にワイヤーバ
ーを用いて塗布乾燥して付着量4g/m2のプレコート
層を形成した後、その上に更にチオ尿素
1gイソプロピルアルコール
3ccクエン酸
1gサポニン 1.1
g水 10
0cc燥し、付着量1g/m2の感光層を設けて熱現像
型ジアゾ複写材料(サンプルA−1)を作成した。
一方、比較のため、プレコート液中のカプセル化カップ
ラー(■) 6 gをナフトールAs微粉末(粒径1〜
10μ)2gに代えた他は同様にして熱現像型ジアゾ複
写材料(サンプルB−1)を作成した。
ラー(■) 6 gをナフトールAs微粉末(粒径1〜
10μ)2gに代えた他は同様にして熱現像型ジアゾ複
写材料(サンプルB−1)を作成した。
またプレコート液からステアリン酸アミドを除いた他は
同様にして熱現像型ジアゾ複写材料(サンプルC−1)
を作成した。
同様にして熱現像型ジアゾ複写材料(サンプルC−1)
を作成した。
次に以上の各サンプルに原稿を重ねて紫外線露光し、つ
いで赤外線ヒーターを用いて110℃で3秒間加熱して
青色画像を形成し、その濃度を測定した。また生保存性
を試験するため、各サンプルを50℃、50%ItHの
デシケータ−中に24時間放置して強制劣化させた後、
取出し、更に螢光灯を全面照射して感光層中のジアゾ化
合物を全て分解し、地肌濃度を測定し、これを、強制劣
化しないで同様に処理して測定した地肌濃度と比較した
。
いで赤外線ヒーターを用いて110℃で3秒間加熱して
青色画像を形成し、その濃度を測定した。また生保存性
を試験するため、各サンプルを50℃、50%ItHの
デシケータ−中に24時間放置して強制劣化させた後、
取出し、更に螢光灯を全面照射して感光層中のジアゾ化
合物を全て分解し、地肌濃度を測定し、これを、強制劣
化しないで同様に処理して測定した地肌濃度と比較した
。
なお画像濃度及び地肌濃度はマクベス濃度計によるもの
である。その結果は表−1の通シである。
である。その結果は表−1の通シである。
表 −1−
この表から判るように本発明品は画像濃度及び生保存性
共に優れている。
共に優れている。
実施例2
実施例1に於いて、酢酸セルロースを塩化ビニルに、ま
た、ナフトールAsをナフトールAs−Dに置き換え、
更にメタクリル樹脂をポリスチレンに置き換えた他は全
く同様にしてカップラーの2重カプセル化物(II)を
得た。更に実施例1と同様にして、ナフトール人8−D
に関する熱現像型ジアゾ複写材料’A 2tB−2e
a 2を得、同様の試験を行なった。その結果は表−
2の通りである。
た、ナフトールAsをナフトールAs−Dに置き換え、
更にメタクリル樹脂をポリスチレンに置き換えた他は全
く同様にしてカップラーの2重カプセル化物(II)を
得た。更に実施例1と同様にして、ナフトール人8−D
に関する熱現像型ジアゾ複写材料’A 2tB−2e
a 2を得、同様の試験を行なった。その結果は表−
2の通りである。
表 −2
表−2から判るように、本発明品は画像濃度及び生保存
性に優れている。
性に優れている。
実施例3
フロログルシン400g(粒径2〜5μ)を90℃の温
風を送風させたスピラーコータ−(直径40y++、高
さ1003;開田精工■)内で浮遊させながら、エチル
セルロース200gを塩化メチレン2Kfに溶解した溶
液をカラム上部からノズルより噴霧した(吐出圧2.5
Kf/rn”)。40分後、前記樹脂で被覆されたカッ
プリング成分が得られた(なお、フロログルシンとエチ
ルセルロースの比は2:1である。) 次に、前記のようにして得たフロログルシンのカプセル
化物15gをスチレンメチルメタアクリレート共重合樹
脂の101%n−ヘキサン溶fft200 gに良く分
散させる。次に、1%ゼラチン水溶液800 cc中に
この分散液を加えてゆき、ケミスターラにて攪拌を続け
、O/W型エマルジョンとした。
風を送風させたスピラーコータ−(直径40y++、高
さ1003;開田精工■)内で浮遊させながら、エチル
セルロース200gを塩化メチレン2Kfに溶解した溶
液をカラム上部からノズルより噴霧した(吐出圧2.5
Kf/rn”)。40分後、前記樹脂で被覆されたカッ
プリング成分が得られた(なお、フロログルシンとエチ
ルセルロースの比は2:1である。) 次に、前記のようにして得たフロログルシンのカプセル
化物15gをスチレンメチルメタアクリレート共重合樹
脂の101%n−ヘキサン溶fft200 gに良く分
散させる。次に、1%ゼラチン水溶液800 cc中に
この分散液を加えてゆき、ケミスターラにて攪拌を続け
、O/W型エマルジョンとした。
ケミスターラの回転数を1.50 Orpmとし、徐々
に系を加温し、40〜45℃に保ち、4〜5時間攪拌を
続けてn−ヘキサンを蒸発・除去する。このようにして
得たフロログルシンの2重カプセル化物を口過、水洗し
、冷風乾燥を行ない、粒径10〜20μ、カップラー分
30重量−のカプセル化カップラー■30gを得た。
に系を加温し、40〜45℃に保ち、4〜5時間攪拌を
続けてn−ヘキサンを蒸発・除去する。このようにして
得たフロログルシンの2重カプセル化物を口過、水洗し
、冷風乾燥を行ない、粒径10〜20μ、カップラー分
30重量−のカプセル化カップラー■30gを得た。
以下、実施例1.2と同様な方法にてフロログルシンに
関する熱現像型ジアゾ複写材料A−3゜B−3,0−3
を得、同様の試験を行なった。その結果は表−3の通り
である。
関する熱現像型ジアゾ複写材料A−3゜B−3,0−3
を得、同様の試験を行なった。その結果は表−3の通り
である。
表−3
表−3から判るように本発明品は画像濃度をおとさずに
、生保存性に大きな効果を有することを確認した。
、生保存性に大きな効果を有することを確認した。
特許出願人 株式会社リコー
代理人弁理士 池浦敏明
Claims (1)
- (1) ジアゾ化合物、カップリング成分及び融点5
0〜150℃の熱可溶融性発色助剤を主成分とする感光
層を有する熱現像型ジアゾ複写材料において、該カップ
リング成分が、熱軟化温度50〜150℃の疎水性高分
子物質で2重にカプセル化されていることを特徴とする
熱現像型複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57049400A JPS58166345A (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 熱現像型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57049400A JPS58166345A (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 熱現像型ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166345A true JPS58166345A (ja) | 1983-10-01 |
Family
ID=12829987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57049400A Pending JPS58166345A (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 熱現像型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58166345A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61154887A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS61219688A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料の製造方法 |
| JPS62142686A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
| JPS6345084A (ja) * | 1986-04-07 | 1988-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色感熱記録材料 |
| JPS6490788A (en) * | 1987-10-02 | 1989-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Thermal recording material |
| JPH0199873A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| US6922890B2 (en) * | 2002-11-15 | 2005-08-02 | International Business Machines Corporation | Planarization process for thin film surfaces |
-
1982
- 1982-03-27 JP JP57049400A patent/JPS58166345A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61154887A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS61219688A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料の製造方法 |
| JPS62142686A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
| JPS6345084A (ja) * | 1986-04-07 | 1988-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色感熱記録材料 |
| JPS6490788A (en) * | 1987-10-02 | 1989-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Thermal recording material |
| JPH0199873A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| US6922890B2 (en) * | 2002-11-15 | 2005-08-02 | International Business Machines Corporation | Planarization process for thin film surfaces |
| US7263763B2 (en) | 2002-11-15 | 2007-09-04 | International Business Machines Corporation | Planarization method for a structure having a first surface for etching and a second surface |
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